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1. 发明专利

TW200411036A 超微粒子分散研磨方法审中-公开
公开(公告)号：TW200411036A
公开(公告)日：2004-07-01
申请号：TW091137897
申请日：2002-12-30
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：徐敬添 HSU, CHING-TIEN , 張義和 CHANG, YIH HER , 鄒淑貞 TSOU, SHU-CHEN , 簡維誼 CHIEN,WEI-YI , 蔡書雅 , 蕭世明 , 陳守一
IPC分类号： C09K
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J13/0086 , B02C17/16 , B02C17/20 , C09B67/0002 , C09D17/001
摘要：本發明係有關於一種超微粒子分散研磨方法，主要包括以下步驟：首先將一基質、分散劑、與分散媒質混合得一混合物；隨之依序提供一經預處理之研磨介質，並將該研磨介質加入該混合物中；其中該研磨介質為平均粒徑小於100μm之玻璃球；再研磨該混合物；以及將該研磨介質自該分散液中分離。以本發明之分散研磨方法製作之色膏亦一併揭露。
简体摘要：本发明系有关于一种超微粒子分散研磨方法，主要包括以下步骤：首先将一基质、分散剂、与分散媒质混合得一混合物；随之依序提供一经预处理之研磨介质，并将该研磨介质加入该混合物中；其中该研磨介质为平均粒径小于100μm之玻璃球；再研磨该混合物；以及将该研磨介质自该分散液中分离。以本发明之分散研磨方法制作之色膏亦一并揭露。

2. 发明专利

TW200410751A 超微細分散液的製造方法有权
简体标题：超微细分散液的制造方法
公开(公告)号：TW200410751A
公开(公告)日：2004-07-01
申请号：TW091137896
申请日：2002-12-30
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：簡維誼 CHIEN,WEI-YI , 徐敬添 HSU, CHING-TIEN , 蔡書雅 , 鄒淑貞 TSOU, SHU-CHEN
IPC分类号： B01F , C09K
CPC分类号： B01F13/1041 , B01F3/1207 , B01F3/1221 , B01F2013/1086 , B01F2215/005 , B01F2215/0431 , B01F2215/044
摘要：本發明係有關於一種超微細分散液的製造方法，主要包括以下步驟：首先將至少一分散劑溶於一液體載體中，同時加入一基質攪拌均勻以得一混合液；其中該分散劑之平均HLB(親疏平衡)值與該基質之HLB值之差值小於或等於3，且該基質之重量百分比為該混合液之0.1％至70％之間，該分散劑之重量百分比為該混合液之0.1％至30％之間；接著將該混合液與一研磨介質導入一研磨設備中進行研磨以得一分散液，並研磨至該分散液內之該基質之粒徑介於10nm至100nm之間；其中該研磨介質之粒徑介於100μm至400μm之間；最後將該分散液中之該研磨介質分離。
简体摘要：本发明系有关于一种超微细分散液的制造方法，主要包括以下步骤：首先将至少一分散剂溶于一液体载体中，同时加入一基质搅拌均匀以得一混合液；其中该分散剂之平均HLB(亲疏平衡)值与该基质之HLB值之差值小于或等于3，且该基质之重量百分比为该混合液之0.1％至70％之间，该分散剂之重量百分比为该混合液之0.1％至30％之间；接着将该混合液与一研磨介质导入一研磨设备中进行研磨以得一分散液，并研磨至该分散液内之该基质之粒径介于10nm至100nm之间；其中该研磨介质之粒径介于100μm至400μm之间；最后将该分散液中之该研磨介质分离。

3. 发明专利

TWI448422B 奈米碳管粉體與其形成方法、複合材料之形成方法有权
简体标题：奈米碳管粉体与其形成方法、复合材料之形成方法
公开(公告)号：TWI448422B
公开(公告)日：2014-08-11
申请号：TW100132976
申请日：2011-09-14
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：蕭安恩 , HSIAO, AN EN , 張信貞 , CHANG, SHINN JEN , 蔡書雅 , TSAI, SHU YA , 徐美雯 , HSU, MEI WEN
IPC分类号： C01B31/02 , C08J3/12 , B29C70/58 , C08F20/10
CPC分类号： C08L23/02 , B82Y30/00 , C08F293/00 , C08J3/205 , C08J5/005 , C08J2333/06 , C08K3/041 , C08K7/24 , C08K2201/016 , C08L23/06

4. 发明专利

TW576868B 超微粒子分散研磨方法有权
公开(公告)号：TW576868B
公开(公告)日：2004-02-21
申请号：TW091137897
申请日：2002-12-30
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：徐敬添 HSU, CHING-TIEN , 張義和 CHANG, YIH HER , 鄒淑貞 TSOU, SHU-CHEN , 簡維誼 CHIEN,WEI-YI , 蔡書雅 , 蕭世明 , 陳守一
IPC分类号： C09K
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J13/0086 , B02C17/16 , B02C17/20 , C09B67/0002 , C09D17/001
摘要：本發明係有關於一種超微粒子分散研磨方法，主要包括以下步驟：首先將一基質、分散劑、與分散媒質混合得一混合物；隨之依序提供一經預處理之研磨介質，並將該研磨介質加入該混合物中；其中該研磨介質為平均粒徑小於100μm之玻璃球；再研磨該混合物；以及將該研磨介質自該分散液中分離。
以本發明之分散研磨方法製作之色膏亦一併揭露。
简体摘要：本发明系有关于一种超微粒子分散研磨方法，主要包括以下步骤：首先将一基质、分散剂、与分散媒质混合得一混合物；随之依序提供一经预处理之研磨介质，并将该研磨介质加入该混合物中；其中该研磨介质为平均粒径小于100μm之玻璃球；再研磨该混合物；以及将该研磨介质自该分散液中分离。以本发明之分散研磨方法制作之色膏亦一并揭露。

5. 发明专利

TW201716467A 聚合物與分散液审中-公开
简体标题：聚合物与分散液
公开(公告)号：TW201716467A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW104136454
申请日：2015-11-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張嘉文 , CHANG, CHA WEN , 黃清茂 , HUANG, CHING MAO , 張信貞 , CHANG, SHINN JEN , 陳佑蕙 , CHEN, YU HUI , 鄧宛容 , TENG, WAN JUNG , 蔡書雅 , TSAI, SHU YA , 陳貞伃 , CHEN, JEN YU
IPC分类号： C08G73/02 , B01F17/52
CPC分类号： B01F17/005 , B01F17/0007 , C08G73/024 , C09K3/00
摘要：本揭露提供之聚合物，具有式1或式2之結構：其中R1係C2-18之烷撐基或C6-18之芳撐基；R2係C1-18之烷基；R3係式3之官能基：。X1、X2、X3、X4、X5、及X6各自獨立，係H或甲基；p、q、及r各自獨立，係1至60之整數；R4係-C2H4-、-C3H6-、、、、或；以及m與n各自獨立，係0至50之整數，且m+n≠0。
简体摘要：本揭露提供之聚合物，具有式1或式2之结构：其中R1系C2-18之烷撑基或C6-18之芳撑基；R2系C1-18之烷基；R3系式3之官能基：。X1、X2、X3、X4、X5、及X6各自独立，系H或甲基；p、q、及r各自独立，系1至60之整数；R4系-C2H4-、-C3H6-、、、、或；以及m与n各自独立，系0至50之整数，且m+n≠0。

6. 发明专利

TWI548673B 聚合物與分散液有权
简体标题：聚合物与分散液
公开(公告)号：TWI548673B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW104136454
申请日：2015-11-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張嘉文 , CHANG, CHA WEN , 黃清茂 , HUANG, CHING MAO , 張信貞 , CHANG, SHINN JEN , 陳佑蕙 , CHEN, YU HUI , 鄧宛容 , TENG, WAN JUNG , 蔡書雅 , TSAI, SHU YA , 陳貞伃 , CHEN, JEN YU
IPC分类号： C08G73/02 , B01F17/52
CPC分类号： B01F17/005 , B01F17/0007 , C08G73/024 , C09K3/00

7. 发明专利

TW201311549A 奈米碳管粉體與其形成方法、複合材料之形成方法审中-公开
简体标题：奈米碳管粉体与其形成方法、复合材料之形成方法
公开(公告)号：TW201311549A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100132976
申请日：2011-09-14
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：蕭安恩 , HSIAO, AN EN , 張信貞 , CHANG, SHINN JEN , 蔡書雅 , TSAI, SHU YA , 徐美雯 , HSU, MEI WEN
IPC分类号： C01B31/02 , C08J3/12 , B29C70/58 , C08F20/10
CPC分类号： C08L23/02 , B82Y30/00 , C08F293/00 , C08J3/205 , C08J5/005 , C08J2333/06 , C08K3/041 , C08K7/24 , C08K2201/016 , C08L23/06
摘要：本發明提供之奈米碳管粉體，包括：奈米碳管與分散劑均勻混合，且奈米碳管與分散劑之重量比介於30:70至90:10之間。奈米碳管之管徑介於10nm至100nm之間，且其長徑比介於100:1至5000:1之間。分散劑係由溶媒鏈段A與親碳基團B聚合而成的交錯共聚物、嵌段共聚物、或隨機共聚物。上述奈米碳管粉體可與熱塑性塑料混練形成複合材料，其中奈米碳管與複合材料之重量比介於0.5:100至50:100之間。
简体摘要：本发明提供之奈米碳管粉体，包括：奈米碳管与分散剂均匀混合，且奈米碳管与分散剂之重量比介于30:70至90:10之间。奈米碳管之管径介于10nm至100nm之间，且其长径比介于100:1至5000:1之间。分散剂系由溶媒链段A与亲碳基团B聚合而成的交错共聚物、嵌段共聚物、或随机共聚物。上述奈米碳管粉体可与热塑性塑料混练形成复合材料，其中奈米碳管与复合材料之重量比介于0.5:100至50:100之间。

8. 发明专利

TW553767B 超微細分散液的製造方法有权
简体标题：超微细分散液的制造方法
公开(公告)号：TW553767B
公开(公告)日：2003-09-21
申请号：TW091137896
申请日：2002-12-30
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：鄒淑貞 , 蔡書雅 , 簡維誼 , 徐敬添
IPC分类号： B01F , C09K
CPC分类号： B01F13/1041 , B01F3/1207 , B01F3/1221 , B01F2013/1086 , B01F2215/005 , B01F2215/0431 , B01F2215/044
摘要：本發明係有關於一種超微細分散液的製造方法，主要包括以下步驟：首先將至少一分散劑溶於一液體載體中，同時加入一基質攪拌均勻以得一混合液；其中該分散劑之平均 HLB(親疏平衡)值與該基質之HLB值之差值小於或等於3，且該基質之重量百分比為該混合液之0.1%至70%之間，該分散劑之重量百分比為該混合液之0.1%至30%之間；接著將該混合液與一研磨介質導入一研磨設備中進行研磨以得一分散液，並研磨至該分散液內之該基質之粒徑介於10nm至100 nm之間；其中該研磨介質之粒徑介於100μm至400μm之間；最後將該分散液中之該研磨介質分離。
简体摘要：本发明系有关于一种超微细分散液的制造方法，主要包括以下步骤：首先将至少一分散剂溶于一液体载体中，同时加入一基质搅拌均匀以得一混合液；其中该分散剂之平均 HLB(亲疏平衡)值与该基质之HLB值之差值小于或等于3，且该基质之重量百分比为该混合液之0.1%至70%之间，该分散剂之重量百分比为该混合液之0.1%至30%之间；接着将该混合液与一研磨介质导入一研磨设备中进行研磨以得一分散液，并研磨至该分散液内之该基质之粒径介于10nm至100 nm之间；其中该研磨介质之粒径介于100μm至400μm之间；最后将该分散液中之该研磨介质分离。

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