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1. 发明专利

TW202021707A 雷射刻印製程审中-公开
简体标题：激光刻印制程
公开(公告)号：TW202021707A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW107144645
申请日：2018-12-11
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：李姿儀 , LI, ZIH-YI , 楊映暉 , YANG, YING-HUI , 曹宏熙 , TSAU, HONG-XI , 林盈佐 , LIN, YING-TSO , 陳智禮 , CHEN, CHIH-LI
IPC分类号： B23K26/32 , B23K26/50
摘要：一種雷射刻印製程，其步驟包括如下：提供雷射光源，且此雷射光源適於發出雷射光束。提供目標層，目標層具有彼此相對的第一表面以及第二表面，其中目標層對於雷射光束的吸收率小於等於1%。設置犧牲層於目標層上，且犧牲層與第一表面與第二表面的其中之一者接觸，其中犧牲層對於雷射光束的吸收率大於等於5%，且犧牲層的汽化溫度大於目標層的熔點溫度。開啟雷射光源，發出雷射光束並使雷射光束沿著一行進路徑照射犧牲層，以將在行進路徑上的犧牲層汽化而將一圖案刻印至目標層上，在照射的過程中雷射光束的平均功率大於15瓦特。
简体摘要：一种激光刻印制程，其步骤包括如下：提供激光光源，且此激光光源适于发出激光光束。提供目标层，目标层具有彼此相对的第一表面以及第二表面，其中目标层对于激光光束的吸收率小于等于1%。设置牺牲层于目标层上，且牺牲层与第一表面与第二表面的其中之一者接触，其中牺牲层对于激光光束的吸收率大于等于5%，且牺牲层的汽化温度大于目标层的熔点温度。打开激光光源，发出激光光束并使激光光束沿着一行进路径照射牺牲层，以将在行进路径上的牺牲层汽化而将一图案刻印至目标层上，在照射的过程中激光光束的平均功率大于15瓦特。

2. 发明专利

TW201919293A 高功率雷射系統审中-公开
简体标题：高功率激光系统
公开(公告)号：TW201919293A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106138772
申请日：2017-11-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH TING , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 李姿儀 , LI, ZIH YI
IPC分类号： H01S3/067 , H01S3/091 , H01S3/1055 , G02B6/02
摘要：本發明為一種高功率雷射系統，包括：用以輸出泵浦光能量的泵浦；用以吸收該泵浦光能量並輸出雷射訊號的增益光纖；連接於該泵浦且用以將泵浦光能量導入該增益光纖中的光耦合器；結合於該增益光纖且一端耦接該光耦合器的第一光纖光柵；結合於該增益光纖且用以反射該增益光纖未完全吸收之該泵浦光能量的第二光纖光柵；以及結合於該增益光纖且與該第一光纖光柵構成一共振腔的第三光纖光柵。本發明利用第二光纖光柵反射泵浦光能量，進而減少能量之損耗。
简体摘要：本发明为一种高功率激光系统，包括：用以输出泵浦光能量的泵浦；用以吸收该泵浦光能量并输出激光信号的增益光纤；连接于该泵浦且用以将泵浦光能量导入该增益光纤中的光耦合器；结合于该增益光纤且一端耦接该光耦合器的第一光纤光栅；结合于该增益光纤且用以反射该增益光纤未完全吸收之该泵浦光能量的第二光纤光栅；以及结合于该增益光纤且与该第一光纤光栅构成一共振腔的第三光纤光栅。本发明利用第二光纤光栅反射泵浦光能量，进而减少能量之损耗。

3. 发明专利

TW201918312A 雷射清潔裝置及其方法审中-公开
简体标题：激光清洁设备及其方法
公开(公告)号：TW201918312A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106138501
申请日：2017-11-07
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊映暉 , YANG, YING HUI , 林盈佐 , LIN, YING TSO , 陳智禮 , CHEN, CHIH LI , 李姿儀 , LI, ZIH YI , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： B23K26/062 , B23K26/04 , B23K26/352 , B23K26/36
摘要：一種雷射清潔裝置，其包含有：一光源，其係提供一清潔光束；一能量調配單元，其係接收該清潔光束，以調變該清潔光束之不同焦平面間的能量比例；以及一焦平面調變單元，其係接受已調變能量之該清潔光束，以形成複數個焦平面，並透過調整該些焦平面的距離，延伸或壓縮該清潔光束之有效清潔作用區域。
简体摘要：一种激光清洁设备，其包含有：一光源，其系提供一清洁光束；一能量调配单元，其系接收该清洁光束，以调制该清洁光束之不同焦平面间的能量比例；以及一焦平面调制单元，其系接受已调制能量之该清洁光束，以形成复数个焦平面，并透过调整该些焦平面的距离，延伸或压缩该清洁光束之有效清洁作用区域。

4. 发明专利

TW201419689A 雷射裝置及產生雷射光的方法审中-公开
简体标题：激光设备及产生激光光的方法
公开(公告)号：TW201419689A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW101141895
申请日：2012-11-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH TING , 王芷琳 , WANG, CHIH LIN , 張耀文 , JHANG, YAO WUN , 胡杰 , HU, CHIEH , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： H01S3/034
CPC分类号： H01S3/094096 , H01S3/0602 , H01S3/1022 , H01S3/1608
摘要：一種雷射裝置及一種產生雷射光的方法係適用於生醫治療，雷射裝置包含雷射晶體及誘發光線，雷射晶體具有第一能階、第二能階、及第三能階。位於第三能階的多個原子躍遷回第二能階時產生第一光線。誘發光線射入雷射晶體時能誘使位於第二能階之原子躍遷至第一能階，進而提升第一光線的轉換效率。
简体摘要：一种激光设备及一种产生激光光的方法系适用于生医治疗，激光设备包含激光晶体及诱发光线，激光晶体具有第一能阶、第二能阶、及第三能阶。位于第三能阶的多个原子跃迁回第二能阶时产生第一光线。诱发光线射入激光晶体时能诱使位于第二能阶之原子跃迁至第一能阶，进而提升第一光线的转换效率。

5. 发明专利

TWI420170B 用於寬頻雷射之偏振調變裝置及其雷射系統有权
简体标题：用于宽带激光之偏振调制设备及其激光系统
公开(公告)号：TWI420170B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW099143626
申请日：2010-12-14
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：黃健銘 , HUANG, CHIEN MING , 張耀文 , JHANG, YAO WUN , 蘇信嘉 , SU, HSIN CHIA , 林士廷 , LIN, SHIH TING , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： G02B6/27 , G02F1/365
CPC分类号： G02F1/0136 , G02F1/3511 , G02F1/365 , G02F2001/3528 , G02F2201/02 , G02F2202/32 , H01S3/06712 , H01S3/06754 , H01S3/10061

6. 发明专利

TW201324992A 超快雷射產生系統及其方法审中-公开
简体标题：超快激光产生系统及其方法
公开(公告)号：TW201324992A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW100144575
申请日：2011-12-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張耀文 , JHANG, YAO WUN , 蘇信嘉 , SU, HSIN CHIA , 黃健銘 , HUANG, CHIEN MING , 胡杰 , HU, CHIEH , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI , 林士廷 , LIN, SHIH TING
IPC分类号： H01S3/098 , H01S3/11
CPC分类号： H01S3/06754 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/0064 , H01S3/094003 , H01S3/1618
摘要：一種超快雷射產生系統及方法，包含一雷射信號產生器、一雷射信號放大器及一分光元件。該雷射信號產生器經配置以產生一第一奈秒脈衝雷射，該雷射信號放大器經配置以放大來自該雷射信號產生器之該第一奈秒脈衝雷射以產生一第二奈秒脈衝雷射，該第二奈秒脈衝雷射包含一皮秒脈衝雷射，該分光元件經配置以接收來自該雷射信號放大器之該第二奈秒脈衝雷射，並藉以分離出至少一皮秒脈衝雷射。
简体摘要：一种超快激光产生系统及方法，包含一激光信号产生器、一激光信号放大器及一分光组件。该激光信号产生器经配置以产生一第一奈秒脉冲激光，该激光信号放大器经配置以放大来自该激光信号产生器之该第一奈秒脉冲激光以产生一第二奈秒脉冲激光，该第二奈秒脉冲激光包含一皮秒脉冲激光，该分光组件经配置以接收来自该激光信号放大器之该第二奈秒脉冲激光，并借以分离出至少一皮秒脉冲激光。

7. 发明专利

TWI699937B 雷射裝置有权
简体标题：激光设备
公开(公告)号：TWI699937B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW107145379
申请日：2018-12-17
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張耀文 , JHANG, YAO-WUN , 洪昇邦 , HUNG, SHENG-BANG , 林士廷 , LIN, SHIH-TING , 徐與謙 , SYU, YU-CIAN , 王嘉右 , WANG, JIA-YOU , 曹宏熙 , TSAU, HONG-XI
IPC分类号： H01S3/094 , H01S3/067

8. 发明专利

TW201817532A 雷射系統及雷射炫彩加工方法审中-公开
简体标题：激光系统及激光炫彩加工方法
公开(公告)号：TW201817532A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW105135593
申请日：2016-11-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH-TING , 林盈佐 , LIN, YING-TSO , 曹宏熙 , TSAU, HONG-XI
IPC分类号： B23K31/00
摘要：一種雷射系統及雷射炫彩加工方法。雷射系統包括雷射光源、分光元件及一掃瞄鏡組。雷射光源用以發射第一光束。分光元件設置於第一光束之第一路徑上，用以將第一光束分光為沿第二路徑行進之第二光束及沿第三路徑行進之第三光束。掃瞄鏡組設置於第二路徑上及第三路徑上，且用以匯集第二光束及第三光束於加工位置重疊以對工件加工。雷射炫彩加工方法包括令雷射光源沿第一路徑發射第一光束，令分光元件將第一光束分光為沿第二路徑行進之第二光束及沿第三路徑行進之第三光束，以及令掃瞄鏡組匯集第二光束及第三光束於加工位置重疊以對工件加工。
简体摘要：一种激光系统及激光炫彩加工方法。激光系统包括激光光源、分光组件及一扫瞄镜组。激光光源用以发射第一光束。分光组件设置于第一光束之第一路径上，用以将第一光束分光为沿第二路径行进之第二光束及沿第三路径行进之第三光束。扫瞄镜组设置于第二路径上及第三路径上，且用以汇集第二光束及第三光束于加工位置重叠以对工件加工。激光炫彩加工方法包括令激光光源沿第一路径发射第一光束，令分光组件将第一光束分光为沿第二路径行进之第二光束及沿第三路径行进之第三光束，以及令扫瞄镜组汇集第二光束及第三光束于加工位置重叠以对工件加工。

9. 发明专利

TWI536089B 抑制受激布里淵散射的增益光纖有权
简体标题：抑制受激布里渊散射的增益光纤
公开(公告)号：TWI536089B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW103139755
申请日：2014-11-17
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：李穎玟 , LEE, YIN WEN , 蘇信嘉 , SU, HSIN CHIA , 黃健銘 , HUANG, CHIEN MING , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI , 宋育誠 , SONG, YU CHENG , 林士廷 , LIN, SHIH TING , 楊映暉 , YANG, YING HUI
IPC分类号： G02F1/365 , G02F1/35

10. 发明专利

TWI497850B 雷射裝置及產生雷射光的方法有权
简体标题：激光设备及产生激光光的方法
公开(公告)号：TWI497850B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW101141895
申请日：2012-11-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林士廷 , LIN, SHIH TING , 王芷琳 , WANG, CHIH LIN , 張耀文 , JHANG, YAO WUN , 胡杰 , HU, CHIEH , 曹宏熙 , TSAU, HONG XI
IPC分类号： H01S3/034
CPC分类号： H01S3/094096 , H01S3/0602 , H01S3/1022 , H01S3/1608

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