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1. 发明专利

JP2015130427A ドライエッチング装置およびドライエッチング方法有权
标题翻译：干蚀设备和干蚀刻方法
公开(公告)号：JP2015130427A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：JP2014001705
申请日：2014-01-08
申请人：豊田合成株式会社
发明人：卜部友二 , 山野直樹
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
摘要：【課題】ドライエッチングにおいて、温暖化係数の低いエッチングガスの使用、ならびに設備および工程の簡略化を図る。【解決手段】基板S上の絶縁膜20に対してドライエッチングを行う。(a)CH 4 とCOF 2 を含む第1種の混合ガスを用いて、絶縁膜20のうちレジストマスク10に覆われていない部分をエッチングする第1の工程S100を実行する。第1種の混合ガスにおいて、COF 2 に対するCH 4 の混合比が0.60より低い。(b)CH 4 とCOF 2 を含む第2種の混合ガスを用いて、エッチングされた絶縁膜20の側壁23に保護膜44を形成する第2の工程S200を実行する。第2種の混合ガスにおいて、COF 2 に対するCH 4 の混合比が0.60より高い。(c)第1の工程S100と第2の工程S200を繰り返す(S300)。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：在干蚀刻中使用具有低全球变暖系数的蚀刻气体，并简化设备和工艺。解决方案：将衬底S上的绝缘膜20进行干蚀刻。进行以下步骤：（a）通过使用包含CH和COF的第一混合气体来蚀刻未被抗蚀剂掩模10覆盖的绝缘膜20的一部分的第一步骤S100，其中CH至COF的混合比在第一混合气体小于0.60; （b）第二步骤S200，通过使用包含CH和COF的第二混合气体，在第二混合气体中的CH至COF的混合比高于0.60，在蚀刻绝缘膜20的侧壁23上形成保护膜44 ; 和（c）（S300）重复第一步骤S100和第二步骤S200。

2. 发明专利

JP2021003829A 車両用樹脂製品及びその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021003829A
公开(公告)日：2021-01-14
申请号：JP2019118221
申请日：2019-06-26
申请人：豊田合成株式会社
发明人：富田直司 , 松波明 , 山野直樹 , 矢野正信 , 山▲崎▼ 祐太
IPC分类号： B29C64/118 , B29C64/393 , B29C69/02
摘要：【課題】全体が積層造形部によって構成される場合よりも生産性を高める。【解決手段】車両用樹脂製品としてのエンブレム10は、樹脂製の基体部11を備えるとともに、樹脂製の補強部21及び樹脂製の取付部22を付加部として備えている。基体部11は、自身の外表面の一部を意匠面12として有している。補強部21及び取付部22は、基体部11の外表面の意匠面12とは異なる箇所に接続されている。基体部11は、樹脂材料が成形されてなる樹脂成形部13により構成されている。補強部21及び取付部22は、樹脂層が積層されてなる積層造形部23により構成されている。【選択図】図3

3. 发明专利

JP6079649B2 ドライエッチング装置およびドライエッチング方法有权
标题翻译：干式蚀刻装置及干式蚀刻法
公开(公告)号：JP6079649B2
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：JP2014001705
申请日：2014-01-08
申请人：豊田合成株式会社
发明人：卜部友二 , 山野直樹
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065

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