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3. 发明专利

TW201921094A 控制圖案化程序之方法、器件製造方法审中-公开
简体标题：控制图案化进程之方法、器件制造方法
公开(公告)号：TW201921094A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131656
申请日：2018-09-10
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡東京傑羅恩 , VAN DONGEN, JEROEN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 喬錢森馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS
IPC分类号： G03F1/38
摘要：本發明揭示控制一圖案化程序之方法。在一個配置中，獲得由通過一基板上之一結構之一目標層的一蝕刻路徑中的傾角之一量測產生的傾角資料。該傾角表示該蝕刻路徑之一方向與該目標層之平面之一垂線的一偏差。該傾角資料用以控制一圖案化程序，該圖案化程序用以在一另外層中形成一圖案。
简体摘要：本发明揭示控制一图案化进程之方法。在一个配置中，获得由通过一基板上之一结构之一目标层的一蚀刻路径中的倾角之一量测产生的倾角数据。该倾角表示该蚀刻路径之一方向与该目标层之平面之一垂线的一偏差。该倾角数据用以控制一图案化进程，该图案化进程用以在一另外层中形成一图案。

4. 发明专利

TW201921136A 判定圖案化製程參數之方法與裝置审中-公开
简体标题：判定图案化制程参数之方法与设备
公开(公告)号：TW201921136A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107128276
申请日：2018-08-14
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種方法，其包括：使用一第一度量衡配方量測使用一圖案化製程所處理的一基板上之一度量衡目標之第一複數個例項以判定該圖案化製程之至少一個參數之值，該第一度量衡配方用於將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射；及使用一第二度量衡配方量測該同一基板上之該度量衡目標之第二不同複數個例項以判定該圖案化製程之該至少一個參數之值，該第二度量衡配方用於將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射，其中該第二度量衡配方在該將輻射施加至該度量衡目標之例項並偵測來自該度量衡目標之該等例項之輻射的至少一個特性方面與該第一度量衡配方不同。
简体摘要：一种方法，其包括：使用一第一度量衡配方量测使用一图案化制程所处理的一基板上之一度量衡目标之第一复数个实例以判定该图案化制程之至少一个参数之值，该第一度量衡配方用于将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射；及使用一第二度量衡配方量测该同一基板上之该度量衡目标之第二不同复数个实例以判定该图案化制程之该至少一个参数之值，该第二度量衡配方用于将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射，其中该第二度量衡配方在该将辐射施加至该度量衡目标之实例并侦测来自该度量衡目标之该等实例之辐射的至少一个特性方面与该第一度量衡配方不同。

5. 发明专利

TWI686677B 用於判定圖案化製程之參數之方法有权
简体标题：用于判定图案化制程之参数之方法
公开(公告)号：TWI686677B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107128276
申请日：2018-08-14
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD
IPC分类号： G03F7/20

6. 发明专利

TW201921140A 判定圖案轉印程序之參數之方法及器件製造方法审中-公开
简体标题：判定图案转印进程之参数之方法及器件制造方法
公开(公告)号：TW201921140A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129059
申请日：2018-08-21
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡維特明柯恩 , VAN WITTEVEEN, KOEN , 王蔚鈞 , WANG, WEI CHUN , 特納保羅強納森 , TURNER, PAUL JONATHAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 米瑟立吉亞科摩 , MICELI, GIACOMO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/42
摘要：本發明揭示一種判定一圖案轉印程序之一參數之方法以及器件製造方法。在一配置中，一種方法包含獲得由一結構重新導向之輻射的一偵測到之表示。該結構為藉由將一圖案處理應用至藉由一圖案轉印程序而轉印至一較早形成之結構的一圖案所形成的一結構。該圖案處理係用以在該較早形成之結構之一水平平面中移除一或多個選定區以在該水平平面中形成一圖案。該圖案係由相對於一鏡面對稱軸鏡面對稱的一單位胞元界定。判定該偵測到之表示中之一不對稱性。使用該偵測到之表示中之該經判定不對稱性以判定該圖案轉印程序之一參數。
简体摘要：本发明揭示一种判定一图案转印进程之一参数之方法以及器件制造方法。在一配置中，一种方法包含获得由一结构重新导向之辐射的一侦测到之表示。该结构为借由将一图案处理应用至借由一图案转印进程而转印至一较早形成之结构的一图案所形成的一结构。该图案处理系用以在该较早形成之结构之一水平平面中移除一或多个选定区以在该水平平面中形成一图案。该图案系由相对于一镜面对称轴镜面对称的一单位胞元界定。判定该侦测到之表示中之一不对称性。使用该侦测到之表示中之该经判定不对称性以判定该图案转印进程之一参数。

7. 发明专利

TW201743143A 用於判定圖案化製程參數的方法和設備审中-公开
简体标题：用于判定图案化制程参数的方法和设备
公开(公告)号：TW201743143A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106106740
申请日：2017-03-01
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G01J3/18
CPC分类号： G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
摘要：一種判定一圖案化製程之疊對之方法，該方法包括：運用一輻射光束照明一基板使得該基板上之一光束光點填充有一單位胞元之一或多個實體例項，該單位胞元在疊對之一標稱值下具有幾何對稱性；使用一偵測器主要偵測由該單位胞元之該一或多個實體例項重新導向之零階輻射；及藉由一硬體電腦系統自該偵測到輻射之一光學特性之值判定該單位胞元之疊對之一非標稱值。
简体摘要：一种判定一图案化制程之叠对之方法，该方法包括：运用一辐射光束照明一基板使得该基板上之一光束光点填充有一单位胞元之一或多个实体实例，该单位胞元在叠对之一标称值下具有几何对称性；使用一侦测器主要侦测由该单位胞元之该一或多个实体实例重新导向之零阶辐射；及借由一硬件电脑系统自该侦测到辐射之一光学特性之值判定该单位胞元之叠对之一非标称值。

8. 发明专利

TW201743142A 用於判定圖案化製程參數的方法和設備审中-公开
简体标题：用于判定图案化制程参数的方法和设备
公开(公告)号：TW201743142A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106106739
申请日：2017-03-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
摘要：一種判定一圖案化製程之一參數之方法，該方法包括：獲得由一結構重新導向之輻射之一偵測到之表示，該結構在一標稱實體組態下具有幾何對稱性，其中該輻射之該偵測到之表示係藉由運用一輻射光束照明一基板使得該基板上之一光束光點填充有該結構而獲得；及藉由一硬體電腦系統基於來自該偵測到輻射表示之一不對稱光學特性分佈部分之光學特性值而判定該圖案化製程參數之一值，該不對稱光學特性分佈部分相比於該偵測到輻射表示之另一部分具有更高權重，該不對稱光學特性分佈起因於該結構之不同於該標稱實體組態的一實體組態。
简体摘要：一种判定一图案化制程之一参数之方法，该方法包括：获得由一结构重新导向之辐射之一侦测到之表示，该结构在一标称实体组态下具有几何对称性，其中该辐射之该侦测到之表示系借由运用一辐射光束照明一基板使得该基板上之一光束光点填充有该结构而获得；及借由一硬件电脑系统基于来自该侦测到辐射表示之一不对称光学特性分布部分之光学特性值而判定该图案化制程参数之一值，该不对称光学特性分布部分相比于该侦测到辐射表示之另一部分具有更高权重，该不对称光学特性分布起因于该结构之不同于该标称实体组态的一实体组态。

9. 发明专利

TW201741779A 判定圖案化製程參數之方法與裝置审中-公开
简体标题：判定图案化制程参数之方法与设备
公开(公告)号：TW201741779A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106106742
申请日：2017-03-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 迪拉福恩特范諾汀瑪麗亞伊莎貝爾 , DE LA FUENTE VALENTIN, MARIA ISABEL , 凡維特明柯恩 , VAN WITTEVEEN, KOEN , 薩爾瑪蒂貞瑪麗亞 , ZAAL, MARTIJN MARIA , 王淑錦 , WANG, SHU JIN
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/88 , G01N21/95 , G06F17/50 , H01L21/308
CPC分类号： G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
摘要：一種度量衡目標，其包括：一第一結構，其經配置以藉由一第一圖案化製程而產生；及一第二結構，其經配置以藉由一第二圖案化製程而產生，其中該第一結構及/或該第二結構並不用以產生一器件圖案之一功能態樣，且其中該第一結構及該第二結構一起形成一單位胞元之一或多個例項，該單位胞元在一標稱實體組態下具有幾何對稱性，且其中該單位胞元具有一特徵，該特徵在不同於該標稱實體組態之一實體組態下歸因於該第一圖案化製程、該第二圖案化製程及/或另一圖案化製程中之圖案置放之一相對移位而造成該單位胞元中之一不對稱性。
简体摘要：一种度量衡目标，其包括：一第一结构，其经配置以借由一第一图案化制程而产生；及一第二结构，其经配置以借由一第二图案化制程而产生，其中该第一结构及/或该第二结构并不用以产生一器件图案之一功能态样，且其中该第一结构及该第二结构一起形成一单位胞元之一或多个实例，该单位胞元在一标称实体组态下具有几何对称性，且其中该单位胞元具有一特征，该特征在不同于该标称实体组态之一实体组态下归因于该第一图案化制程、该第二图案化制程及/或另一图案化制程中之图案置放之一相对移位而造成该单位胞元中之一不对称性。

10. 发明专利

TW201743141A 用於判定圖案化製程參數的方法和設備审中-公开
简体标题：用于判定图案化制程参数的方法和设备
公开(公告)号：TW201743141A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106106738
申请日：2017-03-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
摘要：一種組態一參數判定製程之方法，該方法包括：獲得一結構之一數學模型，該數學模型經組態以在運用一輻射光束照明該結構時預測一光學回應，且該結構在一標稱實體組態下具有幾何對稱性；藉由一硬體電腦系統使用該數學模型以模擬該結構之該實體組態中的為某一量之一擾動，以判定複數個像素中之每一者中的該光學回應之一對應改變以獲得複數個像素敏感度；及基於該等像素敏感度，判定為了得到與該實體組態之改變相關聯的一參數之一值而與一基板上之該結構之經量測像素光學特性值結合之複數個權重，每一權重對應於一像素。
简体摘要：一种组态一参数判定制程之方法，该方法包括：获得一结构之一数学模型，该数学模型经组态以在运用一辐射光束照明该结构时预测一光学回应，且该结构在一标称实体组态下具有几何对称性；借由一硬件电脑系统使用该数学模型以仿真该结构之该实体组态中的为某一量之一扰动，以判定复数个像素中之每一者中的该光学回应之一对应改变以获得复数个像素敏感度；及基于该等像素敏感度，判定为了得到与该实体组态之改变相关联的一参数之一值而与一基板上之该结构之经量测像素光学特性值结合之复数个权重，每一权重对应于一像素。

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