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1. 发明专利

TW201841049A 藉由圖案化裝置上的有限厚度之結構判定輻射之散射的方法审中-公开
简体标题：借由图案化设备上的有限厚度之结构判定辐射之散射的方法
公开(公告)号：TW201841049A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106145450
申请日：2017-12-25
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 劉鵬 , LIU, PENG , 何威爾羅福 C , HOWELL, RAFAEL C. , 比斯瓦思羅西尼 , BISWAS, ROSHNI
IPC分类号： G03F1/70 , G06F17/50
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：獲得一圖案化裝置之一薄光罩透射函數及用於一微影程序之一M3D模型，其中該薄光罩透射函數為一連續透射光罩(CTM)且該M3D模型至少表示可歸因於該圖案化裝置上之結構之多個邊緣的M3D之一部分；藉由使用該薄光罩透射函數及該M3D模型而判定該圖案化裝置之一M3D光罩透射函數；及藉由使用該M3D光罩透射函數而判定藉由該圖案化裝置及該微影程序產生的一空中影像。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：获得一图案化设备之一薄光罩透射函数及用于一微影进程之一M3D模型，其中该薄光罩透射函数为一连续透射光罩(CTM)且该M3D模型至少表示可归因于该图案化设备上之结构之多个边缘的M3D之一部分；借由使用该薄光罩透射函数及该M3D模型而判定该图案化设备之一M3D光罩透射函数；及借由使用该M3D光罩透射函数而判定借由该图案化设备及该微影进程产生的一空中影像。

2. 发明专利

TWI667553B 判定圖案之特性之方法有权
简体标题：判定图案之特性之方法
公开(公告)号：TWI667553B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107105968
申请日：2018-02-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：劉鵬 , LIU, PENG , 羅亞 , LUO, YA , 曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50

3. 发明专利

TW201921151A 機器學習輔助光學接近誤差校正的訓練方法审中-公开
简体标题：机器学习辅助光学接近误差校正的训练方法
公开(公告)号：TW201921151A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131404
申请日：2018-09-07
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇靜 , SU, JING , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 羅亞 , LUO, YA
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/36 , G06F17/50 , G06N99/00
摘要：一種方法包括：獲得用於一訓練設計圖案之一在空間上移位版本的一光學接近校正；及使用關於該訓練設計圖案之資料及基於用於該訓練設計圖案之該在空間上移位版本之該等光學接近校正之資料訓練一機器學習模型，該機器學習模型經組態以針對設計圖案預測光學接近校正。
简体摘要：一种方法包括：获得用于一训练设计图案之一在空间上移位版本的一光学接近校正；及使用关于该训练设计图案之数据及基于用于该训练设计图案之该在空间上移位版本之该等光学接近校正之数据训练一机器学习模型，该机器学习模型经组态以针对设计图案预测光学接近校正。

4. 发明专利

TW201837759A 藉由機器學習來判定製程模型之方法审中-公开
简体标题：借由机器学习来判定制程模型之方法
公开(公告)号：TW201837759A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107106084
申请日：2018-02-23
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：羅亞 , LUO, YA , 曹宇 , CAO, YU , 王禎祥 , WANG, JEN-SHIANG , 盧彥文 , LU, YEN-WEN
IPC分类号： G06F17/50 , G06F15/04 , G06G7/48 , G03F1/00
摘要：本文中揭示判定並使用一製程模型之方法，該製程模型係一機器學習模型。部分地基於模擬或基於一非機器學習模型來訓練該製程模型。訓練資料可包括自一設計佈局、圖案化製程量測及影像量測獲得之輸入。
简体摘要：本文中揭示判定并使用一制程模型之方法，该制程模型系一机器学习模型。部分地基于仿真或基于一非机器学习模型来训练该制程模型。训练数据可包括自一设计布局、图案化制程量测及影像量测获得之输入。

5. 发明专利

TWI681250B 獲得輔助特徵之特性的方法及電腦程式產品有权
简体标题：获得辅助特征之特性的方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI681250B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW107116367
申请日：2018-05-15
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇靜 , SU, JING , 鄒毅 , ZOU, YI , 林晨希 , LIN, CHENXI , 曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 陳炳德 , CHEN, BEEN-DER , 張權 , ZHANG, QUAN , 巴倫斯坦尼斯拉斯雨果路易斯 , BARON, STANISLAS HUGO LOUIS , 羅亞 , LUO, YA
IPC分类号： G03F1/38 , G06F17/50 , G03F1/42

6. 发明专利

TWI672556B 判定輻射之散射的方法及電腦程式產品有权
简体标题：判定辐射之散射的方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI672556B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW106145450
申请日：2017-12-25
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 劉鵬 , LIU, PENG , 何威爾羅福 C , HOWELL, RAFAEL C. , 比斯瓦思羅西尼 , BISWAS, ROSHNI
IPC分类号： G03F1/70 , G06F17/50

7. 发明专利

TWI699627B 機器學習輔助光學接近誤差校正的訓練方法有权
简体标题：机器学习辅助光学接近误差校正的训练方法
公开(公告)号：TWI699627B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW107131404
申请日：2018-09-07
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇靜 , SU, JING , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 羅亞 , LUO, YA
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/36 , G06F30/00 , G06N99/00

8. 发明专利

TWI696125B 用於計算微影之機器學習模型的訓練方法有权
简体标题：用于计算微影之机器学习模型的训练方法
公开(公告)号：TWI696125B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW108105945
申请日：2019-02-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：曹宇 , CAO, YU , 羅亞 , LUO, YA , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 陳炳德 , CHEN, BEEN-DER , 何威爾羅福 C , HOWELL, RAFAEL C. , 鄒毅 , ZOU, YI , 蘇靜 , SU, JING , 孫德政 , SUN, DEZHENG
IPC分类号： G06N20/00 , G06F17/50

9. 发明专利

TW201841073A 藉由於圖案化裝置上之有限厚度結構來判定輻射散射的方法审中-公开
简体标题：借由于图案化设备上之有限厚度结构来判定辐射散射的方法
公开(公告)号：TW201841073A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105968
申请日：2018-02-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：劉鵬 , LIU, PENG , 羅亞 , LUO, YA , 曹宇 , CAO, YU , 盧彥文 , LU, YEN-WEN
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：獲得一設計佈局之一部分的特性；判定包括或形成該部分之一圖案化裝置之M3D的特性；藉由使用一電腦使用包括一樣本之訓練資料來訓練一神經網路，該樣本之特徵向量包括該部分之該等特性且該樣本之監督信號包含該M3D之該等特性。本發明亦揭示一種方法，其包括：獲得一設計佈局之一部分的特性；獲得使用包括或形成該部分之一圖案化裝置的一微影製程之特性；判定該微影製程之一結果之特性；藉由使用一電腦使用包括一樣本之訓練資料來訓練一神經網路，該樣本之特徵向量包含該部分之該等特性及該微影製程之該等特性，且該樣本之監督信號包含該結果之該等特性。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：获得一设计布局之一部分的特性；判定包括或形成该部分之一图案化设备之M3D的特性；借由使用一电脑使用包括一样本之训练数据来训练一神经网络，该样本之特征矢量包括该部分之该等特性且该样本之监督信号包含该M3D之该等特性。本发明亦揭示一种方法，其包括：获得一设计布局之一部分的特性；获得使用包括或形成该部分之一图案化设备的一微影制程之特性；判定该微影制程之一结果之特性；借由使用一电脑使用包括一样本之训练数据来训练一神经网络，该样本之特征矢量包含该部分之该等特性及该微影制程之该等特性，且该样本之监督信号包含该结果之该等特性。

10. 发明专利

TWI639887B 用於辨識熱點之方法及電腦程式產品有权
简体标题：用于辨识热点之方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI639887B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106115229
申请日：2017-05-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：蘇靜 , SU, JING , 鄒毅 , ZOU, YI , 林晨希 , LIN, CHENXI , 亨奇史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 喬錢森馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 盧彥文 , LU, YEN-WEN , 鍾玲莉 , CHEONG, LIN LEE
IPC分类号： G03F1/70 , G06F17/50 , H01L21/027

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