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1. 发明专利

TW202004844A 微影裝置审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW202004844A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116031
申请日：2019-05-09
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：摩克斯馬坦安特喬治達 , MERKX, MAARTEN ANTON GERTRUDA , 古森斯安卓彼雛斯法蘭斯克斯阿爾諾德瑪麗亞 , GOOSSENS, ANDREW PETRUS FRANSISCUS ARNOLDUS MARIA , 凡得葛絡夫珊卓拉 , VAN DER GRAAF, SANDRA , 凡德威爾達安威廉詹 , VAN DER WIEL, DAAN WILLEM JAN
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：本發明揭示一種用於提供氧氣(O2)至一EUV微影裝置之氣流控制系統，該氣流控制系統包含：一第一入口，其經組態以連接至一第一氣體源，該第一氣體包含氧氣(O2)；一第二入口，其經組態以連接至一第二氣體源，該第二氣體不含任何(O2)氣體；該氣流控制系統經組態以混合該第一氣體與該第二氣體以獲得包含經稀釋之氧氣(O2)的一混合氣體；該氣流控制系統進一步包含：一第一出口，其經組態以輸出一第一量之該混合氣體至該EUV微影裝置之一內部；及一第二出口，其經組態以輸出一第二量的該混合氣體至在該EUV微影裝置外部的一轉儲器。
简体摘要：本发明揭示一种用于提供氧气(O2)至一EUV微影设备之气流控制系统，该气流控制系统包含：一第一入口，其经组态以连接至一第一气体源，该第一气体包含氧气(O2)；一第二入口，其经组态以连接至一第二气体源，该第二气体不含任何(O2)气体；该气流控制系统经组态以混合该第一气体与该第二气体以获得包含经稀释之氧气(O2)的一混合气体；该气流控制系统进一步包含：一第一出口，其经组态以输出一第一量之该混合气体至该EUV微影设备之一内部；及一第二出口，其经组态以输出一第二量的该混合气体至在该EUV微影设备外部的一转储器。

2. 发明专利

TW202004363A 微影設備审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW202004363A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108118325
申请日：2019-05-28
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：范戴克豪夫馬卡斯安德納斯 , VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS , 摩克斯馬坦安特喬治達 , MERKX, MAARTEN ANTON GERTRUDA , 凡柔彼德珍 , VAN ZWOL, PIETER-JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
摘要：本文揭示一種微影設備，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一圖案化裝置(601)，其經組態以在該輻射光束之橫截面中賦予一圖案給該輻射光束以形成一經圖案化輻射光束；一表膜(602)，其經組態以覆蓋該圖案化裝置(601)之一表面；一基板台，其經組態以固持一基板；一投影系統，其經組態以在一基板藉由該基板台固持時將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該投影系統包含一或多個光學元件；一第一組一或多個出口(603)，其用於將一第一流體輸出至一第一區域中，其中該第一區域鄰接及/或包含該表膜(602)；及一第二組一或多個出口(605)，其經組態以將一第二流體輸出至包含該投影系統之該一或多個光學元件的一第二區域中；且其中該第二流體不同於該第一流體。有利地，該第一區域中之該流體保護該表膜(602)免受該第二區域中之該流體損壞。因此可使用將另外由該第二區域中之該流體損壞的一表膜。
简体摘要：本文揭示一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一图案化设备(601)，其经组态以在该辐射光束之横截面中赋予一图案给该辐射光束以形成一经图案化辐射光束；一表膜(602)，其经组态以覆盖该图案化设备(601)之一表面；一基板台，其经组态以固持一基板；一投影系统，其经组态以在一基板借由该基板台固持时将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上，其中该投影系统包含一或多个光学组件；一第一组一或多个出口(603)，其用于将一第一流体输出至一第一区域中，其中该第一区域邻接及/或包含该表膜(602)；及一第二组一或多个出口(605)，其经组态以将一第二流体输出至包含该投影系统之该一或多个光学组件的一第二区域中；且其中该第二流体不同于该第一流体。有利地，该第一区域中之该流体保护该表膜(602)免受该第二区域中之该流体损坏。因此可使用将另外由该第二区域中之该流体损坏的一表膜。

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