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3. 发明专利

TWI575336B 微影裝置及元件製造方法有权
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI575336B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW104110542
申请日：2015-03-31
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：詹森傑瑞杜斯阿諾度思漢卓克斯法蘭西庫司 , JANSSEN, GERARDUS ARNOLDUS HENDRICUS FR , 凡巴倫馬堤恩 , VAN BAREN, MARTIJN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/7075 , G03F7/708 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , H01L21/67 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67265 , H01L21/67742

4. 发明专利

TW201541198A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201541198A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104110542
申请日：2015-03-31
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：詹森傑瑞杜斯阿諾度思漢卓克斯法蘭西庫司 , JANSSEN, GERARDUS ARNOLDUS HENDRICUS FR , 凡巴倫馬堤恩 , VAN BAREN, MARTIJN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/7075 , G03F7/708 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , H01L21/67 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67265 , H01L21/67742
摘要：一種搭配一微影裝置使用之系統，該系統經組態以處置一基板，其中該系統經調適以耦接至一氣體源，該系統包含：該基板傳遞通過之一空間；及一熱屏蔽件，其用於使該空間與起源於該空間外部之一熱負荷熱絕緣，該熱屏蔽件包含：一第一壁及一第二壁，在該第一壁與該第二壁之間具有一間隙，該第一壁經定位於該空間與該第二壁之間；至少一入口開口，其經組態以允許來自該氣體源之一氣流自該空間外部進入該間隙；及至少一出口開口，其經組態以允許該氣流離開該間隙而至該空間外部，其中該系統經調適以自該氣體源導引該氣流以通過該至少一入口開口而進入該間隙，以流動通過該間隙且自該間隙通過該至少一出口開口而流動至該空間外部，藉此縮減該空間中之歸因於起源於該空間外部之該熱負荷之熱波動。
简体摘要：一种搭配一微影设备使用之系统，该系统经组态以处置一基板，其中该系统经调适以耦接至一气体源，该系统包含：该基板传递通过之一空间；及一热屏蔽件，其用于使该空间与起源于该空间外部之一热负荷热绝缘，该热屏蔽件包含：一第一壁及一第二壁，在该第一壁与该第二壁之间具有一间隙，该第一壁经定位于该空间与该第二壁之间；至少一入口开口，其经组态以允许来自该气体源之一气流自该空间外部进入该间隙；及至少一出口开口，其经组态以允许该气流离开该间隙而至该空间外部，其中该系统经调适以自该气体源导引该气流以通过该至少一入口开口而进入该间隙，以流动通过该间隙且自该间隙通过该至少一出口开口而流动至该空间外部，借此缩减该空间中之归因于起源于该空间外部之该热负荷之热波动。

5. 发明专利

TW201533543A 微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201533543A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104103339
申请日：2015-01-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：奈其巴格魯葛尼斯 , 凡巴倫馬堤恩 , VAN BAREN, MARTIJN , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 賽伯斯科恩 , CUYPERS, KOEN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 凡柏克哈文羅倫堤斯約翰納斯安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70908
摘要：本發明提供一種包含一障壁系統之微影裝置，及使用如所描述之微影裝置中之任一者之器件製造方法。該障壁系統用以維持一障壁內的氣體之一受保護體積。可在該微影裝置之不同組件相對於彼此而移動時維持該受保護體積。該障壁系統可用於該微影裝置內之不同部位中。該障壁之幾何形狀影響該受保護體積被維持之效率的程度，尤其是在高速度下。本發明之幾何形狀縮減自該障壁外部進入該受保護體積之環境氣體之量。
简体摘要：本发明提供一种包含一障壁系统之微影设备，及使用如所描述之微影设备中之任一者之器件制造方法。该障壁系统用以维持一障壁内的气体之一受保护体积。可在该微影设备之不同组件相对于彼此而移动时维持该受保护体积。该障壁系统可用于该微影设备内之不同部位中。该障壁之几何形状影响该受保护体积被维持之效率的程度，尤其是在高速度下。本发明之几何形状缩减自该障壁外部进入该受保护体积之环境气体之量。

6. 发明专利

TW201727385A 微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201727385A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106100486
申请日：2015-01-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：奈其巴格魯葛尼斯 , 凡巴倫馬堤恩 , VAN BAREN, MARTIJN , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 賽伯斯科恩 , CUYPERS, KOEN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 凡柏克哈文羅倫堤斯約翰納斯安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70908
摘要：本發明提供一種包含一障壁系統之微影裝置，及使用如所描述之微影裝置中之任一者之器件製造方法。該障壁系統用以維持一障壁內的氣體之一受保護體積。可在該微影裝置之不同組件相對於彼此而移動時維持該受保護體積。該障壁系統可用於該微影裝置內之不同部位中。該障壁之幾何形狀影響該受保護體積被維持之效率的程度，尤其是在高速度下。本發明之幾何形狀縮減自該障壁外部進入該受保護體積之環境氣體之量。
简体摘要：本发明提供一种包含一障壁系统之微影设备，及使用如所描述之微影设备中之任一者之器件制造方法。该障壁系统用以维持一障壁内的气体之一受保护体积。可在该微影设备之不同组件相对于彼此而移动时维持该受保护体积。该障壁系统可用于该微影设备内之不同部位中。该障壁之几何形状影响该受保护体积被维持之效率的程度，尤其是在高速度下。本发明之几何形状缩减自该障壁外部进入该受保护体积之环境气体之量。

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