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2. 发明专利

TW201515522A 用於保護極紫外光光學元件之裝置审中-公开
简体标题：用于保护极紫外光光学组件之设备
公开(公告)号：TW201515522A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103129530
申请日：2014-08-27
申请人：艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：艾瑟夫亞歷山大I , ERSHOV, ALEXANDER I. , 伯克傑瑞米 , BURKE, JEREMY
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： G02B27/0006 , H01J37/32477
摘要：一種裝置，其係具有：一腔室具有一內壁，以及一區域在該腔室內，其係於該裝置操作中時析出一污染材料。多個葉片位於該內壁之一部份上，該等葉片中之每一者有一第一表面以沿著在該葉片與該區域之間的一方向定向以及有鄰接該第一表面之一第二表面經定向成可偏轉撞擊該第二表面之該污染材料離開該區域，該等第二表面經製作成有特定尺寸且相互並列使得該等第二表面可實質防止該污染材料撞擊該內壁之該部份。該等葉片中之每一者的至少一部份可被覆蓋一網狀物。可加熱該等葉片，以及可加熱至少到該污染材料的一熔點。該裝置可特別應用於在用於產生供半導體微影技術使用之極紫外光的系統中保護用作集光器的多層反射鏡。
简体摘要：一种设备，其系具有：一腔室具有一内壁，以及一区域在该腔室内，其系于该设备操作中时析出一污染材料。多个叶片位于该内壁之一部份上，该等叶片中之每一者有一第一表面以沿着在该叶片与该区域之间的一方向定向以及有邻接该第一表面之一第二表面经定向成可偏转撞击该第二表面之该污染材料离开该区域，该等第二表面经制作成有特定尺寸且相互并列使得该等第二表面可实质防止该污染材料撞击该内壁之该部份。该等叶片中之每一者的至少一部份可被覆盖一网状物。可加热该等叶片，以及可加热至少到该污染材料的一熔点。该设备可特别应用于在用于产生供半导体微影技术使用之极紫外光的系统中保护用作集光器的多层反射镜。

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