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    • 5. 发明专利
    • 箔疋用的照射站 BELICHTUNGSSTATION FR FOLIENBAHNEN
    • TW200528928A
    • 2005-09-01
    • TW093117858
    • 2004-06-21
    • 良合庫爾茲有限兩合公司 LEONHARD KURZ GMBH & CO. KG
    • 馬締亞斯 宰茲 SEITZ, MATHIAS哈默 卡秋瑞克 KATSCHOREK, HAYMO
    • G03F
    • B42D25/435B32B2429/00B42D25/00B42D25/29B42D25/405G03B27/12G03B27/18G03F7/00G03F7/20Y10S430/146
    • 一種箔疋用的照射站(1),以及利用這種照射站(1)製造的可呈光學方式變化的元件;該照射站(1)用於在一條箔疋(3)的一個或數個層中產生部分地構成的區域;該可呈光學方式變化的元件具有不同光學性質的部分構成的區域。該照射站(1)有一個或數個輻射源(11),以照射該箔疋(3)。該照射站(1)還有一條光罩帶(2),該光罩帶(2)具有不同光學性質的部分地構成的區域,且在一照射區域(18)中在該一個或數個輻射源(11)與箔疋(3)間的輻射道中導進。該照射站(1)還有二個或數個導引件(182)(183)以將該光罩帶導引及/或將該箔疋導引,該導引件設成使光罩帶(2)在照射區域(18)中平行於箔疋(3)導進。此外,該照射站(1)具有聯接(耦合)手段(181)(182)(183)(184),以將該光罩帶(2)(5)和箔疋(3)在照射區域(18)中用與箔疋(3)(6)同樣的速度運動。
    • 一种箔疋用的照射站(1),以及利用这种照射站(1)制造的可呈光学方式变化的组件;该照射站(1)用于在一条箔疋(3)的一个或数个层中产生部分地构成的区域;该可呈光学方式变化的组件具有不同光学性质的部分构成的区域。该照射站(1)有一个或数个辐射源(11),以照射该箔疋(3)。该照射站(1)还有一条光罩带(2),该光罩带(2)具有不同光学性质的部分地构成的区域,且在一照射区域(18)中在该一个或数个辐射源(11)与箔疋(3)间的辐射道中导进。该照射站(1)还有二个或数个导引件(182)(183)以将该光罩带导引及/或将该箔疋导引,该导引件设成使光罩带(2)在照射区域(18)中平行于箔疋(3)导进。此外,该照射站(1)具有联接(耦合)手段(181)(182)(183)(184),以将该光罩带(2)(5)和箔疋(3)在照射区域(18)中用与箔疋(3)(6)同样的速度运动。