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1. 发明专利

TW201816875A 具有補償濾波的端點偵測审中-公开
简体标题：具有补偿滤波的端点侦测
公开(公告)号：TW201816875A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106132366
申请日：2017-09-21
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：許昆 , XU, KUN , 林凱文 , LIN, KEVIN , 卡爾森伊格馬 , CARLSSON, INGEMAR , 沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 劉芷宇 , LIU, TZU-YU
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/66 , B24B37/24
摘要：一種拋光方法包括以下步驟：拋光基板的一層，用原位監測系統監測基板的層，以產生取決於層的厚度的信號，對信號進行濾波以產生經濾波的信號，從代表對信號進行濾波所需的時間的原始閾值與時間延遲值來決定經調整的閾值，以及當經濾波的信號越過經調整的閾值時，觸發拋光端點。
简体摘要：一种抛光方法包括以下步骤：抛光基板的一层，用原位监测系统监测基板的层，以产生取决于层的厚度的信号，对信号进行滤波以产生经滤波的信号，从代表对信号进行滤波所需的时间的原始阈值与时间延迟值来决定经调整的阈值，以及当经滤波的信号越过经调整的阈值时，触发抛光端点。

2. 发明专利

TW201822953A 基於溝槽深度的電磁感應監控進行的過拋光审中-公开
简体标题：基于沟槽深度的电磁感应监控进行的过抛光
公开(公告)号：TW201822953A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106130734
申请日：2017-09-08
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 唐建設 , TANG, JIANSHE , 章及明 , ZHANG, JIMIN , 蓋奇大衛麥斯威爾 , GAGE, DAVID MAXWELL
IPC分类号： B24B37/013
摘要：在基板的拋光期間，從第一原位監控系統接收第一訊號，且從第二原位監控系統接收第二訊號。基於第一訊號判定導電層被清除且基板的下層介電層的頂面被暴露的清除時間。判定經判定的清除時間處的第二訊號的初始值。將偏移與初始值相加以產生臨界值，且在第二訊號交叉臨界值時觸發拋光終點。
简体摘要：在基板的抛光期间，从第一原位监控系统接收第一信号，且从第二原位监控系统接收第二信号。基于第一信号判定导电层被清除且基板的下层介电层的顶面被暴露的清除时间。判定经判定的清除时间处的第二信号的初始值。将偏移与初始值相加以产生临界值，且在第二信号交叉临界值时触发抛光终点。

3. 发明专利

TW201842471A 使用神經網路來監測的拋光裝置审中-公开
简体标题：使用神经网络来监测的抛光设备
公开(公告)号：TW201842471A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107111724
申请日：2018-04-03
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：許昆 , XU, KUN , 依拉維尼寒森G , IRAVANI, HASSAN G. , 伊凡諾夫丹尼斯 , IVANOV, DENIS , 史威克柏格斯勞A , SWEDEK, BOGUSLAW A. , 沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 李哈利Q , LEE, HARRY Q. , 傑瑞安班傑明 , CHERIAN, BENJAMIN
IPC分类号： G06N3/06 , G06F17/50 , B24B37/005
摘要：一種用於在研磨站研磨基板上的層的方法，包含以下步驟：於在研磨站研磨的期間內由原位監測系統監測此層，以對此層上的複數個不同位置產生複數個所測得訊號；對複數個不同位置中的每一位置，產生位置的估算厚度測量結果，產生步驟包含透過神經網路處理複數個所測得訊號；以及以下步驟之至少一者：基於每一估算厚度測量結果偵測研磨終點或修改研磨參數。
简体摘要：一种用于在研磨站研磨基板上的层的方法，包含以下步骤：于在研磨站研磨的期间内由原位监测系统监测此层，以对此层上的复数个不同位置产生复数个所测得信号；对复数个不同位置中的每一位置，产生位置的估算厚度测量结果，产生步骤包含透过神经网络处理复数个所测得信号；以及以下步骤之至少一者：基于每一估算厚度测量结果侦测研磨终点或修改研磨参数。

4. 发明专利

TW201841285A 基於電阻率調整原位監測的量測值审中-公开
简体标题：基于电阻率调整原位监测的量测值
公开(公告)号：TW201841285A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107101170
申请日：2018-01-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：許昆 , XU, KUN , 卡爾森伊格馬 , CARLSSON, INGEMAR , 沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 史威克柏格斯勞A , SWEDEK, BOGUSLAW A. , 劉芷宇 , LIU, TZU-YU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/3105 , H01L21/304 , H01L21/321
摘要：儲存第一電阻率值和將具有第一電阻率值的導電層的厚度與來自原位監測系統的訊號相關的相關函數。接收基板上的導電層的第二電阻率值。在拋光期間，從監測基板的原位電磁感應監測系統接收取決於導電層的厚度的一系列的訊號值。基於該系列的訊號值和相關函數而產生一系列的厚度值。對於該系列的厚度值的至少一些厚度值而言，產生調整後的厚度值，其補償在第一電阻率值與第二電阻率值之間的變化，以產生一系列的調整後的厚度值。基於該系列的調整後的厚度值來偵測拋光終點或確定對拋光參數的調整。
简体摘要：存储第一电阻率值和将具有第一电阻率值的导电层的厚度与来自原位监测系统的信号相关的相关函数。接收基板上的导电层的第二电阻率值。在抛光期间，从监测基板的原位电磁感应监测系统接收取决于导电层的厚度的一系列的信号值。基于该系列的信号值和相关函数而产生一系列的厚度值。对于该系列的厚度值的至少一些厚度值而言，产生调整后的厚度值，其补偿在第一电阻率值与第二电阻率值之间的变化，以产生一系列的调整后的厚度值。基于该系列的调整后的厚度值来侦测抛光终点或确定对抛光参数的调整。

5. 发明专利

TW201832873A 用於原位電磁感應監測系統的具有交替柱的芯配置审中-公开
简体标题：用于原位电磁感应监测系统的具有交替柱的芯配置
公开(公告)号：TW201832873A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106136663
申请日：2017-10-25
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：依拉維尼寒森G , IRAVANI, HASSAN G. , 史威克柏格斯勞A , SWEDEK, BOGUSLAW A. , 劉芷宇 , LIU, TZU-YU , 許昆 , XU, KUN , 沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR
IPC分类号： B24B49/10 , G01B7/06 , H01L21/304
摘要：一種用於化學機械拋光的設備包括平臺及電磁感應監測系統，該平臺具有一表面以支撐拋光墊，該電磁感應監測系統產生磁場以監測拋光墊所正在拋光的基板。電磁感應監測系統包括至少部分地定位在平臺中的一芯和繞該芯的一部分捲繞的線圈。該芯包括背部分和多個柱，該等多個柱在垂直於平臺表面的第一方向上自背部分延伸。芯和線圈經配置使得該等多個柱包含第一複數個柱與第二複數個柱，該第一複數個柱提供第一磁極性，該第二複數個柱提供相反的第二磁極性，及該第一複數個柱與該第二複數個柱以一交替模式佈置。
简体摘要：一种用于化学机械抛光的设备包括平台及电磁感应监测系统，该平台具有一表面以支撑抛光垫，该电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫所正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括至少部分地定位在平台中的一芯和绕该芯的一部分卷绕的线圈。该芯包括背部分和多个柱，该等多个柱在垂直于平台表面的第一方向上自背部分延伸。芯和线圈经配置使得该等多个柱包含第一复数个柱与第二复数个柱，该第一复数个柱提供第一磁极性，该第二复数个柱提供相反的第二磁极性，及该第一复数个柱与该第二复数个柱以一交替模式布置。

6. 发明专利

TW201826368A 用於原位電磁感應監測系統的芯配置审中-公开
简体标题：用于原位电磁感应监测系统的芯配置
公开(公告)号：TW201826368A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106136058
申请日：2017-10-20
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：依拉維尼寒森G , IRAVANI, HASSAN G. , 許昆 , XU, KUN , 伊凡諾夫丹尼斯 , IVANOV, DENIS , 沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 史威克柏格斯勞A , SWEDEK, BOGUSLAW A.
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/67 , B24B37/34 , B24B49/02
摘要：一種用於化學機械拋光的設備包括支撐件及電磁感應監測系統，支撐件用於具有拋光表面的拋光墊，電磁感應監測系統產生磁場以監測拋光墊所正在拋光的基板。電磁感應監測系統包括芯和繞該芯的一部分捲繞的線圈。芯包含背部分、中心柱及環形邊緣，該中心柱在與該拋光表面正交的第一方向上自該背部分延伸，該環形邊緣平行於該中心柱而自該背部分延伸及該環形邊緣圍繞該中心柱且與該中心柱間隔一間隙。該間隙的寬度小於中心柱的寬度，及環形邊緣的頂表面的表面積比中心柱的頂表面的表面積至少大兩倍。
简体摘要：一种用于化学机械抛光的设备包括支撑件及电磁感应监测系统，支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫所正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕该芯的一部分卷绕的线圈。芯包含背部分、中心柱及环形边缘，该中心柱在与该抛光表面正交的第一方向上自该背部分延伸，该环形边缘平行于该中心柱而自该背部分延伸及该环形边缘围绕该中心柱且与该中心柱间隔一间隙。该间隙的宽度小于中心柱的宽度，及环形边缘的顶表面的表面积比中心柱的顶表面的表面积至少大两倍。

7. 发明专利

TW201825232A 用於化學機械研磨的即時輪廓控制审中-公开
简体标题：用于化学机械研磨的实时轮廓控制
公开(公告)号：TW201825232A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106134486
申请日：2017-10-06
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沈世豪 , SHEN, SHIH-HAUR , 許昆 , XU, KUN , 劉芷宇 , LIU, TZU-YU
IPC分类号： B24B37/04 , B24B49/00
摘要：一種控制一基板的處理的方法包含以下步驟：基於來自一原位監控系統的一訊號，分別地產生表示在基板上的一參考區域的物理特性的第一序列的表徴值和表示在基板上的一控制區域的物理特性的第二序列的表徴值。一參考區域變率和一控制區域變率係分別地從第一序列的表徴值和第二序列的表徴值中決定的。一誤差值係藉由將針對於該參考區域的表徴值與針對於該控制區域的表徴值作比較來決定。針對於該控制區域的一輸出參數值係使用一比例-積分-微分控制演算法且基於至少該誤差值和一動態標稱控制區域值來產生，及該動態標稱控制區域值係基於至少該參考區域變率和該控制區域變率而在一第二控制迴路中產生。基板的該控制區域係根據輸出參數值來進行處理。
简体摘要：一种控制一基板的处理的方法包含以下步骤：基于来自一原位监控系统的一信号，分别地产生表示在基板上的一参考区域的物理特性的第一串行的表徴值和表示在基板上的一控制区域的物理特性的第二串行的表徴值。一参考区域变率和一控制区域变率系分别地从第一串行的表徴值和第二串行的表徴值中决定的。一误差值系借由将针对于该参考区域的表徴值与针对于该控制区域的表徴值作比较来决定。针对于该控制区域的一输出参数值系使用一比例-积分-微分控制算法且基于至少该误差值和一动态标称控制区域值来产生，及该动态标称控制区域值系基于至少该参考区域变率和该控制区域变率而在一第二控制回路中产生。基板的该控制区域系根据输出参数值来进行处理。

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