专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201812083A 用於控制氣體流至製程腔室的方法及裝置审中-公开
简体标题：用于控制气体流至制程腔室的方法及设备
公开(公告)号：TW201812083A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106127275
申请日：2017-08-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：恩蓋葉安德魯 , NGUYEN, ANDREW , 常雪 , CHANG, XUE
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/67
CPC分类号： G05D16/2066 , B01D53/92 , C23C16/45561 , G05D16/208 , H01J37/32 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32899
摘要：此處揭露用於控制氣體流至處理腔室之方法及裝置。在某些實施例中，一種處理系統包括第一處理腔室，該第一處理腔室具有第一氣體輸入；第一氣體止斷器，該第一氣體止斷器佈置於第一氣體輸入的上游；第一可調整閥門，該第一可調整閥門佈置於第一氣體止斷器的上游；及第一隔絕閥門，該第一隔絕閥門佈置於第一可調整閥門的上游。處理系統可進一步包括第二處理腔室，該第二處理腔室具有第二氣體輸入；第二氣體止斷器，該第二氣體止斷器佈置於第二氣體輸入的上游；第二可調整閥門，該第二可調整閥門佈置於第二氣體止斷器的上游；及第二隔絕閥門，該第二隔絕閥門佈置於第二可調整閥門的上游。共同氣源可佈置於第一隔絕閥門及第二隔絕閥門的上游，以將一或更多氣體提供至第一處理腔室且提供至第二處理腔室。
简体摘要：此处揭露用于控制气体流至处理腔室之方法及设备。在某些实施例中，一种处理系统包括第一处理腔室，该第一处理腔室具有第一气体输入；第一气体止断器，该第一气体止断器布置于第一气体输入的上游；第一可调整阀门，该第一可调整阀门布置于第一气体止断器的上游；及第一隔绝阀门，该第一隔绝阀门布置于第一可调整阀门的上游。处理系统可进一步包括第二处理腔室，该第二处理腔室具有第二气体输入；第二气体止断器，该第二气体止断器布置于第二气体输入的上游；第二可调整阀门，该第二可调整阀门布置于第二气体止断器的上游；及第二隔绝阀门，该第二隔绝阀门布置于第二可调整阀门的上游。共同气源可布置于第一隔绝阀门及第二隔绝阀门的上游，以将一或更多气体提供至第一处理腔室且提供至第二处理腔室。

2. 实用新型

TWM599473U 處理工具有权
简体标题：处理工具
公开(公告)号：TWM599473U
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW108213480
申请日：2019-05-02
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：恩蓋葉安德魯 , NGUYEN, ANDREW , 比許瓦那尤甘南達薩羅德 , VISHWANATH, YOGANANDA SARODE , 常雪 , CHANG, XUE
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/683 , H01L21/302 , H01L21/02

3. 实用新型

TWM597508U 減低聚合物沉積的設備有权
简体标题：减低聚合物沉积的设备
公开(公告)号：TWM597508U
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108216195
申请日：2019-12-05
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：阮安卓 , NGUYEN, ANDREW , 常雪 , CHANG, XUE , 羅夫沙西德 , RAUF, SHAHID , 肯尼傑森A , KENNEY, JASON A.
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/3065

4. 实用新型

TWM590776U 處理工具及流導調節系統有权
简体标题：处理工具及流导调节系统
公开(公告)号：TWM590776U
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW108205411
申请日：2019-05-02
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：恩蓋葉安德魯 , NGUYEN, ANDREW , 比許瓦那尤甘南達薩羅德 , VISHWANATH, YOGANANDA SARODE , 常雪 , CHANG, XUE
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/683 , H01L21/302 , H01L21/02

5. 实用新型

TWM590308U 用於減少電漿蝕刻腔室中的污染的設備有权
简体标题：用于减少等离子蚀刻腔室中的污染的设备
公开(公告)号：TWM590308U
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW108207555
申请日：2019-06-14
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：常雪 , CHANG, XUE , 阮安卓 , NGUYEN, ANDREW
IPC分类号： H01L21/3065

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式