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1. 发明专利

TWI663668B 監控光學微影系統的系統及方法有权
简体标题：监控光学微影系统的系统及方法
公开(公告)号：TWI663668B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW107114373
申请日：2018-04-27
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：多羅班特安德烈 , DOROBANTU, ANDREI , 葛拉漢馬修萊恩 , GRAHAM, MATTHEW RYAN , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： H01L21/66 , G06K9/62 , G03F7/20 , H01J37/06

2. 发明专利

TW202004353A 脈衝光束之光譜特徵選擇及脈衝時序控制审中-公开
简体标题：脉冲光束之光谱特征选择及脉冲时序控制
公开(公告)号：TW202004353A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108108807
申请日：2019-03-15
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/10
摘要：本發明提供一種方法，該方法包括：在以一脈衝重複率產生一脈衝叢發時，以與該脈衝重複率相關之一頻率在一組離散狀態中驅動一光譜特徵調整器；及在該等脈衝叢發之該產生之間(在無脈衝產生時)，根據由一組參數定義之一驅動信號驅動該光譜特徵調整器。每一離散狀態對應於一光譜特徵之一離散值。該方法包括藉由調整以下各者中之一或多者確保當下一叢發中之一脈衝產生時該光譜特徵調整器在對應於經放大光束之該光譜特徵之一離散值的該等離散狀態中之一者中：至微影曝光設備之一指令、至該光譜特徵調整器之該驅動信號，及/或至光學源之該指令。
简体摘要：本发明提供一种方法，该方法包括：在以一脉冲重复率产生一脉冲丛发时，以与该脉冲重复率相关之一频率在一组离散状态中驱动一光谱特征调整器；及在该等脉冲丛发之该产生之间(在无脉冲产生时)，根据由一组参数定义之一驱动信号驱动该光谱特征调整器。每一离散状态对应于一光谱特征之一离散值。该方法包括借由调整以下各者中之一或多者确保当下一丛发中之一脉冲产生时该光谱特征调整器在对应于经放大光束之该光谱特征之一离散值的该等离散状态中之一者中：至微影曝光设备之一指令、至该光谱特征调整器之该驱动信号，及/或至光学源之该指令。

3. 发明专利

TW201702760A 脈衝光束之光譜特徵控制审中-公开
简体标题：脉冲光束之光谱特征控制
公开(公告)号：TW201702760A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105117663
申请日：2016-06-03
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 歐布萊恩凱文邁可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2006 , G01B11/02 , G01J3/12 , G02B26/007 , G03F7/70 , G03F7/70141 , G03F7/70575 , H01S3/10 , H01S3/104 , H01S3/11
摘要：本發明係關於一種系統，其包括：經耦接至一光學源之一第一可致動設備之一第一致動模組，該第一可致動設備係由該第一致動模組更改以調整脈衝光束之光譜特徵；經耦接至該光學源之一第二可致動設備之一第二致動模組，該第二可致動設備係由該第二致動模組更改以調整該脈衝光束之該光譜特徵；以及一控制系統，其經組態以接收關於該第一可致動設備之操作狀態之一指示，且將一信號發送至該第二致動模組以調整該脈衝光束之該光譜特徵，從而基於該第一可致動設備之該操作狀態來防止該第一可致動設備飽和，或在該第一可致動設備係飽和的情況下，將該第一可致動設備去飽和。
简体摘要：本发明系关于一种系统，其包括：经耦接至一光学源之一第一可致动设备之一第一致动模块，该第一可致动设备系由该第一致动模块更改以调整脉冲光束之光谱特征；经耦接至该光学源之一第二可致动设备之一第二致动模块，该第二可致动设备系由该第二致动模块更改以调整该脉冲光束之该光谱特征；以及一控制系统，其经组态以接收关于该第一可致动设备之操作状态之一指示，且将一信号发送至该第二致动模块以调整该脉冲光束之该光谱特征，从而基于该第一可致动设备之该操作状态来防止该第一可致动设备饱和，或在该第一可致动设备系饱和的情况下，将该第一可致动设备去饱和。

4. 发明专利

TWI543482B 兩腔室氣體放電雷射系統中自動氣體最佳化之系統及方法有权
简体标题：两腔室气体放电激光系统中自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TWI543482B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW101123021
申请日：2012-06-27
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文M , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 索恩斯約書亞J , THORNES, JOSHUA JON , 萊格斯丹尼爾J , RIGGS, DANIEL JASON , 江銳 , JIANG, RUI
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/2251 , H01S3/2366

5. 发明专利

TWI606311B 脈衝光束之光譜特徵控制有权
简体标题：脉冲光束之光谱特征控制
公开(公告)号：TWI606311B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW105117663
申请日：2016-06-03
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 歐布萊恩凱文邁可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2006 , G01B11/02 , G01J3/12 , G02B26/007 , G03F7/70 , G03F7/70141 , G03F7/70575 , H01S3/10 , H01S3/104 , H01S3/11

6. 发明专利

TWI625509B 用於雷射源之線上校準的系統及方法有权
简体标题：用于激光源之在线校准的系统及方法
公开(公告)号：TWI625509B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13

7. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

9. 发明专利

TW201721294A 微影設備及方法审中-公开
简体标题：微影设备及方法
公开(公告)号：TW201721294A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105130553
申请日：2016-09-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 歐普特羅特威黑墨斯派翠克伊麗莎白瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 薩能禮昂彼特保羅 , SAANEN, LEON PIETER PAUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70066 , G03F7/70525
摘要：本發明提供一種控制一輻射源之輸出之方法，該方法包括：週期性地監視該輻射源之一輸出能量；判定一參考能量信號與該所監視輸出能量之間的一差；判定一回饋值；判定針對一後續時間段的該輻射源之一所要輸出能量；及取決於在該後續時間段期間之該所判定所要輸出能量而控制該輻射源之一輸入參數。若該輻射源之該所監視輸出能量與該參考能量信號之間的該所判定差之量值超過一臨限值，則：該所判定差不貢獻於該回饋值；且遍及該後續時間段根據一參考能量信號調整量變曲線而散佈該所判定差，且針對該後續時間段將該參考能量信號調整量變曲線加至該參考能量信號。
简体摘要：本发明提供一种控制一辐射源之输出之方法，该方法包括：周期性地监视该辐射源之一输出能量；判定一参考能量信号与该所监视输出能量之间的一差；判定一回馈值；判定针对一后续时间段的该辐射源之一所要输出能量；及取决于在该后续时间段期间之该所判定所要输出能量而控制该辐射源之一输入参数。若该辐射源之该所监视输出能量与该参考能量信号之间的该所判定差之量值超过一临限值，则：该所判定差不贡献于该回馈值；且遍及该后续时间段根据一参考能量信号调整量变曲线而散布该所判定差，且针对该后续时间段将该参考能量信号调整量变曲线加至该参考能量信号。

10. 发明专利

TWI542098B 兩腔室氣體放電雷射系統中高精度氣體再填充的系統及方法有权
简体标题：两腔室气体放电激光系统中高精度气体再填充的系统及方法
公开(公告)号：TWI542098B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW101123026
申请日：2012-06-27
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：江銳 , JIANG, RUI , 索恩斯約書亞J , THORNES, JOSHUA JON , 萊格斯丹尼爾J , RIGGS, DANIEL JASON , 歐布萊恩凱文M , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： H01S3/036
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/22 , H01S3/225 , H01S3/2308 , H01S3/2366

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