专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201833677A 在DUV光源中用於逐一脈波(PULSE-BY-PULSE)波長目標追蹤之波長控制系統审中-公开
简体标题：在DUV光源中用于逐一脉波(PULSE-BY-PULSE)波长目标追踪之波长控制系统
公开(公告)号：TW201833677A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106141136
申请日：2017-11-27
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/08 , H01S3/106 , H01S3/11
摘要：步進式掃描器中之晶圓定位誤差造成成像缺陷。改變光源產生光之波長可補償Z方向上之晶圓位置誤差。判定晶圓之即時z位置且將抵消此誤差之波長目標之一改變傳達至該光源。除接收用於一後續雷射脈波叢發的新指定之雷射波長目標外，該光源亦在一前饋操作中且在一實施例中結合現有回饋操作，針對一當前脈波叢發中之後續脈波在逐一脈波基礎上使用波長目標之此改變。
简体摘要：步进式扫描仪中之晶圆定位误差造成成像缺陷。改变光源产生光之波长可补偿Z方向上之晶圆位置误差。判定晶圆之实时z位置且将抵消此误差之波长目标之一改变传达至该光源。除接收用于一后续激光脉波丛发的新指定之激光波长目标外，该光源亦在一前馈操作中且在一实施例中结合现有回馈操作，针对一当前脉波丛发中之后续脉波在逐一脉波基础上使用波长目标之此改变。

2. 发明专利

TW201920936A 在氣體放電光源中之氟偵測审中-公开
简体标题：在气体放电光源中之氟侦测
公开(公告)号：TW201920936A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133095
申请日：2018-09-20
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 羅思齊 , LUO, EDWARD SIQI , 佩德瑪邦度甘瑪萊拉拉吉 G , PADMABANDU, GAMARALALAGE G
IPC分类号： G01N21/3504 , G01N1/22
摘要：本發明係關於一種設備，包括：一氣體維持系統，其具有流體地連接至一或多個氣體放電室之一氣體供應系統；一偵測設備，其流體地連接至每個氣體放電室；以及一控制系統，其連接至該氣體維持系統及該偵測設備。該偵測設備包括：界定一反應空腔之一容器，其容納一金屬氧化物且流體地連接至該氣體放電室以用於接收包括該反應空腔中來自該氣體放電室之氟之混合氣體，該容器實現所接收到之混合氣體中之氟與該金屬氧化物之間的一反應以形成包括氧氣之一新氣體混合物；及一氧氣感測器，其流體地連接至該新氣體混合物以感測該新氣體混合物內之氧氣之一量。該控制系統經組態以估計接收到之混合氣體中氟之一濃度。
简体摘要：本发明系关于一种设备，包括：一气体维持系统，其具有流体地连接至一或多个气体放电室之一气体供应系统；一侦测设备，其流体地连接至每个气体放电室；以及一控制系统，其连接至该气体维持系统及该侦测设备。该侦测设备包括：界定一反应空腔之一容器，其容纳一金属氧化物且流体地连接至该气体放电室以用于接收包括该反应空腔中来自该气体放电室之氟之混合气体，该容器实现所接收到之混合气体中之氟与该金属氧化物之间的一反应以形成包括氧气之一新气体混合物；及一氧气传感器，其流体地连接至该新气体混合物以传感该新气体混合物内之氧气之一量。该控制系统经组态以估计接收到之混合气体中氟之一浓度。

3. 发明专利

TWI652554B 在DUV光源中用於逐一脈波(PULSE-BY-PULSE)波長目標追蹤之波長控制系統有权
简体标题：在DUV光源中用于逐一脉波(PULSE-BY-PULSE)波长目标追踪之波长控制系统
公开(公告)号：TWI652554B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106141136
申请日：2017-11-27
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/08 , H01S3/106 , H01S3/11

4. 发明专利

TWI629705B 氣體放電光源及用於操作該氣體放電光源的方法有权
简体标题：气体放电光源及用于操作该气体放电光源的方法
公开(公告)号：TWI629705B
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：TW105140607
申请日：2016-12-08
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01J61/12 , H01J61/28

5. 发明专利

TWI696821B 在氣體放電光源中之氟偵測有权
简体标题：在气体放电光源中之氟侦测
公开(公告)号：TWI696821B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW107133095
申请日：2018-09-20
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 羅思齊 , LUO, EDWARD SIQI , 佩德瑪邦度甘瑪萊拉拉吉 G , PADMABANDU, GAMARALALAGE G
IPC分类号： G01N21/3504 , G01N1/22

6. 发明专利

TW201702760A 脈衝光束之光譜特徵控制审中-公开
简体标题：脉冲光束之光谱特征控制
公开(公告)号：TW201702760A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105117663
申请日：2016-06-03
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 歐布萊恩凱文邁可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2006 , G01B11/02 , G01J3/12 , G02B26/007 , G03F7/70 , G03F7/70141 , G03F7/70575 , H01S3/10 , H01S3/104 , H01S3/11
摘要：本發明係關於一種系統，其包括：經耦接至一光學源之一第一可致動設備之一第一致動模組，該第一可致動設備係由該第一致動模組更改以調整脈衝光束之光譜特徵；經耦接至該光學源之一第二可致動設備之一第二致動模組，該第二可致動設備係由該第二致動模組更改以調整該脈衝光束之該光譜特徵；以及一控制系統，其經組態以接收關於該第一可致動設備之操作狀態之一指示，且將一信號發送至該第二致動模組以調整該脈衝光束之該光譜特徵，從而基於該第一可致動設備之該操作狀態來防止該第一可致動設備飽和，或在該第一可致動設備係飽和的情況下，將該第一可致動設備去飽和。
简体摘要：本发明系关于一种系统，其包括：经耦接至一光学源之一第一可致动设备之一第一致动模块，该第一可致动设备系由该第一致动模块更改以调整脉冲光束之光谱特征；经耦接至该光学源之一第二可致动设备之一第二致动模块，该第二可致动设备系由该第二致动模块更改以调整该脉冲光束之该光谱特征；以及一控制系统，其经组态以接收关于该第一可致动设备之操作状态之一指示，且将一信号发送至该第二致动模块以调整该脉冲光束之该光谱特征，从而基于该第一可致动设备之该操作状态来防止该第一可致动设备饱和，或在该第一可致动设备系饱和的情况下，将该第一可致动设备去饱和。

7. 发明专利

TW201626114A 光學源中干擾之補償审中-公开
简体标题：光学源中干扰之补偿
公开(公告)号：TW201626114A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104141170
申请日：2015-12-08
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01S3/104 , H01S3/036 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308 , H01S2301/02
摘要：接收自一光學源發射之一脈衝式光束，該脈衝式光束係與一時間重複率相關聯；判定該光學源中之一干擾之一頻率，該頻率為隨該脈衝式光束之該時間重複率變化之一混疊頻率；基於該混疊頻率來產生一校正波形；及藉由基於該所產生之校正波形修改該脈衝式光束之一特性來補償該光學源中之該干擾。
简体摘要：接收自一光学源发射之一脉冲式光束，该脉冲式光束系与一时间重复率相关联；判定该光学源中之一干扰之一频率，该频率为随该脉冲式光束之该时间重复率变化之一混叠频率；基于该混叠频率来产生一校正波形；及借由基于该所产生之校正波形修改该脉冲式光束之一特性来补偿该光学源中之该干扰。

8. 发明专利

TWI606311B 脈衝光束之光譜特徵控制有权
简体标题：脉冲光束之光谱特征控制
公开(公告)号：TWI606311B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW105117663
申请日：2016-06-03
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 歐布萊恩凱文邁可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2006 , G01B11/02 , G01J3/12 , G02B26/007 , G03F7/70 , G03F7/70141 , G03F7/70575 , H01S3/10 , H01S3/104 , H01S3/11

9. 发明专利

TWI600993B 光學源之波長穩定化有权
简体标题：光学源之波长稳定化
公开(公告)号：TWI600993B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105110381
申请日：2016-03-31
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL
IPC分类号： G05D25/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70041 , H01S3/0971 , H01S3/1305 , H01S3/137

10. 发明专利

TW201730914A 於氣體放電光源中的氣體混合控制审中-公开
简体标题：于气体放电光源中的气体混合控制
公开(公告)号：TW201730914A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105140607
申请日：2016-12-08
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01J61/12 , H01J61/28
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0014 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/104 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2253 , H01S3/2255 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308
摘要：本發明提供一種氣體放電光源，其包括包括一或多個氣體放電室之一氣體放電系統。以一各別氣體混合物填充該氣體放電系統中之該等氣體放電室中的每一者。對於各氣體放電室，藉由啟動脈衝能量之相關聯能量源來將一脈衝能量供應至該各別氣體混合物，以藉此自該氣體放電室產生一經脈衝放大光束。判定該氣體放電系統之一或多個性質。基於該氣體放電系統之該所判定一或多個性質而自複數個可能方案當中選擇一氣體維持方案。將該所選氣體維持方案應用於該氣體放電系統。一氣體維持方案包括與將一或多個補充氣體混合物添加至該氣體放電系統之該氣體放電室相關的一或多個參數。
简体摘要：本发明提供一种气体放电光源，其包括包括一或多个气体放电室之一气体放电系统。以一各别气体混合物填充该气体放电系统中之该等气体放电室中的每一者。对于各气体放电室，借由启动脉冲能量之相关联能量源来将一脉冲能量供应至该各别气体混合物，以借此自该气体放电室产生一经脉冲放大光束。判定该气体放电系统之一或多个性质。基于该气体放电系统之该所判定一或多个性质而自复数个可能方案当中选择一气体维持方案。将该所选气体维持方案应用于该气体放电系统。一气体维持方案包括与将一或多个补充气体混合物添加至该气体放电系统之该气体放电室相关的一或多个参数。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式