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1. 发明专利

JP2016147348A ゼータ電位制御法を用いた処理方法有权
标题翻译：使用ZETA潜在控制方法的处理方法
公开(公告)号：JP2016147348A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：JP2015025880
申请日：2015-02-12
申请人：秋田県 , 国立大学法人秋田大学
发明人：赤上陽一 , 中村竜太 , 久住孝幸 , 池田洋 , 佐藤安弘 , 南谷佳弘 , 南條博
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/015
摘要：【課題】本発明は、分散溶液のゼータ電位を制御する新たな方法を開発することを目的とする。【解決手段】本発明は、溶媒中に粒子が分散した分散溶液のゼータ電位を制御するゼータ電位制御方法において、20Hz〜1kHzの周波数で変動する電界を分散溶液に印加することで、分散溶液のゼータ電位の絶対値を高めることを特徴とするゼータ電位制御方法を提供する。また、本発明は、このゼータ電位制御方法を応用した反応方法、処理方法、洗浄方法、研磨方法、分散溶液製造方法、ゼータ電位制御装置、及び研磨装置を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：开发一种控制分散溶液的ζ电位的新方法。解决方案：ζ电位控制方法控制分散溶液中的ζ电位，其中颗粒分散在溶液中。 ζ电位控制方法将分散溶液的ζ电位的绝对值增加到20Hz至1kHz的频率的电场。本发明应用ζ电位控制方法提供反应方法，处理方法，清洗方法，抛光方法，分散溶液制备方法，ζ电位控制装置和抛光装置。图1：

2. 发明专利

JP5891320B1 ゼータ電位制御法を用いた処理方法有权
标题翻译：使用ζ电位控制方法的处理方法
公开(公告)号：JP5891320B1
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2015025880
申请日：2015-02-12
申请人：秋田県 , 国立大学法人秋田大学
发明人：赤上陽一 , 中村竜太 , 久住孝幸 , 池田洋 , 佐藤安弘 , 南谷佳弘 , 南條博
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/015
摘要：【課題】本発明は、分散溶液のゼータ電位を制御する新たな方法を開発することを目的とする。【解決手段】本発明は、溶媒中に粒子が分散した分散溶液のゼータ電位を制御するゼータ電位制御方法において、20Hz〜1kHzの周波数で変動する電界を分散溶液に印加することで、分散溶液のゼータ電位の絶対値を高めることを特徴とするゼータ電位制御方法を提供する。また、本発明は、このゼータ電位制御方法を応用した反応方法、処理方法、洗浄方法、研磨方法、分散溶液製造方法、ゼータ電位制御装置、及び研磨装置を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：本发明公开的目的是开发控制分散液的ζ电位的新方法。本发明涉及，在ζ电位控制方法，用于控制所述分散溶液中的粒子的ζ电势被分散在溶剂中，通过施加电场在为20Hz〜1kHz时的频率变化的分散液，分散液提供其特征在于增加的Zeta电位的绝对值ζ电位控制方法。此外，本发明是将所述zeta电位控制方法，处理方法，洗涤法，抛光法，以提供分散液的生产过程中，ζ电势控制装置，以及一个研磨装置的反应方法。点域1

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