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    • 2. 发明专利
    • 研磨材および研磨方法
    • 抛光材料和抛光方法
    • JP2015174985A
    • 2015-10-05
    • JP2014054845
    • 2014-03-18
    • 秋田県一般財団法人ファインセラミックスセンター株式会社 斉藤光学製作所
    • 赤上 陽一久住 孝幸中村 竜太川原 浩一鈴木 俊正須田 聖一齊藤 伸英
    • H01L21/304B24B1/00C09K3/14
    • 【課題】電界印加研磨技術に特化した研磨材であり、高い電界印加効果を実現することができる研磨材及び研磨方法の提供。 【解決手段】研磨定盤と被研磨部材との間に供給されると共に電圧が印加され、電圧によって生じた電界によって研磨定盤と被研磨部材との間に引き寄せられる砥粒及び分散媒が含まれた研磨材において、誘電率が分散媒よりも高いコア材料を、被研磨部材に対する単位時間当たりの研磨量(研磨レート)がコア材料よりも高いシェル材料で被覆した複合化研磨材。前記コア材料がチタン金属複合酸化物であり、SrTiO 3 及び/又はBaTiO 3 であり、シェル材料は酸化物、炭化物、窒化物、硼化物、ダイヤモンドから選択される一種又は二種以上の材料である 【選択図】図3
    • 要解决的问题:提供专门用于电场应用抛光技术并且可以实现高电场施加效果的抛光材料,并提供抛光方法。解决方案:提供一种抛光材料 馈送在抛光表台和待抛光构件之间,并且施加电压,抛光材料包括磨粒和通过电压产生的电场而在抛光表台和待抛光构件之间绘制的分散剂。 抛光材料是复合抛光材料,其中具有比分散剂更高的介电常数的芯材料被涂覆有相对于待抛光的部件具有比单芯时间更高的抛光量(抛光速率)的外壳材料 材料。 核心材料是钛金属复合氧化物和SrTiO和/或BaTiO,壳材料是选自氧化物,碳化物,氮化物,硼化物和金刚石中的至少一种材料。