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1. 发明专利

TWI497106B 抗反射膜及使用它之偏光板有权
公开(公告)号：TWI497106B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099115222
申请日：2010-05-13
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：泉達矢 , IZUMI, TATSUYA , 所司悟 , SHOSHI, SATORU , 岩田智 , IWATA, TOMO , 古川淳 , FURUKAWA, JUN
IPC分类号： G02B1/11 , C09D5/33 , G02B5/30

2. 发明专利

TWI489130B 防眩性硬被覆膜及使用它之偏光板有权
公开(公告)号：TWI489130B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW099115223
申请日：2010-05-13
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：泉達矢 , IZUMI, TATSUYA , 佐佐木遼 , SASAKI, HARUKA , 所司悟 , SHOSHI, SATORU , 岩田智 , IWATA, TOMO , 古川淳 , FURUKAWA, JUN
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/02 , G02B5/30

3. 发明专利

TWI453474B 防眩性硬被覆膜及使用它之偏光板有权
公开(公告)号：TWI453474B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW098110031
申请日：2009-03-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：泉達矢 , IZUMI, TATSUYA , 所司悟 , SHOSHI, SATORU , 岩田智 , IWATA, TOMO , 古川淳 , FURUKAWA, JUN , 古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02B1/12 , G02B5/3025 , G02F2201/38

4. 发明专利

TWI672531B 偏光板有权
公开(公告)号：TWI672531B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW104143772
申请日：2015-12-25
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 岩田智 , IWATA, TOMO , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/12

5. 发明专利

TWI672530B 偏光板有权
公开(公告)号：TWI672530B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW104143762
申请日：2015-12-25
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA , 岩田智 , IWATA, TOMO
IPC分类号： G02B5/30

6. 发明专利

TW201809034A 偏光膜审中-公开
公开(公告)号：TW201809034A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106126545
申请日：2017-08-07
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：岩田智 , IWATA, TOMO , 濱松浩 , HAMAMATSU, HIROSHI
IPC分类号： C08F16/06 , G02B5/30 , G02F1/1335 , C08J5/18
摘要：本發明之目的在於提供一種提高在反覆高溫與低溫之環境下之強度之偏光膜。本發明之偏光膜係以聚乙烯醇系樹脂作為形成材料，且具有二色性物質，其中，該偏光膜之藉由廣角X射線繞射法所測定之在方位角分布中的定向度為81.0%以上。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种提高在反复高温与低温之环境下之强度之偏光膜。本发明之偏光膜系以聚乙烯醇系树脂作为形成材料，且具有二色性物质，其中，该偏光膜之借由广角X射线绕射法所测定之在方位角分布中的定向度为81.0%以上。

7. 发明专利

TW201629550A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201629550A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104143772
申请日：2015-12-25
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：阪上智恵 , SAKAUE, CHIE , 岩田智 , IWATA, TOMO , 中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/12
摘要：本發明係提供一種偏光板，其係依序包含第1保護膜、第1接著劑層、偏光膜、第2接著劑層及第2保護膜，其第1接著劑層於80℃之貯存彈性率為0.1MPa以上、未達800MPa，第2接著劑層於80℃之貯存彈性率為800MPa以上、未達10000MPa。
简体摘要：本发明系提供一种偏光板，其系依序包含第1保护膜、第1接着剂层、偏光膜、第2接着剂层及第2保护膜，其第1接着剂层于80℃之贮存弹性率为0.1MPa以上、未达800MPa，第2接着剂层于80℃之贮存弹性率为800MPa以上、未达10000MPa。

8. 发明专利

TW201610463A 偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201610463A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104123665
申请日：2015-07-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：久米悦夫 , KUME, ETSUO , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI , 岩田智 , IWATA, TOMO
IPC分类号： G02B1/08 , B29C65/14 , B29K29/00
摘要：本發明提供一種偏光膜與保護膜的接著性佳的偏光板之製造方法。偏光板之製造方法係在具有碘或二色性染料吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜之偏光膜的至少單面，藉由紫外線硬化型接著劑，貼合由熱塑性樹脂所形成的保護膜而製造偏光板的方法，其特徵為具備：使前述保護膜與水接觸的步驟(a)；選自經過前述步驟(a)的保護膜及偏光膜中的至少一膜上，形成由紫外線硬化型接著劑所構成的接著劑層的步驟(b)；隔著前述接著劑層而使保護膜及偏光膜積層，以得到積層膜的步驟(c)；以及對前述積層膜照射紫外線，而使接著劑層硬化的步驟(d)。
简体摘要：本发明提供一种偏光膜与保护膜的接着性佳的偏光板之制造方法。偏光板之制造方法系在具有碘或二色性染料吸附配向于聚乙烯醇系树脂膜之偏光膜的至少单面，借由紫外线硬化型接着剂，贴合由热塑性树脂所形成的保护膜而制造偏光板的方法，其特征为具备：使前述保护膜与水接触的步骤(a)；选自经过前述步骤(a)的保护膜及偏光膜中的至少一膜上，形成由紫外线硬化型接着剂所构成的接着剂层的步骤(b)；隔着前述接着剂层而使保护膜及偏光膜积层，以得到积层膜的步骤(c)；以及对前述积层膜照射紫外线，而使接着剂层硬化的步骤(d)。

9. 发明专利

TW201319638A 偏光板的製造方法审中-公开
简体标题：偏光板的制造方法
公开(公告)号：TW201319638A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101135251
申请日：2012-09-26
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED , 富士機械工業股份有限公司 , FUJI KIKAI KOGYO CO., LTD.
发明人：古川淳 , FURUKAWA, JUN , 廣岩梓 , HIROIWA, AZUSA , 岩田智 , IWATA, TOMO , 富永保昌 , TOMINAGA, YASUMASA , 三浦秀宣 , MIURA, HIDENOBU
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/305 , B32B27/306 , B32B37/203 , B32B2037/1253 , B32B2307/42 , B32B2309/105 , B32B2309/14 , B32B2309/65 , B32B2310/0831 , B32B2457/202 , B32B2551/00
摘要：本發明之偏光板的製造方法，其係包含如下步驟：對聚乙烯醇系樹脂薄膜實施染色處理、硼酸處理及單軸延伸處理而製作偏光膜之步驟；於透明薄膜之單面塗佈活性能量線硬化型的接著劑之步驟；使用貼合輥輪挾住而將前述透明薄膜之塗佈有前述接著劑之面貼合於前述偏光膜之單面或雙面，以製作層合體之步驟；以及對前述層合體照射活性能量線，以製作偏光板之步驟，其中，製作前述層合體之步驟為一邊減少貼合之前的前述偏光膜與前述透明薄膜之間的區域之風壓一邊進行。
简体摘要：本发明之偏光板的制造方法，其系包含如下步骤：对聚乙烯醇系树脂薄膜实施染色处理、硼酸处理及单轴延伸处理而制作偏光膜之步骤；于透明薄膜之单面涂布活性能量线硬化型的接着剂之步骤；使用贴合辊轮挟住而将前述透明薄膜之涂布有前述接着剂之面贴合于前述偏光膜之单面或双面，以制作层合体之步骤；以及对前述层合体照射活性能量线，以制作偏光板之步骤，其中，制作前述层合体之步骤为一边减少贴合之前的前述偏光膜与前述透明薄膜之间的区域之风压一边进行。

10. 发明专利

TWI669571B 光硬化性接著劑組成物、偏光板及其製造法、光學構件及液晶顯示裝置有权
简体标题：光硬化性接着剂组成物、偏光板及其制造法、光学构件及液晶显示设备
公开(公告)号：TWI669571B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW103145194
申请日：2014-12-24
申请人：日商東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：稻田和正 , INATA, KAZUMASA , 淺野洋一 , ASANO, YOICHI , 望月克信 , MOCHIZUKI, KATSUNOBU , 岡崎榮一 , OKAZAKI, EIICHI , 岩田智 , IWATA, TOMO , 藤田政大 , FUJITA, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/028 , C09D133/06 , C09D171/08 , C09D163/00 , G02B5/30 , G02B1/10 , G02F1/1335

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