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1. 发明申请

WO2007132700A1 パターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成方法
公开(公告)号：WO2007132700A1
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：PCT/JP2007/059522
申请日：2007-05-08
申请人：株式会社東芝 , 斉藤三長 , 真常泰 , 田島義浩 , 石井浩一 , 細矢雅弘 , 高橋健
发明人：斉藤三長 , 真常泰 , 田島義浩 , 石井浩一 , 細矢雅弘 , 高橋健
IPC分类号： G09F9/00 , G02B5/20 , H01J9/227 , H01L21/3205 , H05K3/12
CPC分类号： G02B5/201 , H05K3/207 , H05K2203/0113 , H05K2203/105 , H05K2203/1142
摘要： Patterns (27, 28, 29) developed on an intaglio plate are transferred onto an electrode layer (32) on a side of a surface (31a) facing a medium (31) to which the patterns are to be transferred, then, the work is heated and the electrode layer (32) is eliminated or permitted to have high resistance in the baking furnace (40), by using the intaglio plate for holding the patterns by a developer, a transfer apparatus for transferring the patterns (27, 28, 29) developed on the intaglio plate onto the medium (31), and a baking furnace (40) for eliminating an electrode layer (32) or permitting the electrode layer to have high resistance.
摘要翻译：在凹版上显影的图案（27,28,29）被转印到面向要转印图案的介质（31）的表面（31a）侧的电极层（32）上，然后，工件被加热，并且通过使用用于由显影剂保持图案的凹版来消除或允许在烘焙炉（40）中具有高电阻的电极层（32），用于传送图案（27,28,28）的转印装置 29）开发在介质（31）上的凹版上，以及用于消除电极层（32）或允许电极层具有高电阻的烘烤炉（40）。

2. 发明申请

WO2007119291A1 版、この版を用いたパターン形成装置、およびパターン形成方法审中-公开
标题翻译：板，使用板的绘图设备和方式
公开(公告)号：WO2007119291A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/053283
申请日：2007-02-22
申请人：株式会社東芝 , 八木均 , 細矢雅弘 , 石井浩一 , 斉藤三長 , 高橋健
发明人：八木均 , 細矢雅弘 , 石井浩一 , 斉藤三長 , 高橋健
IPC分类号： H05K3/12 , B41F17/14 , B41F35/00 , B41M1/10 , G02B5/20 , G03G15/05 , G03G15/10 , G09F9/00
CPC分类号： G02B5/201 , B41F17/24 , H05K3/1266 , H05K3/207 , H05K2203/0117 , H05K2203/0143 , H05K2203/0285 , H05K2203/0517
摘要：　パターン形成装置は、高抵抗層１５にパターン状の凹部１５ａを有するパターン形成用原版１を有する。凹部１５ａに集めた蛍光体粒子をガラス板Ｍに転写するとき、個別電極１４ｒ、１４ｇ、１４ｂと転写ローラ３との間に電界を形成するとともに、共通電極１２に高周波電圧を印加して個別電極１４ｒ、１４ｇ、１４ｂとの間に電圧をかけ、圧電体層１３から超音波を発生させる。
摘要翻译：图案形成装置包括在高电阻层（15）中具有图案化凹部（15a）的图案化原版（1）。当将收集在凹部（15a）中的荧光体粒子转移到玻璃板（M）时，在分立电极（14r，14g，14b）和转印辊（3）之间形成电场，施加高频电压到公共电极（12），以在公共电极（12）和分立电极（14r，14g，14b）之间施加电压，从而从压电层（13）产生超声波。

3. 发明申请

WO2007111087A1 パターン形成装置、パターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：WO2007111087A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：PCT/JP2007/054240
申请日：2007-03-06
申请人：株式会社東芝 , 高橋健 , 石井浩一 , 田島義浩 , 斉藤三長 , 細矢雅弘 , 平原祥子 , 川村信雄 , 八木均 , 中尾英之
发明人：高橋健 , 石井浩一 , 田島義浩 , 斉藤三長 , 細矢雅弘 , 平原祥子 , 川村信雄 , 八木均 , 中尾英之
IPC分类号： G03G15/22 , B05D1/06 , B41M1/10 , B41M1/42 , G02B5/20 , G03G15/10 , G03G15/16 , H01J9/227
CPC分类号： B41M1/42 , G03G15/1625
摘要：　トナー粒子５５のパターンを原版１の凹部１４ａからガラス板５に転写する際に、トナー粒子５５が凹部１４ａから良好に剥離してガラス板５に良好に転写されるように、現像工程において凹部１４ａに充填するトナー粒子５５の厚さを制御する。凹部１４ａに充填するトナー粒子層の厚さｔ２は、凹部１４ａの底からガラス板５までの距離Ｔよりわずかに大きな値まで許容する。
摘要翻译：在将调色剂颗粒（55）的图案从原版（1）的凹部（14a）转印到玻璃板（5）时，将要施加到凹部中的调色剂颗粒（55）的厚度控制显影过程中的这些调色剂颗粒（55a），并将其转印到玻璃板（5）上。作为施加在凹部（14a）中的调色剂颗粒层的厚度（t2），至少比从凹部（14a）的底部到玻璃板（5）的距离（T）稍大的值，被允许。

4. 发明申请

WO2007074640A1 パターン形成装置、およびパターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：WO2007074640A1
公开(公告)日：2007-07-05
申请号：PCT/JP2006/324776
申请日：2006-12-12
申请人：株式会社東芝 , 細矢雅弘 , 石井浩一 , 真常泰 , 斉藤三長 , 高橋健 , 八木均 , 田島義浩
发明人：細矢雅弘 , 石井浩一 , 真常泰 , 斉藤三長 , 高橋健 , 八木均 , 田島義浩
IPC分类号： B41M1/42 , B41F9/00 , B41M1/10 , G03G15/05 , G03G15/10 , H01L21/027
CPC分类号： G03G15/10 , B41M1/10 , G03G15/6591 , G03G2215/00523
摘要： A pattern forming apparatus (10) is provided with an engraved plate (1) having a pattern formed by recessed portions; developing apparatuses (2r, 2g, 2b), which form a first potential difference between the engraved plate and the apparatuses, supply the pattern with a liquid developer including charged fluorescent particles, aggregate the fluorescent particles in the recessed portions and develop the engraved plate; and a transfer roller (3), which forms a second potential difference in a status where the developed engraved plate faces a glass plate (M), and successively transfers the fluorescent particles aggregated in the recessed portions onto the glass plate (M).
摘要翻译：图案形成装置（10）具有由凹部形成的图案的雕刻板（1）在雕刻板和装置之间形成第一电位差的显影装置（2r，2g，2b）向具有包含带电荧光颗粒的液体显影剂供应图案，将该荧光颗粒聚集在凹陷部分中并显影雕刻板; 和转印辊（3），其在显影雕刻板面向玻璃板（M）的状态下形成第二电位差，并且将在凹部中聚集的荧光颗粒依次传送到玻璃板（M）上。

5. 发明申请

WO2008069148A1 パターン形成装置、およびパターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：WO2008069148A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：PCT/JP2007/073238
申请日：2007-11-30
申请人：株式会社東芝 , 田代重幸 , 廣澤大二 , 白井寛 , 細矢雅弘 , 斉藤三長 , 中尾英之 , 石井浩一 , 真常泰
发明人：田代重幸 , 廣澤大二 , 白井寛 , 細矢雅弘 , 斉藤三長 , 中尾英之 , 石井浩一 , 真常泰
IPC分类号： G09F9/00 , G02B5/20 , H01J9/227
CPC分类号： B41M1/06 , B41M1/34 , B41M1/42 , G02B5/201
摘要：　パターン形成装置は、印刷枠（３２）によって保持された平版（１）に形成したパターン像（２４’）をＸＹステージ（６）上に保持されたガラス板（５）の表面に転写する転写装置（３０）を有する。転写装置（３０）は、ＸＹステージ（６）によってガラス板（５）と平版（１）を位置決めした後、平版（１）の裏面側に配置した扱きローラ（３４）を平版（１）に押し付けた状態で矢印（Ｔ３）方向に移動させ、平版（１）とガラス板（５）との間に介在している溶媒成分を扱きつつ、パターン像（２４’）を電界によってガラス板（５）に転写する。
摘要翻译：提供了一种图案形成装置，包括：转印装置（30），用于将形成在由印刷框架（32）保持的印版（1）上的图案图像（24'）传送到保持在印刷框架 XY台（6）。传送装置（30）将玻璃板（5）和板（1）定位在XY台（6）上，然后移动布置在板（1）背面的擦拭辊（34），同时沿着箭头（T3）的方向推到板（1）上，并且通过电场将图案图像（24'）转印到玻璃板（5），同时擦拭存在于板（1）和玻璃板（5）。

6. 发明申请

WO2007119309A1 液体現像剤、及びその製造方法审中-公开
标题翻译：液体开发商及其生产方法
公开(公告)号：WO2007119309A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/054241
申请日：2007-03-06
申请人：株式会社東芝 , 真常泰 , 細矢雅弘 , 石井浩一 , 斉藤三長 , 田島義浩 , 高橋健
发明人：真常泰 , 細矢雅弘 , 石井浩一 , 斉藤三長 , 田島義浩 , 高橋健
IPC分类号： G03G9/13
CPC分类号： G03G9/125 , G03G9/0825 , G03G9/08782 , G03G9/12 , G03G9/13 , G03G9/135
摘要：　極性基及び芳香族性置換基のうち少なくとも１つを有し、室温において電気絶縁性溶媒に実質的に不溶であり、かつ電気絶縁性溶媒の沸点以下の温度に融点を有し、融点以上の温度で絶縁性溶媒に溶解するワックスを含む被覆層（２）を核粒子（１）表面に設けたトナー粒子（１０）を含む液体現像剤。
摘要翻译：公开了一种含有调色剂颗粒（10）的液体显影剂，其中每个芯颗粒（1）的表面设置有包含极性基团和芳族取代基中的至少一个的蜡的涂层（2），其基本上不溶在室温下的电绝缘溶剂中，具有不高于电绝缘溶剂的沸点的熔点，并且在不低于熔点的温度下可溶于电绝缘溶剂。

7. 发明申请

WO2007100007A1 パターン形成装置、パターン形成方法审中-公开
标题翻译：图案形成装置和图案形成方法
公开(公告)号：WO2007100007A1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：PCT/JP2007/053790
申请日：2007-02-28
申请人：株式会社東芝 , 石井浩一 , 細矢雅弘
发明人：石井浩一 , 細矢雅弘
IPC分类号： G09F9/00 , B41J2/385 , B41M1/10 , G02B5/20 , G03G15/05 , G03G15/10 , H05K3/12
CPC分类号： G03G15/344 , G02B5/201 , G03G2215/0658 , H05K3/1266 , H05K3/207 , H05K2203/0517
摘要：　パターン形成装置は、現像剤によるパターンを保持する凹版１、凹版１を帯電させる帯電装置３、赤色のパターンを現像する現像装置２ｒ、緑色のパターンを現像する現像装置２ｇ、青色のパターンを現像する現像装置２ｂ、および帯電装置３、各色現像装置２を保持するとともに凹版１に対して相対的に移動させるステージを有する。凹版１に沿って帯電装置３、赤色現像装置２ｒ、緑色現像装置２ｇ、および青色現像装置２ｂが順次通過され、帯電プロセス、赤色現像プロセス、緑色現像プロセス、青色現像プロセスが並行して実施される。
摘要翻译：图案形成装置包括用于保持显影剂图案的凹版（1），用于静电充电凹版（1）的充电器（3），用于显影红色图案的显影装置（2r），显影装置（2g ），用于显影蓝色图案的显影装置（2b）和用于保持充电器（3）和彩色显影装置（2）并使它们相对于凹版（1）移动的台子。充电器（3），红色显影装置（2r），绿色显影装置（2g）和蓝色显影装置（2b）沿着凹版（1）依次通过充电过程，红色显影处理，绿色开发过程和蓝色显影过程并行进行。

8. 发明专利

JP6613037B2 有機光電変換素子及びその製造方法有权
公开(公告)号：JP6613037B2
公开(公告)日：2019-11-27
申请号：JP2015057355
申请日：2015-03-20
申请人：株式会社東芝
发明人：森茂彦 , 五反田武志 , 中野義彦 , 斉藤三長 , 都鳥顕司 , 早瀬留美子 , 信田直美 , 大岡青日 , 中尾英之 , 朝倉太郎 , 細矢雅弘
IPC分类号： H01L51/44 , H01L51/46

9. 发明专利

JP2016178204A 有機光電変換素子及びその製造方法审中-公开
标题翻译：有机光电转换元件及其制造方法
公开(公告)号：JP2016178204A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2015057355
申请日：2015-03-20
申请人：株式会社東芝
发明人：森茂彦 , 五反田武志 , 中野義彦 , 斉藤三長 , 都鳥顕司 , 早瀬留美子 , 信田直美 , 大岡青日 , 中尾英之 , 朝倉太郎 , 細矢雅弘
IPC分类号： H01L51/44 , H01L51/46
CPC分类号： Y02E10/549 , Y02P70/521
摘要：【課題】変換効率が高く、低コスト、かつ既存のプロセスラインの大幅な変更を必要としない有機光電変換素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】本実施形態による有機光電変換素子は、第1電極と、前記第1電極上に設けられた正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に設けられ、有機p型半導体および有機n型半導体を有する有機光電変換層と、前記有機光電変換層上に設けられた電子輸送層と、前記電子輸送層上に設けられた第2電極と、を備え、前記正孔輸送層は、金属ナノ粒子とポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)を含み、前記金属ナノ粒子の平均粒径dと前記正孔輸送層の膜厚tとの間にd

2の範囲内にある。
【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供转换效率高，成本低，并且不需要现有生产线的急剧变化的有机光电转换元件以及制造有机光电转换元件的方法。解决方案：有机光电根据本实施例的转换元件包括：第一电极; 设置在所述第一电极上的空穴传输层; 设置在空穴传输层上并包括有机p型半导体和有机n型半导体的有机光电转换层; 设置在有机光电转换层上的电子传输层; 以及设置在电子传输层上的第二电极。空穴输送层含有金属纳米粒子和聚乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐（PEDOT / PSS），金属纳米粒子的平均粒径d和空穴传输层的膜厚t之间的d

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