专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2004049372A1 電子源装置および表示装置审中-公开
标题翻译：电子源设备和显示器
公开(公告)号：WO2004049372A1
公开(公告)日：2004-06-10
申请号：PCT/JP2003/014980
申请日：2003-11-25
申请人：株式会社東芝 , 冨士色素株式会社 , 伊藤武夫 , 松田秀三 , 稲村昌晃 , 田中肇 , 坂井和夫
发明人：伊藤武夫 , 松田秀三 , 稲村昌晃 , 田中肇 , 坂井和夫
IPC分类号： H01J1/30
CPC分类号： H01J31/127 , B82Y10/00 , H01J1/312 , H01J9/022 , H01J2201/3125
摘要：　この電子源装置は、絶縁体から構成され、主面に対して垂直方向に配設された多数の微細孔を有する多孔質層（例えば多孔質アルミナ層）と、この多孔質層の両面側に配設された第１および第２の導電体層とを備え、第２の導電体層を陽極として第１の導電体層との間に直流電圧を印加したときの電流密度Ｉ／Ｓが、１μＡ／ｃｍ２以上であることを特徴とする。ただし、Ｓは第１の導電体層と第２の導電体層および多孔質層の重なり部分の面積を示す。電子放出能力が高く、安価で低真空度でも長寿命の電子源装置が得られるので、発光効率が高く信頼性の高い表示装置を実現することができる。
摘要翻译：一种电子源装置，包括由绝缘体构成并具有沿垂直于主表面的方向延伸的许多微孔的多孔层（例如，多孔氧化铝层）以及设置在该主表面两侧的第一和第二导体层多孔层的特征在于，当使用第二导体层作为阳极时，在第二导体层和第一导体层之间施加直流电压时，电流密度（I / S）为1μA/ cm 2以上。在这种情况下，S表示第一导体层，第二导体层和多孔层之间的重叠面积。因此，即使在真空度低的情况下也能够以低成本获得具有高电子发射能力和长寿命的电子源装置。可以通过使用该电子源装置来实现具有高发光效率和高可靠性的显示器。

2. 发明专利

JP6392443B2 電解水生成装置及び電解水生成方法有权
公开(公告)号：JP6392443B2
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：JP2017504553
申请日：2015-09-04
申请人：株式会社東芝
发明人：横田昌広 , 齋藤誠 , 太田英男 , 小野修 , 千草尚 , 二階堂勝 , 松田秀三 , 長谷部裕之
IPC分类号： C02F1/461
CPC分类号： C02F1/46

3. 发明专利

JP2017144283A 保管方法及び殺菌装置有权
公开(公告)号：JP2017144283A
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：JP2017100220
申请日：2017-05-19
申请人：株式会社東芝
发明人：森田修介 , 千葉英文 , 天野克美 , 松田秀三 , 矢野琢真 , 横田昌広 , 千草尚
IPC分类号： A61L101/06 , A61L2/20
CPC分类号： A23L3/3409 , A61L2/20 , A61L9/01 , A61L9/14
摘要：【課題】菌の増殖或いは付着の防止が必要な対象物の流通又は保管過程等に適した保管方法及び殺菌装置を提供すること。【解決手段】空間内から回収した気体を除湿する除湿器と、次亜塩素酸水を気化する気化器とを収容する筐体から放出された次亜塩素酸気化物質により、空間内に配置された対象物を殺菌する。空間内に存在し、殺菌により失活した次亜塩素酸気化物質を含む気体を、筐体内に回収する。回収した気体を除湿器により除湿して、空間内の湿度よりも低い湿度の気体を生成する。生成した湿度の低い気体を気化器に送って筐体内に補充された次亜塩素酸水を気化する。気化した次亜塩素酸気化物質を筐体から空間内に放出することにより、回収した気体に含まれる失活した次亜塩素酸気化物質とは異なる新たな次亜塩素酸気化物質を空間内に供給して、対象物に対する殺菌作用を維持する。【選択図】図12

4. 发明专利

JP2017119922A 次亜塩素酸水含浸物审中-公开
公开(公告)号：JP2017119922A
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2015256047
申请日：2015-12-28
申请人：株式会社東芝
发明人：矢野琢真 , 森田修介 , 高橋健 , 松田秀三 , 千草尚 , 大川猛
IPC分类号： A61L2/18 , C02F1/46 , A47K7/00 , A47L13/17 , A61L101/06 , D06M11/30
摘要：【課題】次亜塩素酸の失活を抑制した次亜塩素酸水含浸物を得る。【解決手段】3.0以上7.0以下のpH値、1mg/kg以上の次亜塩素酸濃度、及び1〜1000mg/kgのナトリウムイオン濃度を有する次亜塩素酸水と、次亜塩素酸水が含浸された不織布とを含む次亜塩素酸水含浸物。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2015194669A 光学制御部材、および光学制御部材を用いた窓、ブラインド、照明装置审中-公开
标题翻译：光控制部件，以及使用该光学控制部件的窗口，黑色和照明装置
公开(公告)号：JP2015194669A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2014161524
申请日：2014-08-07
申请人：株式会社東芝
发明人：横田昌広 , 川村信雄 , 森田修介 , 大川猛 , 高橋健 , 千草尚 , 小野修 , 松田秀三 , 西村孝司
IPC分类号： G02B5/00 , E06B9/24 , F21S2/00 , F21V5/02 , F21V5/00 , E06B9/28 , F21Y101/02 , F21Y103/00 , G02B5/02
摘要：【課題】最大透過率が高く最低透過率が低いメリハリの効いた光学制御部材、これを用いた窓、ブラインド、照明装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、光学制御部材10は、対向する第1表面12aおよび第2面12bを有し、光透過性を有する基材12と、基材の第1表面に形成され、それぞれプリズムあるいはレンズで構成された複数のプリズムレンズ14と、複数のプリズムレンズのパターンに対応して、基材の第2表面に設けられ、基材よりも低い透過率を有する光学膜16と、を備えている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有高的最大透射率和低的最小透射率的有效的光学控制部件，并且提供使用光学控制部件的窗户，盲人和照明装置。解决方案根据实施例，光学控制部件10 包括：光学透明基板12，其具有彼此面对的第一表面12a和第二表面12b; 多个棱镜透镜14，其形成在基板的第一表面上，并且各自由棱镜或透镜构成; 以及光学膜16，其设置在基板的第二表面上，同时对应于多个棱镜透镜的图案并且具有比基板低的透射率。

6. 发明专利

JP2019080586A 殺菌方法、殺菌システム及び保管方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019080586A
公开(公告)日：2019-05-30
申请号：JP2019041654
申请日：2019-03-07
申请人：株式会社東芝
发明人：森田修介 , 千葉英文 , 天野克美 , 松田秀三
IPC分类号： A23L3/3409 , A23L3/358
摘要：【課題】菌の増殖或いは付着の防止が必要な対象物の流通又は保管過程等に適した殺菌方法、殺菌システム及び保管方法を提供する。【解決手段】一実施形態に係る殺菌方法は、生鮮食品に気化した殺菌水を噴霧することにより、上記生鮮食品の表面を殺菌する第1殺菌ステップと、上記第1殺菌ステップを経た上記生鮮食品が梱包された容器を壁部によって囲われた空間に配置して輸送或いは貯蔵する際に、気化した殺菌水を上記空間に放出することにより、上記空間を殺菌する第2殺菌ステップと、を含む。さらに、上記第2殺菌ステップにて単位時間あたりに消費される殺菌水の量は、上記第1殺菌ステップにて単位時間あたりに消費される殺菌水の量よりも少ない。【選択図】図2

7. 发明专利

JP2019069163A 空間殺菌方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019069163A
公开(公告)日：2019-05-09
申请号：JP2018225524
申请日：2018-11-30
申请人：株式会社東芝
发明人：千草尚 , 森田修介 , 高橋健 , 大川猛 , 松田秀三 , 柳沢正
IPC分类号： A61L9/14 , A61L9/04 , A61L2/18 , A61L2/20 , A61L2/28 , G01N21/78 , A61L101/06 , A61L9/01
摘要：【課題】次亜塩素酸水の悪影響を受けず、かつ被処理空間内を十分に殺菌、除臭することが可能な空間殺菌方法を得る。【解決手段】実施形態にかかる空間殺菌方法は、被処理空間にガス状及び/または霧状の次亜塩素酸水を供給し、殺菌を行う空間殺菌方法であって、殺菌処理時間y(時間)と、単位面積、単位時間当たりに供給される前記ガス状及び/または霧状の次亜塩素酸水の供給量x(μg/(m 2 ・min)との関係において、下記式(1)を満足させる。【選択図】図4

8. 发明专利

JP6509943B2 保管方法及び殺菌装置有权
公开(公告)号：JP6509943B2
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：JP2017100220
申请日：2017-05-19
申请人：株式会社東芝
发明人：森田修介 , 千葉英文 , 天野克美 , 松田秀三 , 矢野琢真 , 横田昌広 , 千草尚
IPC分类号： A61L2/20 , A61L101/06 , A23B7/152

9. 发明专利

JP2016188437A 電解装置有权
标题翻译：电解设备
公开(公告)号：JP2016188437A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：JP2016124317
申请日：2016-06-23
申请人：株式会社東芝
发明人：横田昌広 , 太田英男 , 千草尚 , 松田秀三
IPC分类号： C02F1/46 , C25B1/46 , C25B9/00 , C25B15/08
CPC分类号： C02F1/4618 , C02F1/46 , C02F1/46104 , C02F2201/46115 , C02F2201/46145
摘要：【課題】安定したpHで効率良く電解を実施でき、大型化を抑制できる電解装置および電解水生成方法を提供する。【解決手段】実施形態の電解装置1は、電解質液を流す中間室18aと陽極室18bとに区画する第1隔膜と、前記中間室18aと陰極室18cとに区画する第2隔膜と、前記第1隔膜に対向して前記陽極室18bに設けられた陽極15aと、前記第2隔膜に対向して前記陰極室18cに設けられた陰極15bと、を具備する電解槽10と、前記中間室18aに前記電解質液を供給する電解質液供給部20と、前記中間室18a内を流れた電解質液を排出する排出配管20bと、前記排出配管20bに設けられ、前記中間室18a内の電解質液を静水状態とする弁と、を備え、前記電解質液供給部20は、前記静水状態で前記中間室18a内の電解質液に静水圧を印加する水圧印加部30を備えている。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种电解装置，其可以在稳定的pH下有效地进行电解并且可以抑制其大小的增加，并且提供产生电解水的方法。解决方案：根据实施方案包括：电解槽10，其包括将电解槽10分解成电解液流过的中间室18a和正电极室18b的第一阻隔膜，将电解槽10分隔成中间室18a的第二阻隔膜和负极室18c，设置在正极室18b中并面向第一阻挡膜的正极15a和设置在负极室18c中并面向第二阻挡膜的负极15b; 将电解液供给到中间室18a的电解液供给部20; 排出管道20b排出在中间室18a内流动的电解液; 以及设置在排出配管20b中并使中间室18a内的电解液成为静水压状态的阀。电解液供给单元20包括水压施加单元30，该水压施加单元30以静水压状态向中间室18a内的电解液施加静水压力。图1

10. 发明专利

JP2016038439A 光学制御部材审中-公开
标题翻译：光控会员
公开(公告)号：JP2016038439A
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2014160461
申请日：2014-08-06
申请人：株式会社東芝
发明人：高橋健 , 横田昌広 , 川村信雄 , 大川猛 , 千草尚 , 松田秀三
IPC分类号： E06B9/24 , G02B5/00
摘要：【課題】表側と裏側とで独立した光学制御が可能な光学制御部材を提供する。【解決手段】光学制御部材1は、互いに対向する第1面2aおよび第2面2bを有し、少なくとも前記第1面2aと前記第2面2bの間に空気よりも高い屈折率を有する基材2を有した光学制御部材1において、前記第1面2a上に設けられた第1光学制御層3aと、前記第2面2b上に設けられ、前記第1光学制御層3aと対向する第2光学制御層3bと、を備え、前記第1光学制御層3aは、第1パターンで配列された第1領域4aおよび第2領域4bを有し、前記第2光学制御層は、第2パターンで配列された第3領域5aおよび第4領域5bを有し、前記第1領域4aの光透過率は前記第2領域4bの光透過率よりも大きく、前記第3領域5aの光透過率は前記第4領域5bの光透過率よりも大きく、前記第2領域4bおよび第4領域5bの少なくとも一方は、光学特性の異なる複数の層を積層して形成されている。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在前侧和后侧执行独立光学控制的光学控制构件。解决方案：光学控制构件1具有彼此面对的第一表面2a和第二表面2b，并且基材 2具有至少在第一表面2a和第二表面2b之间的折射率高于空气的折射率。光学控制构件1包括：设置在第一表面2a上的第一光学控制层3a; 并且第二光学控制层3b设置在第二表面2b上并面向第一光学控制层3a。第一光学控制层3a具有以第一图案设置的第一区域4a和第二区域4b，第二光学控制层具有以第二图案设置的第三区域5a和第四区域5b。第一区域4a的透光率比第二区域4b的透光率大，第三区域5a的透光率大于第四区域5b的透光率。第二区域4b和第四区域5b中的至少一个通过层叠具有不同光学特性的多个层而形成。图示：图6

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式