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1. 发明专利

JP6328003B2 レーザーアブレーションICP分析方法及び分析装置有权
公开(公告)号：JP6328003B2
公开(公告)日：2018-05-23
申请号：JP2014164656
申请日：2014-08-13
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 国香仁
IPC分类号： G01N27/62 , G01N1/28

2. 发明专利

JP5881166B2 基板分析用ノズル有权
标题翻译：用于分析的喷嘴基板
公开(公告)号：JP5881166B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2012134629
申请日：2012-06-14
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , イーソンジェ , 国香仁 , 鈴木淳司
IPC分类号： G01N1/00

3. 发明专利

JP6160938B2 基板のエッチング装置及び基板のエッチング方法有权
公开(公告)号：JP6160938B2
公开(公告)日：2017-07-12
申请号：JP2015501362
申请日：2014-01-21
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 林匠馬 , 池内満政 , イーソンジェ , 国香仁
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L22/12 , H01J37/32449 , H01J37/32834 , H01L21/67069 , G01N1/32 , H01J2237/334 , H01L21/3065

4. 发明专利

JP2016040537A レーザーアブレーションICP分析方法及び分析装置有权
标题翻译：激光雷达ICP分析方法和分析仪
公开(公告)号：JP2016040537A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：JP2014164656
申请日：2014-08-13
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 国香仁
IPC分类号： G01N27/62 , G01N1/28
摘要：【課題】本発明は、分析試料の拡散や分析感度の低下を抑制しつつ、表面積の大きな分析試料も簡便に分析可能となるレーザーアブレーションICP分析方法の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、レーザーアブレーションICP分析方法において、エジェクタ、ネブライザー又は真空ポンプの吸引により、微粒子化した分析試料をキャリアガスとともにチャンバー内から排出して誘導結合プラズマ質量分析するレーザーアブレーションICP分析方法に関する。本発明によれば、ICP信号強度のシャープなピークが示され高感度な分析が可能になる。また、表面積の大きな分析試料も簡便に分析できる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够容易地分析具有大的表面积的分析样品的激光烧蚀ICP分析方法，同时抑制分析样品的扩散和分析灵敏度的降低。解决方案：本发明涉及激光烧蚀ICP 分析方法，其中通过喷射器，雾化器或真空泵将雾化分析样品与载气一起从室排出，并进行电感耦合等离子体质量分析。根据本发明，指示ICP信号强度的尖峰，并允许高灵敏度分析。此外，可以容易地分析具有大表面积的分析样品。选择图：图1

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