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1. 发明专利

JP6758574B2 HfN膜の製造方法およびHfN膜有权
公开(公告)号：JP6758574B2
公开(公告)日：2020-09-23
申请号：JP2016081254
申请日：2016-04-14
申请人：株式会社渡辺商行
发明人：都田昌之 , 佐々木善和 , 梅田優 , 楠原昌樹
IPC分类号： H01L21/318 , C23C16/34 , H01L21/31

2. 发明专利

JP5993363B2 気化器および気化方法有权
标题翻译：蒸发器和蒸发方法
公开(公告)号：JP5993363B2
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：JP2013502336
申请日：2012-02-27
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：梅田優 , 都田昌之
IPC分类号： C23C16/448 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4481

3. 发明专利

JP6313820B2 気化器有权
公开(公告)号：JP6313820B2
公开(公告)日：2018-04-18
申请号：JP2016135825
申请日：2016-07-08
申请人：株式会社渡辺商行 , 楠原昌樹 , 梅田優 , 都田昌之
发明人：楠原昌樹 , 梅田優 , 深川満 , 都田昌之
IPC分类号： H01L21/31
CPC分类号： C23C16/4481 , B01D1/00

4. 发明专利

JP2020191463A HfN膜の製造方法およびHfN膜审中-公开
公开(公告)号：JP2020191463A
公开(公告)日：2020-11-26
申请号：JP2020126879
申请日：2020-07-27
申请人：株式会社渡辺商行
发明人：都田昌之 , 佐々木善和 , 梅田優 , 楠原昌樹
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/34 , H01L21/318
摘要：【課題】原料ガスと薄膜生成原料が反応チャンバーとで反応し、安定的な原料供給が可能であり、長期使用が可能であるHfN膜の製造方法及びHfN膜を提供する。【解決手段】気化された原料ガスを、配管14を経由して供給されノズル表面に対向配置された被成膜基板Pへと噴射するシャワーノズル15を備える。シャワーノズルは、配管の導入口14aを中心として拡開する外壁15aと、外壁の拡開端部から立ち上がる周壁15cと、周壁の端部を覆うノズル表面15bとで構成した成膜装置を用いるHfN膜の製造方法であって、反応ガスを直接、反応チャンバーに供給するようにガス供給口16を設け、サセプタの上にウエハが搭載される。原料ガスTEMAHの流量が、0.2CCM、反応チャンバーの圧力4Torr、サセプタの温度が、250℃以上、270℃以下の範囲であり、反応ガスNH 3 の流量を、9.0CCM以上、15.0CCM以下の範囲とする。【選択図】図8

5. 发明专利

JP6335223B2 気化器有权
公开(公告)号：JP6335223B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2016127077
申请日：2016-06-27
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：梅田優 , 都田昌之
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4481

6. 发明专利

JP6014829B2 気化器有权
标题翻译：喷雾器
公开(公告)号：JP6014829B2
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：JP2012120995
申请日：2012-05-28
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：都田昌之 , 楠原昌樹 , 土井幹夫 , 梅田優 , 深川満 , 菅野洋一 , 内澤修 , 山本康平 , 目黒俊勝
IPC分类号： C23C16/448 , H01L21/31

7. 发明专利

JP5699258B2 情報記録再生メモリ媒体有权
标题翻译：信息记录和再现存储介质
公开(公告)号：JP5699258B2
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：JP2013194128
申请日：2013-09-19
申请人：株式会社渡辺商行
发明人：尾上篤 , 藤本健二郎 , 河野高博 , 楠原昌樹 , 梅田優 , 都田昌之 , 田村正裕
IPC分类号： G11B7/24 , G11B9/02

8. 发明专利

JP2018053368A 成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018053368A
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2017207510
申请日：2017-10-26
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：梅田優 , 都田昌之
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/4481 , C23C16/455 , C23C16/45512 , C23C16/45561 , C23C16/46
摘要：【課題】気化器と成膜室との間に設置された液体材料気化ガス供給配管にて通過する間に、前記液体材料気化ガスが完全に気化されて成膜室内へ供給される成膜装置の提供。【解決手段】成膜用液体材料供給系と、液体材料をキャリアガスと混合して気化させる気化器30aと、気化器から出る液体材料気化ガスを基板42aに流して膜を成膜させる成膜室40aと、気化器からのガスを、成膜室に供給する液体材料気化ガス供給配管50aとで構成される成膜装置101であって、液体材料気化ガス供給配管50aが、らせん状形体で形成され、らせん状形体での回転軸を、床平面に対して垂直方向に設定された成膜装置101。【選択図】図1

9. 发明专利

JP2016191155A 気化器および気化方法有权
标题翻译：蒸发器和蒸发方法
公开(公告)号：JP2016191155A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2016127077
申请日：2016-06-27
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：梅田優 , 都田昌之
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4481
摘要：【課題】複数の薄膜形成原料溶液が、安定に、確実に分散部本体内にて、確実に分離されてキャリアガスによって運ばれ、後工程の気化部にて、前記複数の薄膜形成原料溶液がそれぞれ安定に気化が行われる気化器および気化器に用いられるセンターロッド、ならびにキャリアガスに同伴される原料などを気化する方法を得る。【解決手段】散部本体の中心軸方向にキャリアガス導入穴が形成され、前記キャリアガス導入穴にセンターロッド10が挿入されて、前記キャリアガス導入穴の内壁と前記センタロッドの外壁との間に形成された隙間によりガス通路が形成され、前記分散部本体の前記ガス通路の中途部の複数個所に形成された、薄膜形成材料を供給する薄膜形成材料供給部が配置され、前記センターロッドは、該センターロッドの長手方向にシール部材11a,11bが配置されていることを特徴とする気化器とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种蒸发器，使得多个薄膜形成原料溶液在分散体体中稳定可靠地分离，然后携带载气，并且多个薄膜形成原料溶液在用于后处理的蒸发部分，用于蒸发器的中心棒以及蒸发由载气夹带的原料的方法分别稳定蒸发。蒸发器的特征在于：载气引入孔在分散体主体的中心轴的方向上形成; 中心杆10插入载气引入孔中; 气体通道由形成在载气引入孔的内壁和中心杆的外壁之间的间隙形成; 布置薄膜形成材料供应部分，其形成在分散体主体的气体通道的半部分的多个位置处，并供应薄膜形成材料; 并且中心杆具有沿中心杆的较长方向布置的密封构件11a，11b。选择的图示：图1

10. 发明专利

JP5933233B2 成膜装置および気化器の設置方法有权
标题翻译：成膜装置和蒸发器的安装
公开(公告)号：JP5933233B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2011255083
申请日：2011-11-22
申请人：株式会社渡辺商行 , 都田昌之
发明人：都田昌之 , 梅田優
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/44 , C23C16/448 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/4481

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