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1. 发明申请

WO2010041355A1 異常検知方法及びシステム审中-公开
标题翻译：错误检测方法与系统
公开(公告)号：WO2010041355A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/JP2009/002391
申请日：2009-05-29
申请人：株式会社日立製作所 , 前田俊二 , 渋谷久恵
发明人：前田俊二 , 渋谷久恵
IPC分类号： G05B23/02 , G06Q50/00
CPC分类号： G05B23/0254 , G06K9/00536 , G06K9/6252 , G06K9/6272 , G06K9/6284
摘要：学習データの完全性、異常の混入を許容でき、プラントなどの設備において異常の早期・高精度な発見を可能とする方法及びそのシステムを提供する。上記目的を達成するために、本発明は、（１）時間的なデータの振舞いに着目し、時間を追って軌跡をクラスタに分割する。（２）分割したクラスタ群に対して、部分空間でモデルし、はずれ値を異常候補として算出する。（３）学習データをリファレンスとして活用（比較・参照など）し、経時変化、環境変動、保守（部品交換）、稼動状態による状態遷移を把握する。（４）モデル化は、データのN個抜き（N=0,1,2,・・・）の回帰分析法や投影距離法等の部分空間法（例えばN=1の場合は、異常データが１個混入していると考え、これを除いてモデル化する）、或いは局所部分空間法によるものとする。なお、回帰分析法における直線の当てはめは、最も低次の回帰分析に相当する。
摘要翻译：提供了一种允许完整的训练数据和具有附加错误的数据的方法，并且能够及早准确地发现诸如工厂及其系统之类的设施中的错误。为了实现目标，（1）随时间观察时间数据的行为，并将踪迹分为簇; （2）划分的群集组在部分空间中建模，偏移值被计算为误差候选; （3）使用训练数据（比较，参考等）作为参考，确定随时间变化，环境变化，维护（部件更换）和操作状态引起的状态转换; （4）建模是N次数据去除N个数据项（N = 0,1,2）的回归分析或投影距离法的一部分空间法（例如，当N = 1时，一个错误数据项被认为已被添加，该数据被删除，然后进行建模）或局部局部空间方法。回归分析中的线性拟合等价于最低阶回归分析。

2. 发明申请

WO2011024382A1 設備状態監視方法およびその装置审中-公开
标题翻译：用于监测设施状态的方法和装置
公开(公告)号：WO2011024382A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/JP2010/004789
申请日：2010-07-28
申请人：株式会社日立製作所 , 渋谷久恵 , 前田俊二
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二
IPC分类号： G05B23/02 , G06N5/04 , G08B31/00
CPC分类号： G05B23/021 , G06N99/005
摘要：　プラントなどの設備における異常予兆検知では、正常状態をモデル化しモデルとの比較により異常判定を行うが、設備は運転条件などの違いにより多様な正常状態を持つため、従来の手法ではモデル化が困難であり、正常を異常と判定する誤報が発生する場合があった。また、異常診断では、異常判定の根拠の説明や、異常予兆と事象の関連付けが困難であった。本発明による異常予兆検知では、設備から出力されるイベント信号をもとに運転状態別にモード分割し、モード毎に正常モデルを作成し、モード毎に学習データの十分性をチェックし、その結果に応じて設定したしきい値を用いて異常識別を行うようにした。また、診断では、横軸を結果事象、縦軸を原因事象とする頻度マトリクスに作成しておきそれを利用して故障の発生を予測する。結果事象は故障イベント、原因事象は、異常測度がしきい値を超えたセンサ信号を量子化したものとする原因事象の入力とした。
摘要翻译：当试图检测植物设施等异常的预先迹象时，通过建模正常状态并与所述模型进行比较来确定异常状态; 然而，由于操作条件等的差异，给定的设备具有各种各样的正常状态，使得传统技术的建模变得困难。使用常规技术，正常状态有时会被误报为异常。另外，当诊断异常时，很难解释异常判定的依据，并将事件与事件的异常事件联系起来。在提供的用于检测异常的提前符号的方法中，从设施输出的事件信号用于为每个操作状态创建单独的模式，为每个模式创建正常模型，检查每种模式的学习数据的充分性，根据所述检查的结果设定阈值，使用所述阈值进行异常识别。另外，为了进行诊断，预先创建频率矩阵，结果事件在水平轴上，导致垂直轴上的事件，频率矩阵用于预测故障。作为结果事件输入故障事件，并且将具有超过阈值的异常测量的量化传感器信号作为原因事件输入。

3. 发明申请

WO2009054102A1 欠陥分類方法及びその装置审中-公开
标题翻译：缺陷分类方法和缺陷分类装置
公开(公告)号：WO2009054102A1
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/JP2008/002871
申请日：2008-10-10
申请人：株式会社日立製作所 , 渋谷久恵 , 前田俊二 , 浜松玲
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二 , 浜松玲
IPC分类号： G01N21/956 , G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8854 , G01N2021/9513 , G06T7/0004
摘要：　外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。　特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。
摘要翻译：在外观检查的缺陷分类中，需要使关键缺陷的纯度或精度均被调整为目标值以上。然而，由于指令类型缺陷分类的条件被设置为允许平均高的正确答案率，所以缺陷分类具有不能满足需要的问题。缺陷分类方法包括特征量提取单元，缺陷分类单元和分类条件设置单元。分类条件设置单元具有指示对应于正确答案类别的缺陷特征量和指定分类优先级顺序的功能的功能，并且以高优先级的方式执行条件设置分类导致高正确答案率。

4. 发明申请

WO2010086940A1 欠陥検査装置及びその方法审中-公开
标题翻译：缺陷检查装置和缺陷检查方法
公开(公告)号：WO2010086940A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/JP2009/006767
申请日：2009-12-10
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 酒井薫 , 前田俊二
发明人：酒井薫 , 前田俊二
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/47 , G01N2021/95615
摘要：　本発明は、煩雑なしきい値設定を行うことなく、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出することができる欠陥検査装置及びその方法に関するもので、被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、さらに、入力される被検査対象物の設計データから特徴を算出し、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから特徴量を算出する特徴算出部と、該算出された設計データからの特徴と複数の画像データからの特徴量とを統合処理して欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、該検出された欠陥候補から前記特徴算出部で算出される設計データの特徴を基に致命性の高い欠陥を抽出する欠陥抽出部とを有する画像処理部を備えたことを特徴とする。
摘要翻译：提供了一种缺陷检查装置和缺陷检查方法，通过该缺陷检查装置和缺陷检查方法，可以以高灵敏度和高速检测用户期望检测但隐藏在噪声中或隐藏在缺陷中的缺陷，而不需要复杂的阈值设置。缺陷检查装置设置有在预定的光学条件下照射被检查对象的照明光学系统，以及检测光学系统，其在预定条件下检测来自被检查对象的散射光并获取图像数据。缺陷检查装置还具有图像处理部，该图像处理部具有：特征计算部，其基于输入的被检查对象的设计数据计算特征，并且基于多个片段计算特征量图像数据，其由检测光学系统获取并具有不同的光学条件或图像数据获取条件; 缺陷候选检测部分，其将从所计算的设计数据获得的特征与从所述多个图像数据获得的特征量相集成并检测缺陷候选; 以及缺陷提取部，其基于由特征计算部计算出的设计数据的特征，从检测出的缺陷候选中提取高度关键的缺陷。

5. 发明申请

WO2010073453A1 欠陥検査方法及びその装置审中-公开
标题翻译：缺陷检查方法及其设备
公开(公告)号：WO2010073453A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/JP2009/005561
申请日：2009-10-22
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 前田俊二 , 酒井薫 , 西山英利
发明人：前田俊二 , 酒井薫 , 西山英利
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： H01L22/20 , G01N21/95623 , G06T7/001 , G06T2207/30148 , H01L22/12
摘要：　被検査対象基板上に繰り返して形成される様々な回路パターン上に生じる欠陥または異物を、光学条件に依存せず、正常な回路パターンと弁別して欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置を提供することにある。　被検査対象基板から取得した画像信号に対して、着目画素を含むその周囲に切り出す着目局所領域と、前記着目画素に対応する複数の対応画素の各々を含むその周囲に切り出す複数の対応局所領域の各々を設定し、該設定された着目局所領域の画像信号と前記局所領域設定ステップで設定された複数の対応局所領域の画像信号との類似度を探索し、該探索される類似度情報を用いて、前記着目局所領域の画像信号に類似する前記対応局所領域の画像信号を複数決定し、該決定した前記複数の対応局所領域の画像信号と前記着目局所領域の画像信号とを比較して総合的に欠陥を判定することを特徴とする。
摘要翻译：提供了一种缺陷检查方法和装置，其通过在不依赖于光学条件的情况下将缺陷电路图案与正常电路图案区分开来来检测在基板上重复形成的各种电路图案中包含缺陷或异物的电路图案。该方法包括：将从基板取得的图像信号设定为包含要切除的目标像素的目标局部区域和包含与要切除的目标像素对应的多个像素的多个对应局部区域的步骤，被检查搜索已经设定的目标局部区域的图像信号与在上述步骤中设置的多个对应局部区域的图像信号之间的相似度的步骤; 通过使用要搜索的相似度信息来确定与目标局部区域的图像信号相似的相应局部区域的多个图像信号的步骤; 以及将所确定的对应局部区域的图像信号与目标局部区域的图像信号进行比较以检测整体缺陷的步骤。

6. 发明申请

WO2009139155A1 欠陥検査装置及び欠陥検査方法审中-公开
标题翻译：缺陷检查装置和检查缺陷的方法
公开(公告)号：WO2009139155A1
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：PCT/JP2009/002083
申请日：2009-05-13
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 中野博之 , 前田俊二 , 中田俊彦
发明人：中野博之 , 前田俊二 , 中田俊彦
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/9501 , G01N2021/9563
摘要：配線等の回路パターンを有する試料上の異物等の欠陥を検査するための欠陥検査装置において、複数の直線状ビームの各々を試料上の異なる検査領域に照射する照明光学系と、該照射された複数の検査領域を検出器上に結像する結像光学系とを備え、前記検出器は、前記結像光学系で結像された複数の光像の各々に含まれる互いに異なる複数の偏光成分をほぼ同時にかつ個別に受光して前記複数の偏光成分に対応する複数の信号として検出するように構成し、複数の光学条件での検査を高速に行えるようにした。
摘要翻译：在具有布线等的电路图案的样品上检查异物等缺陷的缺陷检查装置设置有照明光学系统，其将多根线性光束中的每一根照射到样品上的不同检查区域，以及在多个检测器上形成多个照射区域的图像的图像形成光学系统。检测器被配置为基本上同时和单独地接收多个偏振分量，其中偏振分量彼此不同并被包含在由图像形成光学系统形成的多个光学图像的每一个中，从而检测对应于偏振分量的多个信号，并且在多个光学条件下高速执行检查。

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