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1. 发明专利

JP2015172945A 設備状態監視方法およびその装置有权
标题翻译：设备状态监测方法及其设备
公开(公告)号：JP2015172945A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：JP2015090282
申请日：2015-04-27
申请人：株式会社日立製作所
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二
IPC分类号： G05B23/02
摘要：【課題】プラントなどの設備における異常予兆検知は、正常状態をモデル化しモデルとの比較により異常判定を行うが、多様な正常状態を持つ場合においても、正常を異常と判定する誤報の発生を防止し、異常判定の根拠の説明や、異常予兆と事象の関連付けを可能とする。【解決手段】異常予兆検知では、設備101から出力されるイベント信号をもとに運転状態別にモード分割し、モード毎に正常モデルを作成し、モード毎に学習データの十分性をチェックし、その結果に応じて設定したしきい値を用いて異常識別を行うようにした。また、診断では、横軸を結果事象、縦軸を原因事象とする頻度マトリクスに作成しておきそれを利用して故障の発生を予測する。結果事象は故障イベント、原因事象は、異常測度がしきい値を超えたセンサ信号を量子化したものとする原因事象の入力とした。【選択図】図1A
摘要翻译：要解决的问题：为了能够防止错误地通知错误地判定为异常的错误发生的发生，以解释异常判定的接地，并且即使在各种正常状态是异常状态时也将异常标志与事件相关联存在，同时通过对正常状态进行建模来进行异常判定，并且在诸如工厂的设施中的异常标志检测的情况下将正常状态与模型进行比较。解决方案：在异常标志检测中，分割模式被设置为对应于操作根据从设施101输出的事件信号，根据每个模式创建正常模型，每个模式检查学习数据的充分性，并且使用响应于检查结果设置的阈值来执行异常识别。此外，在诊断中，使用横坐标轴指示结果事件并且使用频率矩阵来预测指示原因事件的纵坐标轴并且发生故障的频率矩阵。作为结果事件输入故障事件，并且输入指示异常测量超过阈值的传感器信号量化的原因事件作为原因事件。

2. 发明专利

JP6076751B2 異常診断方法およびその装置有权
标题翻译：异常诊断方法和装置
公开(公告)号：JP6076751B2
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：JP2013009316
申请日：2013-01-22
申请人：株式会社日立製作所
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二
IPC分类号： G05B23/02
CPC分类号： G06T7/001 , F01D21/003 , F01D21/14 , F01D25/00 , G01M15/14 , G05B23/0235 , G06K9/46 , G06K9/52 , G06K9/6215 , G06K9/6267 , G06K9/627 , G06K9/6272 , G06T11/206 , F05D2260/80 , F05D2270/708 , G06K2009/4666 , Y02T50/671

3. 发明专利

JP5740459B2 設備状態監視方法有权
标题翻译：设备状态监测方法
公开(公告)号：JP5740459B2
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：JP2013250712
申请日：2013-12-04
申请人：株式会社日立製作所
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二
IPC分类号： G05B23/02

4. 发明专利

JP5778305B2 異常検知方法及びそのシステム有权
标题翻译：异常检测方法和系统
公开(公告)号：JP5778305B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2014048365
申请日：2014-03-12
申请人：株式会社日立製作所
发明人：前田俊二 , 渋谷久恵
IPC分类号： G06Q50/04 , G06Q50/06 , G05B23/02
CPC分类号： Y02P90/30

5. 发明专利

JP2021043010A 光学条件決定システム、及び光学条件決定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021043010A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：JP2019163644
申请日：2019-09-09
申请人：株式会社日立製作所
发明人：笠井啓晃 , 岡恵子 , 渋谷久恵 , 矢崎秋夫
IPC分类号： G06T1/00 , H01L21/66 , G06T7/00 , G01N21/88
摘要：【課題】外観検査に適用するための最適な光学条件を導出する。【解決手段】光学条件決定システムは、外観検査の対象とする対象物の表面性状をモデル化した表面性状モデル、及び前記対象物の欠陥をモデル化した欠陥モデルそれぞれに対し、複数の光学条件下にて光学シミュレーションを行うことによって表面性状画像及び欠陥画像を生成するシミュレーション実行部と、同一の光学条件下の光学シミュレーションによって生成された前記表面性状画像及び前記欠陥画像を合成して合成画像を生成する画像合成部と、前記合成画像における前記欠陥の検出し易さを表す評価値を算出する評価値算出部と、前記合成画像に対応する光学条件と前記評価値との相関を解析する相関解析部と、前記相関の解析結果に基づき、前記外観検査に適した前記光学条件を探索する最適条件探索部と、を有することを特徴とする。【選択図】図3

6. 发明专利

JP5945350B2 設備状態監視方法およびその装置有权
标题翻译：设备状态监测方法和装置
公开(公告)号：JP5945350B2
公开(公告)日：2016-07-05
申请号：JP2015090282
申请日：2015-04-27
申请人：株式会社日立製作所
发明人：渋谷久恵 , 前田俊二
IPC分类号： G05B23/02

7. 发明专利

JP5808605B2 異常検知・診断方法、および異常検知・診断システム有权
标题翻译：异常检测和诊断方法及异常检测和诊断系统，
公开(公告)号：JP5808605B2
公开(公告)日：2015-11-10
申请号：JP2011178316
申请日：2011-08-17
申请人：株式会社日立製作所
发明人：前田俊二 , 渋谷久恵
IPC分类号： G05B23/02
CPC分类号： G01D18/006 , G01M99/00 , G05B23/0283

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