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1. 发明专利

JP5667968B2 走査プローブ顕微鏡およびこれを用いた試料の観察方法有权
标题翻译：扫描探针显微镜，并使用相同的观察样品的方法
公开(公告)号：JP5667968B2
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2011280709
申请日：2011-12-22
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中田　俊彦 , 俊彦中田 , 渡辺　正浩 , 正浩渡辺 , 井上　隆史 , 隆史井上 , 日高　貴志夫 , 貴志夫日高 , 誠之廣岡 , 誠之廣岡
IPC分类号： G01Q60/22 , G01Q70/12
CPC分类号： G01Q60/18 , G01Q60/22

2. 发明专利

JP4939765B2 Displacement measuring method and apparatus 有权
公开(公告)号：JP4939765B2
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：JP2005090460
申请日：2005-03-28
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 康裕吉武 , 正浩渡辺 , 峰生野本 , 修一馬▲場▼
IPC分类号： G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02057 , G01B9/02003 , G01B9/02081 , G01B2290/30 , G01B2290/70 , G03F7/70775

3. 发明专利

JP3925380B2 Scanning probe microscope 有权
公开(公告)号：JP3925380B2
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：JP2002288203
申请日：2002-10-01
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 武新井 , 正浩渡辺 , 修一馬塲
IPC分类号： G01B11/02 , B82B3/00 , G01B21/30 , G01Q10/02 , G01Q10/06 , G01Q60/24 , G05D3/12

4. 发明专利

JP3885007B2 Semiconductor manufacturing method, and a plasma processing method and apparatus 有权
公开(公告)号：JP3885007B2
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：JP2002223013
申请日：2002-07-31
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 博之中野 , 武新井
IPC分类号： C23C16/44 , H01L21/3065

5. 发明专利

JP3495069B2 Photothermal displacement signal detection method and apparatus 失效
公开(公告)号：JP3495069B2
公开(公告)日：2004-02-09
申请号：JP30393893
申请日：1993-12-03
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 隆典二宮 , イラリオ治臣小林
IPC分类号： G01N29/00

6. 发明专利

JPWO2015033681A1 走査プローブ顕微鏡およびこれを用いた試料の観察方法审中-公开
标题翻译：扫描探针显微镜，并使用相同的观察样品的方法
公开(公告)号：JPWO2015033681A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015535369
申请日：2014-07-18
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 修一馬▲場▼
IPC分类号： G01Q60/22
CPC分类号： G01Q60/22
摘要：本発明は、近接場走査顕微鏡において、試料表面層の屈折率分布あるいは誘電率分布に依存した近接場光画像のコントラストを向上させ、近接場光画像のSN比及び測定再現性を向上させるものであって、検査対象試料上を相対的に走査する測定探針と、前記測定探針にレーザ光を照射するレーザ光照射系と、レーザ光の一部を取り出して参照光とする参照光生成系と、レーザ光の照射により前記測定探針と前記検査対象試料との間で発生した近接場光の散乱光と前記参照光とを干渉させて干渉光を生成する干渉光学系と、前記干渉光を検出する検出器とを備えた走査プローブ顕微鏡を提供する。
摘要翻译：本发明提供了一种近场扫描显微镜，其中改善依赖于样品表面层的折射率分布或电容率分布的近场光图像的对比度，以改善SN比和近场光图像的测量再现有相对扫描在样品上测量探针去检查，以及用于将激光束照射到测量探头的激光束照射系统，对于参照光的参照光生成系统被取出的激光束的一部分时所产生的散射光与由激光和照射样品的测量探头之间的参照光的干涉的近场光产生的干涉光的干涉光学系统将被检查，干涉光提供一种扫描探针显微镜，包括用于检测的检测器。

7. 发明专利

JP5659048B2 光検査方法及びその装置有权
标题翻译：光检查的方法和装置
公开(公告)号：JP5659048B2
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：JP2011045468
申请日：2011-03-02
申请人：株式会社日立製作所
发明人：中平　健治 , 健治中平 , 本田　敏文 , 敏文本田 , 中田　俊彦 , 俊彦中田
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/88 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8835

8. 发明专利

JP5281992B2 Scanning probe microscope and measurement method using the same 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5281992B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2009198553
申请日：2009-08-28
申请人：株式会社日立製作所
发明人：正浩渡辺 , 修一馬塲 , 俊彦中田
IPC分类号： G01Q10/06 , G01Q10/02
CPC分类号： G01Q10/02 , G01Q10/04
摘要： It is difficult for a scanning probe microscope according to the conventional technology to operate a probe for scanning and positioning in a wide range and for high-precision scanning in a narrow range. A scanning probe microscope according to the invention uses probe driving actuators for coarse adjustment and fine adjustment. For scanning and positioning in a wide range, the coarse adjustment actuator is switched to fast responsiveness. For scanning in a narrow range, the coarse adjustment actuator is switched to slow responsiveness. Instead, positional noise is reduced and the fine adjustment actuator is mainly used for scanning in a narrow range. The probe is capable of not only scanning and positioning in a wide range but also high-precision scanning in a narrow range.
摘要翻译：根据传统技术的扫描探针显微镜难以在宽范围内操作用于扫描和定位的探针并且在窄范围内进行高精度扫描。根据本发明的扫描探针显微镜使用探头驱动致动器进行粗调和微调。对于广泛的扫描和定位，粗调执行器切换到快速响应。为了在窄范围内进行扫描，粗调调节执行器被切换为响应速度慢。相反，位置噪声减小，微调致动器主要用于窄范围的扫描。该探头不仅可以在很宽的范围内进行扫描和定位，还可以在窄范围内进行高精度扫描。

9. 发明专利

JP4732832B2 Displacement measuring method and apparatus, stage apparatus and probe microscope 有权
公开(公告)号：JP4732832B2
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：JP2005236292
申请日：2005-08-17
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 正浩渡辺 , 峰生野本 , 修一馬場
IPC分类号： G01B11/00 , G01B9/02 , G01Q10/04 , G01Q20/02 , G01Q30/02
CPC分类号： G01Q20/02 , G01B9/02014 , G01B9/02057 , G01B9/02058 , G01B9/02076 , G01B2290/45 , G01B2290/70 , G01S17/50

10. 发明专利

JP4213527B2 Three-dimensional shape measuring device 有权
公开(公告)号：JP4213527B2
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：JP2003180753
申请日：2003-06-25
申请人：株式会社日立製作所
发明人：俊彦中田 , 正浩渡辺 , 麻紀田中
IPC分类号： G01B21/20 , G01B11/24 , G01Q10/02 , G01Q30/02 , G01Q30/04 , G01Q60/24 , G01Q70/06 , G02B15/04 , G02B21/30 , H01L21/00
CPC分类号： G01B11/24 , H01L21/67253

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