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1. 发明专利

JP2018198221A 荷電粒子ビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018198221A
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：JP2018174558
申请日：2018-09-19
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：李ウェン , 門井涼 , 池田一樹 , 高橋弘之 , 川野源
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/05
摘要：【課題】二次電子・反射電子の大角度偏向を実現すると共に、電磁偏向器と静電偏向器のノイズを打ち消して一次ビーム/二次ビーム分離回路の回路ノイズが起因する一次電子ビームの位置ずれを抑制する荷電粒子ビーム装置を用いた処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】ステージに載置した試料上に集束させた電子ビームを照射して走査する電子光学系を備えて試料を撮像する荷電粒子ビーム装置では、検出器へ入射させる二次電子/反射電子の軌跡を制御する重畳電磁偏向器制御手段において、静電偏向器を発生する静電偏向器へ印加する電圧源制御信号の基準信号や信号生成部と、静磁場を発生する電磁偏向器へ印加する電流源制御信号の基準信号や信号生成部と共通化することと、電圧制御信号の周波数特性および位相特性と、電流源制御信号の周波数特性および位相特性と一致することを含む。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2015133267A 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2015133267A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2014004689
申请日：2014-01-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：門井涼 , 李ウェン , 池田一樹 , 川野源 , 高橋弘之
IPC分类号： H03F1/30 , H01J37/147
摘要：【課題】安価な構成により、精度よく荷電粒子ビームの照射位置制御が可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】荷電粒子銃と、該銃から照射された荷電粒子ビームの照射対象物に対する照射位置を、制御電圧値を出力し制御する荷電粒子ビーム位置制御部と、該位置制御部からの制御電圧値を補正して補正電圧値を出力する入力電圧補正部と、補正電圧値を記憶する補正記憶部と、入力電圧補正部からの出力により荷電粒子ビームの軌跡を変化させる静電電極と、静電電極に補正電圧値に応じた電圧を印加するアンプ部と、荷電粒子ビーム位置制御部からの制御電圧値の入力開始から経過時間を計測するタイマとを有し、入力電圧補正部は、補正記憶部の記憶内容から、タイマが計測した経過時間と制御電圧値とに応じた補正電圧値を設定し、該補正電圧値をもとに静電電極への出力電圧を制御することで、荷電粒子ビームの照射位置を制御する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以廉价的结构精确地控制带电粒子束的照射位置的带电粒子束装置。解决方案：带电粒子束装置包括：带电粒子枪; 带电粒子束位置控制单元，其输出控制电压值以控制从所述枪照射的带电粒子束相对于照射对象的照射位置; 输入电压校正单元，其从所述位置控制单元校正所述控制电压值，以输出校正的电压值; 校正存储单元，其存储校正的电压值; 通过输入电压校正单元的输出改变带电粒子束的轨迹的静电电极; 放大单元，向所述静电电极施加与所述校正电压值对应的电压; 以及计时器，其测量从开始输入来自带电粒子束位置控制单元的控制电压值所经过的时间。基于存储在校正存储单元中的内容，输入电压校正单元设置与由定时器测量的经过时间对应的校正电压值和控制电压值，使得通过控制来控制带电粒子束的照射位置，基于校正的电压值，输出到静电电极的电压。

3. 发明专利

JP6416544B2 荷電粒子ビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP6416544B2
公开(公告)日：2018-10-31
申请号：JP2014172186
申请日：2014-08-27
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：池田一樹 , 李ウェン , 門井涼 , 金井久亮 , 川野源 , 高橋弘之 , 鈴木誠
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/06 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/292 , H01J2237/221 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592 , H01J2237/28

4. 发明专利

JP2017130334A 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置の画像形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017130334A
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：JP2016008593
申请日：2016-01-20
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：李ウェン , 池田一樹 , 西元琢真 , 高橋弘之 , 川野源
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2448
摘要：【課題】微細なパターンを検査又は計測する検査計測装置において、パルスカウント方式を用いて分解能を向上させ、深穴パターンの底部の視認性向上させるため、高精度にパルス信号を検出することを可能にする。【解決手段】収束させた荷電粒子線を試料に照射し走査して試料から発生した二次荷電粒子を検出部で検出し、検出部からの出力信号を受けて処理し、処理した信号を受けて試料の画像を形成する荷電粒子ビーム装置の画像形成方法において、検出部からの出力信号を受けて処理することを、検出部からの出力信号をアナログ処理することと、検出部からの出力信号をパルスカウント処理することにより行い、パルスカウント処理することは、検出部からの出力信号のうちリンギングパルス信号を除去し、このリンギングパルス信号を除去した信号に対してパルスをカウントすることにより行うようにした。【選択図】図1

5. 发明专利

JP2016046229A 荷電粒子ビーム装置および画像生成方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置和图像生成方法
公开(公告)号：JP2016046229A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2014172186
申请日：2014-08-27
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：池田一樹 , 李ウェン , 門井涼 , 金井久亮 , 川野源 , 高橋弘之 , 鈴木誠
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/06 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/292 , H01J2237/221 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592 , H01J2237/28
摘要：【課題】検査計測装置における計測・検査画像の視認性を向上させる技術を提供することを目的とする。【解決手段】試料に荷電粒子ビームを照射し、前記試料の画像を撮像する荷電粒子ビーム装置であって、前記荷電粒子ビームを生成する荷電粒子銃と、前記荷電粒子銃から放出された荷電粒子ビームを試料表面に照射して走査する電子光学系と、前記試料から発生する二次電子または反射電子を検出し、前記パルス信号に変換する検出器と、前記検出器で変換されたパルス信号の時刻に関する時刻検出情報および前記パルス信号の波高値に関する波高値検出情報を検出するパルス信号検出回路と、前記パルス信号検出回路で検出された前記パルス信号の時刻検出信号および波高値検出信号に基づいて、前記撮像した画像の輝度階調を生成する画像処理部と、を有する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于提高检查和测量装置中的测量和检查图像的可视性的技术。解决方案：一种带电粒子束装置，用于用带电粒子束照射样品并拾取样品的图像，包括：产生带电粒子束的带电粒子枪; 电子光学系统，其从带电粒子枪发射的带电粒子束照射和扫描样品的表面; 检测器，其检测从样品产生的二次电子或反射电子，并将电子转换成脉冲信号; 脉冲信号检测电路，其检测与由检测器转换的脉冲信号的时间有关的时间检测信息和与脉冲信号的峰值相关的峰值检测信息; 以及图像处理单元，其基于由脉冲信号检测电路检测的脉冲信号的时间检测信号和峰值检测信号，生成拍摄图像的亮度等级。图1

6. 发明专利

JP6474916B2 高電圧電源装置および、荷電粒子ビーム装置有权
公开(公告)号：JP6474916B2
公开(公告)日：2019-02-27
申请号：JP2017554689
申请日：2015-12-08
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：西元琢真 , 李ウェン , 高橋弘之 , 川野源
IPC分类号： H01J37/248

7. 发明专利

JP2018113096A 荷電粒子ビーム装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018113096A
公开(公告)日：2018-07-19
申请号：JP2015081963
申请日：2015-04-13
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：門井涼 , 李ウェン , 池田一樹 , 川野源 , 高橋弘之
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20 , G01B15/00 , H01L21/66 , H01J37/147
CPC分类号： G01B15/00 , G01B2210/56 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/28
摘要：【課題】ブランキング電極を高速でON・OFF動作させても歪の無い画像が得られて、微細なパターンの計測又は検査を高精度に行うことを可能にする荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】荷電粒子源部と、荷電粒子源部から発射された荷電粒子ビームをブランキングするブランキング電極部10と、荷電粒子源部から発射されてブランキング電極部を通過した荷電粒子ビームを偏向させる偏向電極部11と、偏向電極部で偏向された荷電粒子ビームを収束させて試料表面に照射する対物レンズ部と、荷電粒子ビームを照射された試料から発生した2次荷電粒子を検出する2次荷電粒子検出部と、2次荷電粒子検出部が2次荷電粒子を検出して得た信号を処理する信号処理部と、全体を制御する制御部とを備えた荷電粒子装置において、制御部は、ブランキング電極で荷電粒子ビームのブランキングをOFFにした時の過渡信号を補正する過渡信号補正部を備える。【選択図】図2

8. 发明专利

JP6239633B2 荷電粒子線装置有权
公开(公告)号：JP6239633B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2015538947
申请日：2014-06-11
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：横須賀俊之 , 李燦 , 数見秀之 , 川野源 , ホックシャヘドゥル , 清水久美子 , 高橋弘之
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/24 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J2237/2803 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01J2237/2826 , H01J2237/3045

9. 发明专利

JP2015130309A 荷電粒子ビーム装置有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2015130309A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：JP2014002260
申请日：2014-01-09
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：李ウェン , 門井涼 , 池田一樹 , 高橋弘之 , 川野源
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/05
CPC分类号： H01J37/1472 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/1504 , H01J2237/1508 , H01J2237/152 , H01J2237/1534 , H01J2237/2804 , H01J2237/2806
摘要：【課題】二次電子・反射電子の大角度偏向を実現すると共に、電磁偏向器と静電偏向器のノイズを打ち消して一次ビーム/二次ビーム分離回路の回路ノイズが起因する一次電子ビームの位置ずれを抑制する荷電粒子ビーム装置を用いた処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】ステージに載置した試料上に集束させた電子ビームを照射して走査する電子光学系を備えて試料を撮像する荷電粒子ビーム装置では、検出器へ入射させる二次電子/反射電子の軌跡を制御する重畳電磁偏向器制御手段において、静電偏向器を発生する静電偏向器へ印加する電圧源制御信号の基準信号や信号生成部と、静磁場を発生する電磁偏向器へ印加する電流源制御信号の基準信号や信号生成部と共通化することと、電圧制御信号の周波数特性および位相特性と、電流源制御信号の周波数特性および位相特性と一致することを含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够实现二次电子和反射电子的大角度偏转的带电粒子束装置，并且消除电磁偏转器和静电偏转器的噪声，以抑制由电路噪声引起的一次电子束的位置偏差的主光束/次光束分离电路，并且提供处理装置和处理方法。解决方案：带电粒子束装置包括电子光学系统，照射放置在具有会聚电子束的台上的样品以进行扫描，以及拍摄样品。在叠加电磁偏转器控制装置中，控制要进入检测器的二次电子/反射电子的迹线，生成参考信号的一部分或将要施加到产生静电场的静电偏转器的电压源控制信号的信号，以及产生参考信号的一部分或将要施加到产生静磁场的电磁偏转器的电流源控制信号的信号被共同化，并且电压控制信号的频率特性和相位特性与电流源控制的频率特性和相位特性一致信号。

10. 发明专利

JP2019215976A 荷電粒子ビーム制御装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019215976A
公开(公告)日：2019-12-19
申请号：JP2018111493
申请日：2018-06-12
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：村上真一 , 李ウェン , 高橋弘之 , 利根正純
IPC分类号： G05F1/56 , H01J37/248
摘要：【課題】荷電粒子ビーム制御装置において、グランド電位のばらつきにより電子ビームの照射精度が悪化することを防止する。【解決手段】電流制御回路(1)は、制御信号(V1)に基づき電流検出抵抗(R1)に流れる電流量を調整して定電流(Id)を供給する電流変換部(4)と、制御信号の第1のグランド側端子電圧(G1)と電流検出抵抗(R1)の第2のグランド側端子電圧(G2)とが入力され第1のグランド側端子電圧(G1)と第2のグランド側端子電圧(G2)との電圧差に比例した出力信号(V3)を出力する差動増幅部(5)と、差動増幅部(5)が出力した出力信号(V3)と制御信号(V1)とが入力され出力信号(V3)と制御信号(V1)を所定の比率で加算する補正部(6)とを有する。【選択図】図2

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