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    • 1. 发明专利
    • レーザー加工方法
    • JP2021178338A
    • 2021-11-18
    • JP2020084041
    • 2020-05-12
    • 株式会社ディスコ
    • 小林 正和鈴木 元小川 雄輝
    • B23K26/067H01L21/301B23K26/00
    • 【課題】半導体デバイスにおける抗折強度の低下を抑制することができるレーザー加工方法を提供すること。 【解決手段】レーザー加工方法は、レーザービームを発振するレーザー発振器、レーザービームを集光する集光ユニット、およびレーザービームを少なくとも2以上に分岐する分岐ユニットを含むレーザービーム照射ユニットと、被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルとレーザービームとを加工送り方向に相対的に移動させる加工送りユニットと、を備えたレーザー加工装置を用いて、被加工物の表面におけるレーザービームの分岐間隔36をLとし、加工送りユニットの加工送り速度を加工点におけるレーザービームの周波数で除算した値(ショット間隔37)をSとし、nを任意の整数とした場合、L≠n×Sとなるように、分岐間隔36、加工送り速度および周波数を設定する。 【選択図】図5