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1. 发明申请

WO2010018639A1 蒸着装置及び薄膜デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：沉积装置和制造薄膜装置的方法
公开(公告)号：WO2010018639A1
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：PCT/JP2008/064647
申请日：2008-08-15
申请人：株式会社シンクロン , 長江亦周 , 姜友松 , 塩野一郎 , 清水匡之 , 林達也 , 古川誠 , 村田尊則
发明人：長江亦周 , 姜友松 , 塩野一郎 , 清水匡之 , 林達也 , 古川誠 , 村田尊則
IPC分类号： C23C14/22
CPC分类号： C23C14/22 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/221 , C23C14/225 , H01J2237/0041 , H01J2237/3132
摘要：【課題】高いイオンビームアシストの効果を引き出すことができる蒸着装置１を提供する。【解決手段】真空容器１０内に設けられた基板ホルダ１２と、基板ホルダ１２に支持された基板１４と、基板１４に対向して設けられた蒸着源３４と、基板１４に対してイオンビームを照射するイオン源３８と、基板１４に対して電子を照射するニュートラライザ４０と、を備える蒸着装置１において、イオン源３８を真空容器１０の側面に配設することにより、イオンビームを基板１４に対して所定角度θを有して入射させることができる蒸着装置１が構成される。蒸着装置１を用いることで光学フィルターの膜質の改善を図ることができる。
摘要翻译：本发明提供一种能够产生高离子束辅助效果的沉积设备（1）。一种沉积设备（1）包括设置在真空容器（10）中的衬底保持器（12），衬底（14），与基板（14）相对设置的沉积源（34），用离子束照射基板（14）的离子源（38）和中和器（40）），用于用电子照射衬底（14）。沉积装置（1）被构造成使得离子束能够通过将离子源（38）设置在真空容器（10）的侧表面上而以相对于衬底（14）的预定角度（θ）进入。使用沉积装置（1）导致滤光器的膜质量的改善。

2. 发明专利

JPWO2016203585A1 成膜方法及び成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016203585A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2016501253
申请日：2015-06-17
申请人：株式会社シンクロン
发明人：石田将崇 , 林達也 , 菅原卓哉 , 我妻伸哉 , 宮内充祐 , 姜友松 , 長江亦周
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/58
CPC分类号： C23C14/34
摘要：本発明方法は、電圧が印加されている複数の基板Sを、順次、スパッタ放電によるスパッタリングプラズマによってターゲット29a,29bから放出されたスパッタ粒子が到達する成膜領域20内の所定位置に導入することにより、基板Sの表面にスパッタ粒子を到達させて堆積させるとともに、スパッタリングプラズマ中のイオンを基板Sもしくはスパッタ粒子の堆積物に衝突させるプラズマ処理を行い、薄膜を形成する成膜方法であり、排気系を有する真空容器11内に形成された成膜領域20内でスパッタ粒子の堆積とスパッタリングプラズマによるプラズマ処理を行い中間薄膜を形成した後、成膜領域20に対して空間的に分離して配置された反応領域60内に基板Sを移動させ、中間薄膜にスパッタリングプラズマとは別のプラズマ中のイオンを衝突させるプラズマ再処理を行い、薄膜を形成する。

3. 发明专利

JP5769857B2 成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP5769857B2
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：JP2014194494
申请日：2014-09-24
申请人：株式会社シンクロン
发明人：林達也 , 姜友松 , 長江亦周 , 宮内充祐 , 佐守真悟
IPC分类号： C23C14/48 , C23C14/24 , C23C14/22

4. 发明专利

JP6288724B2 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP6288724B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2015540942
申请日：2015-04-24
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05B16/00 , B05C9/10 , B05C15/00 , B05D3/12
CPC分类号： B05B17/04 , B05B9/04 , B05B13/0221 , B05B14/20 , B05B16/60 , B05D1/02 , B05D3/0493 , B05D5/083 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/15

5. 发明专利

JP6533511B2 成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP6533511B2
公开(公告)日：2019-06-19
申请号：JP2016501253
申请日：2015-06-17
申请人：株式会社シンクロン
发明人：石田将崇 , 林達也 , 菅原卓哉 , 我妻伸哉 , 宮内充祐 , 姜友松 , 長江亦周
IPC分类号： C23C14/58 , C23C14/34

6. 发明专利

JP6021210B2 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
标题翻译：薄膜形成方法和薄膜的成膜装置
公开(公告)号：JP6021210B2
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：JP2015540934
申请日：2014-05-23
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05C5/00 , B05C11/10 , B05D1/02
CPC分类号： B05B15/1222 , B05B13/0221 , B05B9/04 , B05C9/10 , B05D1/02 , B05D3/00

7. 发明专利

JP5911160B1 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
标题翻译：薄膜形成方法和薄膜的成膜装置
公开(公告)号：JP5911160B1
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：JP2015540940
申请日：2015-05-01
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05C9/10 , B05D3/12
CPC分类号： B05C9/10 , B05D3/00
摘要：耐久性を備えた薄膜を低コストで成膜する方法を提供する。成膜装置(1)は、基板(100)が内部下方に配置される真空容器(11)と、該容器(11)内を排気する真空ポンプ(15)と、容器(11)外部に設けられた、成膜剤溶液(21)を貯蔵する貯蔵容器(23)と、成膜剤溶液(21)を吐出可能となる吐出部(19)を一端に持つノズル(17)と、貯蔵容器(23)内に貯蔵される成膜剤溶液(21)の液面を加圧する加圧手段(ガス供給源(29)など)を含む。成膜剤溶液(21)として、第1材料(S1)と該S1の蒸気圧(P1)よりも高い蒸気圧(P2)を持つ第2材料(S2)とを含む2種類以上の材料からなり、第1材料の濃度が0.01重量%以上の溶液を用いる。この成膜剤溶液(21)を、P2以上の圧力(但し、P2より一桁以上高い圧力を除く)の雰囲気下で、基板に0.05〜0.3MPaの吐出圧で吐出する。
摘要翻译：它提供了以较低的成本形成具有薄膜的耐久性的方法。成膜装置（1）包括：真空容器（11）连接到基板（100）设置在下部，真空泵内用于抽空的容器（11）（15），在所述容器（11）设置在外部并且，用于存储具有一个排出部，使排出沉积溶液（21）〜（19）在一端处，贮存器沉积的溶液（21）（23），喷嘴（17）的贮存器（23 ）含有（加压用于加压的21液体表面）（气体供给源（29单元）沉积的溶液，以被存储在，等等）。作为制膜原液（21）由两种或多种材料制成，并且第二材料（S2），其具有比所述第一材料的蒸气压力（S1）和S1（P1）高蒸汽压（P2）的中，第一材料的浓度，使用0.01重量％以上的解决方案。膜形成剂溶液（21），P2或多个压力（除了高压比P2高一个数量级）在0.05〜0.3MPa的衬底上的排放压力的排放的气氛下进行。

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