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1. 发明专利

TW201514491A 殘氯測定裝置及殘氯測定方法审中-公开
简体标题：残氯测定设备及残氯测定方法
公开(公告)号：TW201514491A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103127308
申请日：2014-08-08
申请人：東亞DKK股份有限公司 , DKK-TOA CORPORATION , 栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：石井丈夫 , ISHII, TAKEO , 赤澤真一 , AKAZAWA, SHINICHI , 森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA
IPC分类号： G01N27/416
CPC分类号： G01N27/4168
摘要：本發明係有關於殘氯測定裝置及殘氯測定方法，其特徵在於：在金製檢測極與銀/氯化銀製相對極之間施以選自+100至-50mV之範圍之第一施加電壓V1並求出第一氧化還原電流I(V1)，且在檢測極與相對極之間施以選自-150至-250mV之範圍之第二施加電壓V2並求出第二氧化還原電流I(V2)，接著由第一氧化還原電流I(V1)求出游離殘氯濃度Nf，且由第二氧化還原電流I(V2)減去依據游離殘氯濃度Nf之電流If(V2)而求出依據結合殘氯濃度Nc之電流Ic(V2)，並由電流Ic(V2)求出結合殘氯濃度Nc。依據本發明，可在不使用試劑下，將游離殘氯濃度及結合殘氯濃度分開個別求出。
简体摘要：本发明系有关于残氯测定设备及残氯测定方法，其特征在于：在金制检测极与银/氯化银制相对极之间施以选自+100至-50mV之范围之第一施加电压V1并求出第一氧化还原电流I(V1)，且在检测极与相对极之间施以选自-150至-250mV之范围之第二施加电压V2并求出第二氧化还原电流I(V2)，接着由第一氧化还原电流I(V1)求出游离残氯浓度Nf，且由第二氧化还原电流I(V2)减去依据游离残氯浓度Nf之电流If(V2)而求出依据结合残氯浓度Nc之电流Ic(V2)，并由电流Ic(V2)求出结合残氯浓度Nc。依据本发明，可在不使用试剂下，将游离残氯浓度及结合残氯浓度分开个别求出。

2. 外观设计

TWD167891S 水質分析計有权
简体标题：水质分析计
公开(公告)号：TWD167891S
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW103300125
申请日：2014-01-08
申请人：東亞DKK股份有限公司 , DKK-TOA CORPORATION , 栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
设计人：瀧澤諭 , TAKIZAWA, SATOSHI , 里哲也 , SATO, TETSUYA , 菅原修司 , SUGAWARA, SHUJI , 金野裕子 , KONNO, YUKO , 森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA

3. 发明专利

TW201506380A 溶存成分之濃度測定裝置审中-公开
简体标题：溶存成分之浓度测定设备
公开(公告)号：TW201506380A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103117891
申请日：2014-05-22
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD. , 東亞DKK股份有限公司 , DKK-TOA CORPORATION
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA , 里哲也 , SATO, TETSUYA , 瀧澤諭 , TAKIZAWA, SATOSHI
IPC分类号： G01N21/77 , F28F19/00
CPC分类号： G01N33/18 , G01N21/03 , G01N21/255 , G01N21/59 , G01N2021/0325 , G01N2021/0367
摘要：本發明提供能夠容易而且精度佳地測定水中的複數種類的溶存成分的濃度之溶存成分之濃度測定裝置。具有複數個胞(1)藉由連結構件(2)連結而一體化，於該胞(1)內收容著測定試藥之胞連結體(3)，以及具有該胞連結體(3)之各胞(1)被插入的透過率或吸光度的測定部(發光元件(8)及受光元件(9))之測定器本體(5)的溶存成分之濃度測定裝置。於各胞(1)可拆合地被安裝著蓋(4)。
简体摘要：本发明提供能够容易而且精度佳地测定水中的复数种类的溶存成分的浓度之溶存成分之浓度测定设备。具有复数个胞(1)借由链接构件(2)链接而一体化，于该胞(1)内收容着测定试药之胞链接体(3)，以及具有该胞链接体(3)之各胞(1)被插入的透过率或吸光度的测定部(发光组件(8)及受光组件(9))之测定器本体(5)的溶存成分之浓度测定设备。于各胞(1)可拆合地被安装着盖(4)。

4. 发明专利

TWI638154B 水處理藥品濃度算出系統及方法有权
简体标题：水处理药品浓度算出系统及方法
公开(公告)号：TWI638154B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW103142854
申请日：2014-12-09
申请人：日商栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA
IPC分类号： G01N21/31 , G01N21/77

5. 发明专利

TWI516639B 鍋爐用抗蝕劑有权
简体标题：锅炉用抗蚀剂
公开(公告)号：TWI516639B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100125136
申请日：2011-07-15
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA
IPC分类号： C23F11/14 , C09K15/18 , C02F1/66 , C02F1/70
CPC分类号： C23F11/142 , C23F11/14 , F22B37/025

6. 发明专利

TWI515340B 鍋爐的抗蝕方法有权
简体标题：锅炉的抗蚀方法
公开(公告)号：TWI515340B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW100124431
申请日：2011-07-11
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA
IPC分类号： C23F11/14 , C09K15/18 , C02F1/66 , C02F5/12 , F22B37/48
CPC分类号： C23F11/149 , C02F1/70 , C02F5/12 , C02F2303/08 , C09K5/048 , C09K15/20 , C23F11/08 , C23F11/10 , C23F11/141 , C23F11/142 , F22B37/025

7. 发明专利

TWI591464B 設備管理系統有权
简体标题：设备管理系统
公开(公告)号：TWI591464B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW103117890
申请日：2014-05-22
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA , 福江晋 , FUKUE, SUSUMU
IPC分类号： G05B23/02 , G06F17/30
CPC分类号： G01N33/18 , C02F1/008 , C02F2103/023 , C02F2201/008 , C02F2209/008 , C02F2303/08 , C02F2303/14 , C02F2303/20 , C02F2303/22 , G05B11/012

8. 发明专利

TW201534887A 水處理藥品濃度算出系統及方法审中-公开
简体标题：水处理药品浓度算出系统及方法
公开(公告)号：TW201534887A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103142854
申请日：2014-12-09
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA
IPC分类号： G01N21/31 , G01N21/77
CPC分类号： G01N33/18 , C02F1/008 , C02F2103/023 , C02F2209/001 , C02F2209/006 , C02F2209/008 , G01N21/255 , G01N21/31 , G01N21/78 , G01N21/79 , G01N31/22 , G01N33/1826 , G01N33/442 , G01N2201/12723
摘要：本發明之水處理藥品濃度算出系統，係容易算出添加於水系之水處理藥品的濃度。水處理藥品濃度算出系統，係具備有：水質分析計(1)、記憶水處理藥品的成分及摻合率之資訊的資料庫(31、32)、將前述資料庫(31、32)內的資訊進行送訊的伺服器(30)、以及將從前述伺服器取得的資訊傳輸至前述水質分析計的通訊裝置(2)。水質分析計(1)，係具有：記憶對濃度與吸光度的關係作規定之檢量曲線的記憶部(11)、從前述通訊裝置(2)接收前述成分及摻合率之資訊的通訊部(12)、對分析對象之水照射光的照射部(13)、檢測透過光的檢測部(14)、以及根據前述檢測部之檢測結果算出吸光度，從前述記憶部(11)取出與前述通訊部接收到的資訊中所包含之成分相對應的檢量曲線，參照所取出的檢量曲線，並根據所算出的吸光度來算出前述成分之濃度的運算控制部(10)。
简体摘要：本发明之水处理药品浓度算出系统，系容易算出添加于水系之水处理药品的浓度。水处理药品浓度算出系统，系具备有：水质分析计(1)、记忆水处理药品的成分及掺合率之信息的数据库(31、32)、将前述数据库(31、32)内的信息进行送讯的服务器(30)、以及将从前述服务器取得的信息传输至前述水质分析计的通信设备(2)。水质分析计(1)，系具有：记忆对浓度与吸光度的关系作规定之检量曲线的记忆部(11)、从前述通信设备(2)接收前述成分及掺合率之信息的通信部(12)、对分析对象之水照射光的照射部(13)、检测透过光的检测部(14)、以及根据前述检测部之检测结果算出吸光度，从前述记忆部(11)取出与前述通信部接收到的信息中所包含之成分相对应的检量曲线，参照所取出的检量曲线，并根据所算出的吸光度来算出前述成分之浓度的运算控制部(10)。

9. 发明专利

TW201512798A 設備管理系統审中-公开
简体标题：设备管理系统
公开(公告)号：TW201512798A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103117890
申请日：2014-05-22
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森信太郎 , MORI, SHINTAROU , 志村幸祐 , SHIMURA, YUKIMASA , 福江晋 , FUKUE, SUSUMU
IPC分类号： G05B23/02 , G06F17/30
CPC分类号： G01N33/18 , C02F1/008 , C02F2103/023 , C02F2201/008 , C02F2209/008 , C02F2303/08 , C02F2303/14 , C02F2303/20 , C02F2303/22 , G05B11/012
摘要：設備管理系統，係利用水處理設備對水進行取樣，迅速作成水處理設備的維護等所需的資訊。設備管理系統，係具備具有記憶表示水處理設備(1)之作動狀態的資訊之運轉資料庫(44)的管理中心(40)、進行從水處理設備(1)採取之水的水質分析的攜帶型水質分析計(20)、從攜帶型水質分析計(20)取得分析結果，無線發送分析結果的通訊裝置(30)。管理中心(40)，係接收從通訊裝置(30)發送的分析結果，使用分析結果，作成表示水處理設備(1)之作動狀態的資訊，並登記於運轉資料庫(44)。
简体摘要：设备管理系统，系利用水处理设备对水进行采样，迅速作成水处理设备的维护等所需的信息。设备管理系统，系具备具有记忆表示水处理设备(1)之作动状态的信息之运转数据库(44)的管理中心(40)、进行从水处理设备(1)采取之水的水质分析的便携式水质分析计(20)、从便携式水质分析计(20)取得分析结果，无线发送分析结果的通信设备(30)。管理中心(40)，系接收从通信设备(30)发送的分析结果，使用分析结果，作成表示水处理设备(1)之作动状态的信息，并登记于运转数据库(44)。

10. 发明专利

TWI589866B 孔蝕監控用測試件、孔蝕監控裝置以及孔蝕監控方法有权
简体标题：孔蚀监控用测试件、孔蚀监控设备以及孔蚀监控方法
公开(公告)号：TWI589866B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW103101699
申请日：2014-01-17
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：居安志 , IYASU, TAKASHI , 森信太郎 , MORI, SHINTAROU
IPC分类号： G01N27/00 , G01N17/00 , G01N27/20
CPC分类号： G01N17/02

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