专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI539997B 粉體處理裝置及粉體處理方法有权
简体标题：粉体处理设备及粉体处理方法
公开(公告)号：TWI539997B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW101133387
申请日：2012-09-12
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：田中則之 , TANAKA, NORIYUKI , 平岩次郎 , HIRAIWA, JIRO , 向井崇洋 , MUKAI, TAKAHIRO
IPC分类号： B01J8/18
CPC分类号： B01F3/068 , B01F2003/063 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/40 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/15 , Y10T137/87652

2. 发明专利

TW201313318A 粉體處理裝置及粉體處理方法审中-公开
简体标题：粉体处理设备及粉体处理方法
公开(公告)号：TW201313318A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101133387
申请日：2012-09-12
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：田中則之 , TANAKA, NORIYUKI , 平岩次郎 , HIRAIWA, JIRO , 向井崇洋 , MUKAI, TAKAHIRO
IPC分类号： B01J8/18
CPC分类号： B01F3/068 , B01F2003/063 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/40 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/15 , Y10T137/87652
摘要：本發明係提供一種粉體處理裝置及粉體處理方法。於反應容器內，設置處理用空間。於反應容器之下端部，設置一氣體導入口。於一氣體導入口，安裝分散板。於反應容器之下部側面，設置另一氣體導入口。於反應容器內之分散板上，收納作為被處理物之粉體。分散板以氣體可通過但粉體不可通過之方式而構成。自一氣體導入口通過分散板將氮氣導入處理用空間中，且自另一氣體導入口不通過分散板將處理用氣體導入處理用空間中。
简体摘要：本发明系提供一种粉体处理设备及粉体处理方法。于反应容器内，设置处理用空间。于反应容器之下端部，设置一气体导入口。于一气体导入口，安装分散板。于反应容器之下部侧面，设置另一气体导入口。于反应容器内之分散板上，收纳作为被处理物之粉体。分散板以气体可通过但粉体不可通过之方式而构成。自一气体导入口通过分散板将氮气导入处理用空间中，且自另一气体导入口不通过分散板将处理用气体导入处理用空间中。

3. 发明专利

TWI515242B 表面處理裝置失效
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TWI515242B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW098107504
申请日：2009-03-06
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：平岩次郎 , HIRAIWA, JIRO , 竹林仁 , TAKEBAYASHI, HITOSHI , 吉本修 , YOSHIMOTO, OSAMU , 田中則之 , TANAKA, NORIYUKI , 藤田一郎 , FUJITA, ICHIRO , 佐佐木啟能 , SASAKI, HIROYOSHI , 森一高 , MORI, KAZUTAKA
IPC分类号： C08J7/12
CPC分类号： H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109

4. 发明专利

TWI390084B 氟系氣體產生裝置失效
简体标题：氟系气体产生设备
公开(公告)号：TWI390084B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW095124690
申请日：2006-07-06
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：田中則之 , TANAKA, NORIYUKI , 吉本修 , YOSHIMOTO, OSAMU , 平岩次郎 , HIRAIWA, JIRO , 早川宏 , HAYAKAWA, HIROSHI , 東城哲朗 , TOJO, TETSURO
IPC分类号： C25B9/00 , C25B1/24 , C25B15/02
CPC分类号： C25B1/245 , C25B15/02 , C25B15/08

5. 发明专利

TW201328772A 粉體攪拌裝置审中-公开
简体标题：粉体搅拌设备
公开(公告)号：TW201328772A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101131911
申请日：2012-08-31
申请人：東洋炭素股份有限公司 , TOYO TANSO CO., LTD.
发明人：本宮誠 , HONGU, MAKOTO , 真鍋信孝 , MANABE, NOBUTAKA , 竹林仁 , TAKEBAYASHI, HITOSHI , 高田順司 , TAKADA, JUNJI , 田中則之 , TANAKA, NORIYUKI
IPC分类号： B01F3/06 , B01F13/02
CPC分类号： B01J8/10 , B01F3/06 , B01F9/001 , B01F9/0016 , B01F9/06 , B01F2003/063 , B01J2/12 , B01J2/18 , B01J8/002 , B01J8/008 , B01J8/085 , B01J8/087 , B01J8/16 , B01J19/28 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00858 , B01J2219/00761
摘要：本發明之粉體攪拌裝置包含反應容器及旋轉驅動裝置。反應容器具有圓筒形狀之外周壁及一對端面壁。於外周壁之一端及另一端分別設置端面壁。反應容器係以使外周壁之軸心平行於水平方向之方式配置於隔熱罩內。外周壁具有相對於其軸心旋轉對稱之內周面。於粉體處理時，在反應容器內收容粉體，反應容器藉由旋轉驅動裝置而繞著通過外周壁之軸心之旋轉軸旋轉。在該狀態下，向反應容器內供給處理氣體。又，將反應容器內之處理氣體排出。
简体摘要：本发明之粉体搅拌设备包含反应容器及旋转驱动设备。反应容器具有圆筒形状之外周壁及一对端面壁。于外周壁之一端及另一端分别设置端面壁。反应容器系以使外周壁之轴心平行于水平方向之方式配置于隔热罩内。外周壁具有相对于其轴心旋转对称之内周面。于粉体处理时，在反应容器内收容粉体，反应容器借由旋转驱动设备而绕着通过外周壁之轴心之旋转轴旋转。在该状态下，向反应容器内供给处理气体。又，将反应容器内之处理气体排出。

6. 发明专利

TW200946572A 表面處理裝置失效
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TW200946572A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098107504
申请日：2009-03-06
申请人：東洋炭素股份有限公司
发明人：平岩次郎 , 竹林仁 , 吉本修 , 田中則之 , 藤田一郎 , 佐佐木啟能 , 森一高
IPC分类号： C08J
CPC分类号： H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109
摘要：表面處理裝置100，是具備：稀釋氣體供給裝置（1）、及氟氣體供給裝置（2）、及將稀釋氣體及氟氣體混合的混合器（5）、及使用由混合器（5）生成的混合氣體將被處理物處理的反應器（6）。將從稀釋氣體供給裝置供給的稀釋氣體由加熱器（8）加熱，將被加熱的稀釋氣體及從氟氣體供給裝置供給的氟氣體在混合器（5）混合。被混合的氣體，是朝反應器（6）被送出。反應器（6）內的氣體，是藉由排氣裝置（207）從反應器（6）朝流路（219）、（220）、（221）、（222）被導引。閥（223）、（224）、（225）、（226）是依順被打開，將反應器（6）內的氣體的流量，一邊藉由使用流路（219）、（220）、（221）、（222）調整，一邊將反應器（6）內的氣體朝除害裝置（208）被送出。
简体摘要：表面处理设备100，是具备：稀释气体供给设备（1）、及氟气体供给设备（2）、及将稀释气体及氟气体混合的混合器（5）、及使用由混合器（5）生成的混合气体将被处理物处理的反应器（6）。将从稀释气体供给设备供给的稀释气体由加热器（8）加热，将被加热的稀释气体及从氟气体供给设备供给的氟气体在混合器（5）混合。被混合的气体，是朝反应器（6）被送出。反应器（6）内的气体，是借由排气设备（207）从反应器（6）朝流路（219）、（220）、（221）、（222）被导引。阀（223）、（224）、（225）、（226）是依顺被打开，将反应器（6）内的气体的流量，一边借由使用流路（219）、（220）、（221）、（222）调整，一边将反应器（6）内的气体朝除害设备（208）被送出。

7. 发明专利

TWI332037B 氣體產生裝置 GAS GENERATOR 失效
简体标题：气体产生设备 GAS GENERATOR
公开(公告)号：TWI332037B
公开(公告)日：2010-10-21
申请号：TW093136785
申请日：2004-11-29
申请人：東洋炭素股份有限公司
发明人：早川宏 , 吉本修 , 田中則之 , 平岩次郎 , 東城哲朗
IPC分类号： C25B
CPC分类号： C25B15/02 , C25B1/245 , C25B15/08
摘要：本發明是提供一種：藉由延長過濾器的壽命，而可長時間保護壓力調整閥的氣體產生裝置。
本發明的氣體產生裝置，是對電解槽內的電解浴進行電解後產生氣體的氣體產生裝置，其中具備：可去除氣體產生裝置所衍生之不需要的成分的去除塔、和去除前述去除塔所排出之微粒的過濾器、及可調整前述電解槽內壓力的壓力調整閥，而前述的過濾器是插入在前述去除塔的下游，且前述壓力調整閥是配置在前述過濾器的下游。
简体摘要：本发明是提供一种：借由延长过滤器的寿命，而可长时间保护压力调整阀的气体产生设备。本发明的气体产生设备，是对电解槽内的电解浴进行电解后产生气体的气体产生设备，其中具备：可去除气体产生设备所衍生之不需要的成分的去除塔、和去除前述去除塔所排出之微粒的过滤器、及可调整前述电解槽内压力的压力调整阀，而前述的过滤器是插入在前述去除塔的下游，且前述压力调整阀是配置在前述过滤器的下游。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式