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1. 发明专利

TW200633582A 自發光元件的製造方法和製造裝置 METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATING SELF-EMISSION DEVICE 审中-公开
简体标题：自发光组件的制造方法和制造设备 METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATING SELF-EMISSION DEVICE
公开(公告)号：TW200633582A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW095107241
申请日：2006-03-03
申请人：東北先鋒股份有限公司 TOHOKU PIONEER CORPORATION
发明人：丹博樹 TAN, HIROKI
IPC分类号： H05B , H01L
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/54 , H01L51/0008 , H01L51/0011
摘要：在基板上直接或隔著其它層形成下部電極，在該下部電極上層疊成膜層之後形成上部電極的自發光元件的製造中，即使在下部電極上等的被成膜面上存在異物或凹凸的情況下，也不會形成成膜缺陷部。具備：成膜室(20)；基板保持單元(22)，把基板(1)保持在成膜室(20)內；壓力調整氣體流入路徑(20A)，使壓力調整氣體(Gp)流入成膜室(20)內；以及原料氣體產生部(21)，與壓力調整氣體流入路徑(20A)分開地設置在成膜室(20)內，產生成膜材料的原料氣體(Gm)，在使壓力調整氣體(Gp)流入成膜室(20)內的加壓狀態下，使下部或上部電極(2、4)、或者成膜層(3)的至少一層成膜。
简体摘要：在基板上直接或隔着其它层形成下部电极，在该下部电极上层叠成膜层之后形成上部电极的自发光组件的制造中，即使在下部电极上等的被成膜面上存在异物或凹凸的情况下，也不会形成成膜缺陷部。具备：成膜室(20)；基板保持单元(22)，把基板(1)保持在成膜室(20)内；压力调整气体流入路径(20A)，使压力调整气体(Gp)流入成膜室(20)内；以及原料气体产生部(21)，与压力调整气体流入路径(20A)分开地设置在成膜室(20)内，产生成膜材料的原料气体(Gm)，在使压力调整气体(Gp)流入成膜室(20)内的加压状态下，使下部或上部电极(2、4)、或者成膜层(3)的至少一层成膜。

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