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1. 发明申请

WO2008053697A1 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：积极抵抗组合物和形成电阻图案的方法
公开(公告)号：WO2008053697A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/JP2007/070102
申请日：2007-10-15
申请人：東京応化工業株式会社 , 内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 吉井靖博
发明人：内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 吉井靖博
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , H01L21/0276 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記樹脂成分（Ａ）が一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）を有する共重合体（Ａ１）または一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）からなる重合体（Ａ２）を含有するポジ型レジスト組成物。［式（ＩＩ）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し；Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、Ｒ１～Ｒ３が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、Ｒ１～Ｒ３の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。Ｒ２及びＲ３は、一つの環構造を形成していてもよい。］
摘要翻译：一种正型抗蚀剂组合物，其包含可通过酸和酸产生剂组分（B）的作用而增加其碱溶性的树脂组分（A），所述酸和酸产生剂组分（B）在暴露于光时可产生酸，其中所述树脂组分（A）包含具有由通式（II）表示的构成单元（a1）的共聚物（A1）或具有由通式（II）表示的构成单元（a1）的聚合物（A2）[其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; R 1〜R 3独立地表示烷基或氟代烷基，条件是在氟化烷基中没有氟原子连接到碳原子上与R 1至R 3结合的叔碳原子相邻，R 1至R 3中的至少一个与R 3， / SUP>表示上述氟代烷基，R 2和R 3可以一起形成环结构。

2. 发明申请

WO2007066591A1 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于暴露暴露的积极抵抗组合物和形成电阻图案的方法
公开(公告)号：WO2007066591A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/JP2006/324066
申请日：2006-12-01
申请人：東京応化工業株式会社 , 佐々木一仁 , 清水宏明 , 遠藤浩太朗 , 大下京子
发明人：佐々木一仁 , 清水宏明 , 遠藤浩太朗 , 大下京子
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0007 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：　酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、上記樹脂成分（Ａ）が、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を主鎖に有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
摘要翻译：公开了含有具有酸分解性溶解抑制基团的树脂成分（A）的曝光用正性抗蚀剂组合物和曝光时产生酸的酸产生剂成分（B）。树脂组分（A）的碱溶性通过酸的作用而增加。用于浸渍曝光的正型抗蚀剂组合物的特征在于，树脂组分（A）含有具有由丙烯酸衍生的结构单元（a）的环状主链聚合物（A1）和非环状主链聚合物（A2）作为主链。

3. 发明申请

WO2008053698A1 化合物および高分子化合物审中-公开
标题翻译：化合物和聚合物
公开(公告)号：WO2008053698A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/JP2007/070103
申请日：2007-10-15
申请人：東京応化工業株式会社 , ダイトーケミックス株式会社 , 内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 島巻利治 , 丹羽賢親 , 周正斌
发明人：内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 島巻利治 , 丹羽賢親 , 周正斌
IPC分类号： C08F20/22 , C07C69/54 , C07C69/653 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C69/653 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/68 , G03F7/0397
摘要：一般式（Ｉ）で表される化合物、及び一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物。［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し；Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、Ｒ１～Ｒ３が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、Ｒ１～Ｒ３の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。Ｒ２及びＲ３は、一つの環構造を形成していてもよい。］
摘要翻译：公开了由通式（I）表示的化合物：和具有由通式（II）表示的构成单元（a1）的高分子化合物[其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; R 1〜R 3独立地表示烷基或氟代烷基，条件是在氟化烷基中，没有氟原子连接到碳原子上邻近与R 1至R 3结合的叔碳原子，R 1至R 3中的至少一个与R 3， / SUP>表示上述氟化烷基，R 2和R 3可以一起形成环结构。

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