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1. 发明专利

JP6832168B2 樹脂組成物、ブラックマトリクス、表示装置、及びブラックマトリクスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6832168B2
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：JP2017006934
申请日：2017-01-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：阿部明生 , 田上勝弥
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/027 , G02F1/1335 , G02B5/20

2. 发明专利

JP6717644B2 感光性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6717644B2
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：JP2016078240
申请日：2016-04-08
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：阿部明生 , 田上勝弥
IPC分类号： G03F7/027 , G02B5/20 , G03F7/20 , G03F7/004

3. 发明专利

JP2018116151A 樹脂組成物、ブラックマトリクス、表示装置、及びブラックマトリクスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018116151A
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：JP2017006934
申请日：2017-01-18
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：阿部明生 , 田上勝弥
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/027 , G02F1/1335 , G02B5/20
摘要：【課題】高抵抗であり耐水性に優れるブラックマトリクスを形成でき、感度に優れる感光性の樹脂組成物と、当該樹脂組成物を硬化してなるブラックマトリクスと、当該ブラックマトリクスを備える表示装置と、前述の樹脂組成物を用いるブラックマトリクスの製造方法と、を提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)遮光材と、(E)エポキシ化合物とを含む感光性の樹脂組成物において、主鎖中に芳香族環を含む樹脂を(A)アルカリ可溶性樹脂として用い、芳香族基を含む特定の構造であり平均分子量が800以上であるエポキシ化合物を(E)エポキシ化合物として用いる。【選択図】なし

4. 发明专利

JP2015099247A フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法有权
标题翻译：照相机和基板生产方法
公开(公告)号：JP2015099247A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：JP2013238676
申请日：2013-11-19
申请人： HOYA株式会社 , 東京応化工業株式会社
发明人：吉田光一郎 , 阿部明生
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/00
摘要：【課題】設備投資の増加及び生産効率の低下を抑制しながら、フォトリソグラフィにより、線幅2μm〜10μmの精細部分を有するラインパターンを形成することができるフォトマスク、及びこのフォトマスクを用いた基板の製造方法を提供する。【解決手段】線幅2μm〜10μmの精細部分を有するラインパターンと、該ラインパターンを囲繞する周辺領域とを形成するために用いられるフォトマスクであって、遮光部と、前記ラインパターンに対応する半透光部と、前記遮光部及び前記半透光部を囲繞し、前記周辺領域に対応する透光部とを有し、前記半透光部は、前記ラインパターンの前記精細部分よりも幅広であるフォトマスク、及びこのフォトマスクを用いた基板の製造方法を提供する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光掩模，其能够通过光刻法形成具有2-10μm的线宽度的高清晰度部分的线图案，同时抑制设备投资的增加和生产效率的劣化。解决方案：光掩模用于形成具有2-10μm的线宽度的高清晰度部分的线条图案和围绕线条图案的周边区域，并且包括遮光部分，对应于线条图案的半透明部分和透光部分，围绕遮光部分和半透明部分并且对应于周边区域。半透明部分比线条图案的高清部分宽。还提供了使用光掩模制造基板的方法。

5. 发明专利

JP2018205693A フォトマスク、及び、表示装置の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018205693A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2018056393
申请日：2018-03-23
申请人： HOYA株式会社 , 東京応化工業株式会社
发明人：小林周平 , 阿部明生
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20 , G03F1/00
摘要：【課題】近接露光方式によってフォトマスクの転写用パターンを被転写体上に転写する場合に、フォトマスクのパターン設計に忠実な高精細パターンを転写することが困難であった。【解決手段】被転写体上にブラックマトリックスを形成するための転写用パターンを透明基板上に備える、近接露光用のフォトマスクであって、転写用パターンは、第1のパターン形成領域に形成された、実質的に透光部からなるスリットパターンであって、一定幅W1の部分を有する第1のスリットパターンと、交差領域を除く第2のパターン形成領域に形成された、実質的に半透光部からなるスリットパターンであって、一定幅W1よりも小さい一定幅W2の部分を有する第2のスリットパターンと、独立には解像しないパターンであって、被転写体上に形成されるブラックマトリックス像の形状を整える補助パターンと、を備える。【選択図】図7

6. 发明专利

JP2017198918A 感光性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2017198918A
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2016091291
申请日：2016-04-28
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：鈴木茂 , 阿部明生 , 田上勝弥 , 舘野功 , 青木知三郎
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , C08G59/17 , C08F290/00 , G02F1/1335 , G03F7/032
摘要：【課題】抵抗値及び光学密度が高く、加熱による形状変化を起こしにくいブラックマトリックスを形成できる感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜と、当該硬化膜からなるブラックマトリックスと、当該ブラックマトリックスを備える表示装置とを提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)光重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)耐熱性樹脂、及び(E)遮光剤を含む感光性樹脂組成物において、軟化点が130℃未満の(A)アルカリ可溶性樹脂と、軟化点が130℃以上である(D)耐熱性樹脂と、染料で被覆されたカーボンブラックを含む(E)遮光剤と、を用いる。【選択図】なし

7. 发明专利

JP6838866B2 感光性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6838866B2
公开(公告)日：2021-03-03
申请号：JP2016091291
申请日：2016-04-28
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：鈴木茂 , 阿部明生 , 田上勝弥 , 舘野功 , 青木知三郎
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , C08G59/17 , C08F290/00 , G02F1/1335 , G03F7/032

8. 发明专利

JP2017187717A 感光性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2017187717A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2016078240
申请日：2016-04-08
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：阿部明生 , 田上勝弥
IPC分类号： G03F7/027 , G02B5/20 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要：【課題】カルド構造を有する樹脂の析出を抑制でき、且つ、平滑な硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜と、当該感光性樹脂組成物を用いる硬化膜の形成方法とを提供すること。【解決手段】カルド構造を有する樹脂を含む(A)アルカリ可溶性樹脂と(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(S)溶剤とを含有する感光性樹脂組成物において、大気圧下における沸点が180℃未満である(L)低沸点溶剤と、大気圧下における沸点が180℃以上300℃以下である(H)高沸点溶剤とを(S)溶剤としてそれぞれ所定量用い、(H)高沸点溶剤に芳香族炭化水素環とエステル結合とを有する化合物を含有させる。【選択図】なし

9. 发明专利

JP2015099263A ラインパターンの形成方法有权
标题翻译：形成线图的方法
公开(公告)号：JP2015099263A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：JP2013239117
申请日：2013-11-19
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：阿部明生 , 信太勝
IPC分类号： G03F7/004 , G02B5/20 , G03F7/031
摘要：【課題】低露光量、且つ幅広い範囲の露光量で、所望する寸法、且つ断面形状が裾引きのない矩形であるラインパターンを形成できる、ネガ型感光性樹脂組成物からなる塗布膜をハーフトーンマスクを介して露光することによるラインパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物からなる塗布膜をハーフトーンマスクを介して露光してラインパターンを形成する際に、(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性モノマーと、特定の構造のオキシム系化合物を含む(C)光重合開始剤と、(D)着色剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物を用いる。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供通过使用半色调掩模使包含负型感光性树脂组合物的涂膜曝光来形成线图案的方法，可以形成具有期望尺寸且不具有横截面形状的线条图案低曝光和宽范围的曝光。解决方案：通过使用半色调掩模将包含负型感光性树脂组合物的涂膜曝光来形成线图案。使用的负型感光性树脂组合物包含（A）碱溶性树脂，（B）光聚合性单体，（C）具有特定结构的肟化合物的光聚合引发剂和（D）着色剂。

10. 发明专利

JP6964029B2 フォトマスク、及び、表示装置の製造方法有权
公开(公告)号：JP6964029B2
公开(公告)日：2021-11-10
申请号：JP2018056393
申请日：2018-03-23
申请人： HOYA株式会社 , 東京応化工業株式会社
发明人：小林周平 , 阿部明生
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20 , G03F1/00

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