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1. 发明专利

TWI666418B 減壓乾燥裝置有权
简体标题：减压干燥设备
公开(公告)号：TWI666418B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106131914
申请日：2017-09-18
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： F26B5/04 , H01L21/02

2. 发明专利

TWI632716B 有機元件之製造方法、有機元件之製造裝置及有機元件有权
简体标题：有机组件之制造方法、有机组件之制造设备及有机组件
公开(公告)号：TWI632716B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103108930
申请日：2014-03-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石川拓 , ISHIKAWA, HIRAKU , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/50

3. 发明专利

TW201823652A 減壓乾燥裝置审中-公开
简体标题：减压干燥设备
公开(公告)号：TW201823652A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106131914
申请日：2017-09-18
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： F26B5/04 , H01L21/02
摘要：可以簡單裝置構成，在進行基板上的溶劑之減壓乾燥處理及來自溶劑捕集部的溶劑之脫離處理之雙方的減壓乾燥裝置中，縮短上述減壓乾燥處理之時間與上述脫離處理之時間。　　減壓乾燥裝置(1)係在減壓狀態下對收納於腔室(10)內的基板(W)上之溶液進行乾燥者，具備溶劑捕集部(30)，其由網狀板形成，而且暫時捕集從基板(W)氣化的溶液中的溶劑，溶劑捕集部(30)，係在腔室(10)內與基板(W)對向設置，構成溶劑捕集部(30)的網狀板，其開口率為60%以上80%以下，每一單位面積之熱容量為850J/K･m2以下。
简体摘要：可以简单设备构成，在进行基板上的溶剂之减压干燥处理及来自溶剂捕集部的溶剂之脱离处理之双方的减压干燥设备中，缩短上述减压干燥处理之时间与上述脱离处理之时间。　　减压干燥设备(1)系在减压状态下对收纳于腔室(10)内的基板(W)上之溶液进行干燥者，具备溶剂捕集部(30)，其由网状板形成，而且暂时捕集从基板(W)气化的溶液中的溶剂，溶剂捕集部(30)，系在腔室(10)内与基板(W)对向设置，构成溶剂捕集部(30)的网状板，其开口率为60%以上80%以下，每一单位面积之热容量为850J/K･m2以下。

4. 发明专利

TW201602388A 密封膜之形成方法及密封膜製造裝置审中-公开
简体标题：密封膜之形成方法及密封膜制造设备
公开(公告)号：TW201602388A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104112307
申请日：2015-04-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 石川拓 , ISHIKAWA, HIRAKU
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/42 , C23C16/50 , H05H1/46 , H05B33/04 , H01L33/44 , H01L51/50
摘要：提供一種使用不含氫原子或鹵素原子的原料，並以低溫來將密封膜形成於有機發光元件等之上的方法。密封膜製造裝置係具有：處理容器；台，係載置為被處理體之基板；電漿源，係在處理容器內讓含氮電漿(N2電漿)產生。處理容器係至少被區分為2個空間S1及空間S2。空間S1係將電漿生成用稀有氣體與氮氣導入而進行含氮電漿生成的電漿生成部。又，空間S2係藉由空間S1所生成的含氮電漿來分解分子內不含氫原子的矽化合物，而藉由CVD法來沉積作為密封膜的氮化矽膜之反應部。
简体摘要：提供一种使用不含氢原子或卤素原子的原料，并以低温来将密封膜形成于有机发光组件等之上的方法。密封膜制造设备系具有：处理容器；台，系载置为被处理体之基板；等离子源，系在处理容器内让含氮等离子(N2等离子)产生。处理容器系至少被区分为2个空间S1及空间S2。空间S1系将等离子生成用稀有气体与氮气导入而进行含氮等离子生成的等离子生成部。又，空间S2系借由空间S1所生成的含氮等离子来分解分子内不含氢原子的硅化合物，而借由CVD法来沉积作为密封膜的氮化硅膜之反应部。

5. 发明专利

TW201300557A 成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201300557A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101108989
申请日：2012-03-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小野裕司 , ONO, YUJI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 桑田拓岳 , KUWADA, HIROTAKA , 森田治 , MORITA, OSAMU
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/14 , C23C14/22 , H01L51/5076 , H01L2251/5346
摘要：本發明提供一種可進行所欲共蒸鍍之成膜裝置，成膜方法，有機發光元件的製造方法，及有機發光元件。成膜裝置的成膜頭係具備有朝向被處理基板噴出有機成膜材料的蒸氣之有機成膜材料供應部，與朝向被處理基板噴出無機成膜材料的蒸氣之無機成膜材料供應部。有機成膜材料供應部、無機成膜材料供應部係構成為可移動於水平方向及垂直方向，其配置係被控制為從噴出口所噴出之有機材料、無機材料的混合比例會在厚度方向不同之狀態下被加以成膜。
简体摘要：本发明提供一种可进行所欲共蒸镀之成膜设备，成膜方法，有机发光组件的制造方法，及有机发光组件。成膜设备的成膜头系具备有朝向被处理基板喷出有机成膜材料的蒸气之有机成膜材料供应部，与朝向被处理基板喷出无机成膜材料的蒸气之无机成膜材料供应部。有机成膜材料供应部、无机成膜材料供应部系构成为可移动于水平方向及垂直方向，其配置系被控制为从喷出口所喷出之有机材料、无机材料的混合比例会在厚度方向不同之状态下被加以成膜。

6. 发明专利

TW201728230A 乾燥裝置及乾燥處理方法审中-公开
简体标题：干燥设备及干燥处理方法
公开(公告)号：TW201728230A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105131096
申请日：2016-09-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： H05B33/10 , B05D3/02 , F26B5/04
摘要：在乾燥處理基板上之有機材料膜時，盡可能地降低混入在處理容器內之水分的影響。乾燥裝置係具備有：處理容器，係可抽真空；以及基板支撐部，係作為在處理容器內支撐基板的基板支撐部；在乾燥處理期間，於處理容器內之壓力從大氣壓到500Pa為止會將基板保持在第1高度位置，在處理容器內之壓力為3Pa以下便會將基板下降至較第1高度位置要低之第2高度位置。藉由在將基板保持在第1高度位置的狀態下進行減壓排氣，便可將處理容器內之水分迅速地從底壁之排氣口來加以排出。
简体摘要：在干燥处理基板上之有机材料膜时，尽可能地降低混入在处理容器内之水分的影响。干燥设备系具备有：处理容器，系可抽真空；以及基板支撑部，系作为在处理容器内支撑基板的基板支撑部；在干燥处理期间，于处理容器内之压力从大气压到500Pa为止会将基板保持在第1高度位置，在处理容器内之压力为3Pa以下便会将基板下降至较第1高度位置要低之第2高度位置。借由在将基板保持在第1高度位置的状态下进行减压排气，便可将处理容器内之水分迅速地从底壁之排气口来加以排出。

7. 发明专利

TW201505227A 有機元件之製造方法、有機元件之製造裝置及有機元件审中-公开
简体标题：有机组件之制造方法、有机组件之制造设备及有机组件
公开(公告)号：TW201505227A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103108930
申请日：2014-03-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：石川拓 , ISHIKAWA, HIRAKU , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/50
摘要：本發明之課題在於抑制水分滲入至有機EL元件。提供一種有機元件之製造方法，具有：將在用以密封一或是複數隔壁部與陽極上之有機層的第1密封層上形成有中間層之基板加以搬入之製程；以及將形成於該基板之中間層加以回蝕之製程；該回蝕製程係實行至該一或是複數隔壁部當中至少一隔壁部上的第1密封層之至少一部分從該中間層露出達到可和下一製程中所成膜的第2密封層相接觸之程度。
简体摘要：本发明之课题在于抑制水分渗入至有机EL组件。提供一种有机组件之制造方法，具有：将在用以密封一或是复数隔壁部与阳极上之有机层的第1密封层上形成有中间层之基板加以搬入之制程；以及将形成于该基板之中间层加以回蚀之制程；该回蚀制程系实行至该一或是复数隔壁部当中至少一隔壁部上的第1密封层之至少一部分从该中间层露出达到可和下一制程中所成膜的第2密封层相接触之程度。

8. 发明专利

TW201441568A 乾燥裝置及乾燥處理方法（一）审中-公开
简体标题：干燥设备及干燥处理方法（一）
公开(公告)号：TW201441568A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103108583
申请日：2014-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 精工愛普生公司 , SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：島村明典 , SHIMAMURA, AKINORI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 今田雄 , KONTA, YU , 佐田徹也 , SADA, TETSUYA , 西山淳 , NISHIYAMA, JUN , 齋藤廣美 , SAITO, HIROMI , 大田司 , OTA, TSUKASA , 田邊誠一 , TANABE, SEIICHI
IPC分类号： F26B5/04 , H01L51/50
摘要：提供一種可效率良好並短時間地除去塗佈在基板上之有機材料膜中的溶媒，並且溶媒之蒐集所使用之構件恢復容易的乾燥裝置。乾燥裝置係具備有：可抽真空的處理容器；作為在處理容器內支撐基板的支撐構件之載置台；設置成對向於被支撐在載置台的基板並蒐集從有機材料膜揮發的溶媒之溶媒蒐集部；以及控制部。又，溶媒蒐集部係具備有作為使被蒐集的溶媒脫離的溶媒脫離裝置之溫度調節裝置。溶媒蒐集部係具備有配置成對向於被載置在載置台的基板並與該基板之表面幾乎平行的1片或複數片的金屬製蒐集板。蒐集板上係形成有複數個貫通開口。
简体摘要：提供一种可效率良好并短时间地除去涂布在基板上之有机材料膜中的溶媒，并且溶媒之搜集所使用之构件恢复容易的干燥设备。干燥设备系具备有：可抽真空的处理容器；作为在处理容器内支撑基板的支撑构件之载置台；设置成对向于被支撑在载置台的基板并搜集从有机材料膜挥发的溶媒之溶媒搜集部；以及控制部。又，溶媒搜集部系具备有作为使被搜集的溶媒脱离的溶媒脱离设备之温度调节设备。溶媒搜集部系具备有配置成对向于被载置在载置台的基板并与该基板之表面几乎平行的1片或复数片的金属制搜集板。搜集板上系形成有复数个贯通开口。

9. 发明专利

TWI434324B 氣體清淨裝置及半導體製造裝置失效
简体标题：气体清净设备及半导体制造设备
公开(公告)号：TWI434324B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW096112081
申请日：2007-04-04
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：土橋和也 , DOBASHI, KAZUYA , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 田村明威 , TAMURA, AKITAKE
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： B01D46/521 , B01D46/0023

10. 发明专利

TWI423371B 基板處理裝置及粒子附著防止方法有权
简体标题：基板处理设备及粒子附着防止方法
公开(公告)号：TWI423371B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW097103495
申请日：2008-01-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：田村明威 , TAMURA, AKITAKE , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01J37/34 , H01J37/32522 , H01J37/3476 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/67248 , H01L21/67766 , H01L21/67772 , H01L21/67778

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