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1. 发明专利

TW200624254A 表面具有拒水親水膜之基材的製造方法审中-公开
简体标题：表面具有拒水亲水膜之基材的制造方法
公开(公告)号：TW200624254A
公开(公告)日：2006-07-16
申请号：TW094137930
申请日：2005-10-28
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：古川豐 FURUKAWA, YUTAKA
IPC分类号： B32B , C08G , C08J
CPC分类号： G03F7/0757 , B05D3/06 , B05D5/04 , B05D5/08 , C03C17/30 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C08J7/12
摘要：本發明提供一種不必特別裝置及長時間照射光之具有所期望的圖型化之新穎的拒水部份與親水部份之基材、及其製造方法。其係依步驟(1)~(3)之順序進行的表面具有拒水親水膜之基材的製造方法。其特徵係：步驟(1)為在基材上，形成存在有結合於矽原子之氫原子的表面之步驟。步驟(2)為在步驟(1)形成之表面的結合於矽原子之氫原子的一部份，使經氫甲矽烷基化反應而得之兼具不飽和鍵與拒水性部份的拒水性化合物(B)，在氫甲矽烷基化催化劑之存在下藉由進行氫甲矽烷基化，於表面之一部份導入拒水性部份，形成具有拒水性部份之表面的步驟。步驟(3)為藉由使存在於步驟(2)所形成之表面的殘餘之結合於矽原子的氫原子之至少一部份，轉換為親水性之基，於表面之一部份導入親水性部份，形成具有拒水性部份與親水性部份之表面的步驟。
简体摘要：本发明提供一种不必特别设备及长时间照射光之具有所期望的图型化之新颖的拒水部份与亲水部份之基材、及其制造方法。其系依步骤(1)~(3)之顺序进行的表面具有拒水亲水膜之基材的制造方法。其特征系：步骤(1)为在基材上，形成存在有结合于硅原子之氢原子的表面之步骤。步骤(2)为在步骤(1)形成之表面的结合于硅原子之氢原子的一部份，使经氢甲硅烷基化反应而得之兼具不饱和键与拒水性部份的拒水性化合物(B)，在氢甲硅烷基化催化剂之存在下借由进行氢甲硅烷基化，于表面之一部份导入拒水性部份，形成具有拒水性部份之表面的步骤。步骤(3)为借由使存在于步骤(2)所形成之表面的残余之结合于硅原子的氢原子之至少一部份，转换为亲水性之基，于表面之一部份导入亲水性部份，形成具有拒水性部份与亲水性部份之表面的步骤。

2. 发明专利

TW200804978A 具有親水性領域與拒水性領域之處理基材以及其製造方法审中-公开
简体标题：具有亲水性领域与拒水性领域之处理基材以及其制造方法
公开(公告)号：TW200804978A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096107672
申请日：2007-03-06
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：古川豐 FURUKAWA, YUTAKA
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/02118 , G03F7/027 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , H01L21/312 , Y10T428/265 , Y10T428/3154 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
摘要：提供表面具有對比度高之親水性領域與拒水性領域之處理基材。又,提供不必須特別的裝置和照射高能量光、長時間光,可經由低光量於短時間下製造處理基材的方法。其係為於基材表面具有親水性領域與拒水性領域之處理基材,拒水性領域為令含有具有一個以上(甲基)丙烯醯基及拒水性部分之化合物(a)與光聚合引發劑的組成物(A)硬化之膜厚為0.1-100nm之拒水性膜所構成的處理基材。經由使用親水性領域或將基材表面予以親水性處理令表面作成親水性,且於該表面形成含有組成物(A)之膜,並對該膜的一部分表面照射光,令組成物(A)硬化形成膜厚為0.1-100nm之拒水性膜,除去基材表面存在之未硬化的組成物(A)令親水性表面露出,製造處理基材的方法。
简体摘要：提供表面具有对比度高之亲水性领域与拒水性领域之处理基材。又,提供不必须特别的设备和照射高能量光、长时间光,可经由低光量于短时间下制造处理基材的方法。其系为于基材表面具有亲水性领域与拒水性领域之处理基材,拒水性领域为令含有具有一个以上(甲基)丙烯酰基及拒水性部分之化合物(a)与光聚合引发剂的组成物(A)硬化之膜厚为0.1-100nm之拒水性膜所构成的处理基材。经由使用亲水性领域或将基材表面予以亲水性处理令表面作成亲水性,且于该表面形成含有组成物(A)之膜,并对该膜的一部分表面照射光,令组成物(A)硬化形成膜厚为0.1-100nm之拒水性膜,除去基材表面存在之未硬化的组成物(A)令亲水性表面露出,制造处理基材的方法。

3. 发明专利

TW200915004A 具有撥水性領域之圖型的處理基材,其製造方法及形成由功能性材料膜所成圖型之構件的製造方法审中-公开
简体标题：具有拨水性领域之图型的处理基材,其制造方法及形成由功能性材料膜所成图型之构件的制造方法
公开(公告)号：TW200915004A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW097107115
申请日：2008-02-29
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：古川豐 FURUKAWA, YUTAKA
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要：本發明係提供表面具有高對比之撥水性區域的處理基材,其製造方法。本發明之處理基材係在基材表面具有撥水性區域之圖型的處理基材,其特徵為撥水性區域係由含有:具有與矽原子鍵結之氫原子與光硬化性基的有機聚矽氧烷(A1)或具有與矽原子鍵結之氫原子,不具有光硬化性基的有機聚矽氧烷(A2),與具有光硬化性基的化合物(B),再任意含有光硬化促進化合物(C)之硬化性組成物硬化而成的撥水性硬化膜所構成者。
简体摘要：本发明系提供表面具有高对比之拨水性区域的处理基材,其制造方法。本发明之处理基材系在基材表面具有拨水性区域之图型的处理基材,其特征为拨水性区域系由含有:具有与硅原子键结之氢原子与光硬化性基的有机聚硅氧烷(A1)或具有与硅原子键结之氢原子,不具有光硬化性基的有机聚硅氧烷(A2),与具有光硬化性基的化合物(B),再任意含有光硬化促进化合物(C)之硬化性组成物硬化而成的拨水性硬化膜所构成者。

4. 发明专利

TW200831544A 聚合性含氟化合物,具有親水性區域與抗水性區域之處理基材审中-公开
简体标题：聚合性含氟化合物,具有亲水性区域与抗水性区域之处理基材
公开(公告)号：TW200831544A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096129734
申请日：2007-08-10
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：星野泰輝 HOSHINO, TAIKI , 古川豐 FURUKAWA, YUTAKA
IPC分类号： C08F , C07C
CPC分类号： C07C69/708 , Y10T428/24802 , Y10T428/265 , Y10T442/2189
摘要：提供令對比度高且表面具有親水性區域與抗水性區域之處理基材,不需要特別的裝置和高能量光、長時間的光照射,可經由低光量於短時間製造之有用的聚合性含氟化合物。係為多價醇的衍生物,其特徵為於一分子內,具有一個以上之構造(A)(於多價醇的一個羥基,具有氟烷基與羧基的化合物為經由酯鍵鍵結的構造)、和一個以上之構造(B)(於多價醇的一個羥基,具有乙烯性雙鍵與羧基的化合物為經由酯鍵鍵結的構造、或具有乙烯性雙鍵與異氰酸酯基的化合物為經由氨基甲酸乙酯鍵鍵結的構造)的聚合性含氟化合物。
简体摘要：提供令对比度高且表面具有亲水性区域与抗水性区域之处理基材,不需要特别的设备和高能量光、长时间的光照射,可经由低光量于短时间制造之有用的聚合性含氟化合物。系为多价醇的衍生物,其特征为于一分子内,具有一个以上之构造(A)(于多价醇的一个羟基,具有氟烷基与羧基的化合物为经由酯键键结的构造)、和一个以上之构造(B)(于多价醇的一个羟基,具有乙烯性双键与羧基的化合物为经由酯键键结的构造、或具有乙烯性双键与异氰酸酯基的化合物为经由氨基甲酸乙酯键键结的构造)的聚合性含氟化合物。

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