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1. 发明专利

TW201831419A 波長選擇透過性層合玻璃审中-公开
简体标题：波长选择透过性层合玻璃
公开(公告)号：TW201831419A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107101653
申请日：2018-01-17
申请人：日商旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED , 日商坪田實驗室股份有限公司 , TSUBOTA LABORATORY, INC.
发明人：諏訪久美子 , SUWA, KUMIKO , 西沢学 , NISHIZAWA, MANABU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO , 中沢伯人 , NAKAZAWA, NORIHITO , 坪田一男 , TSUBOTA, KAZUO
IPC分类号： C03C4/08 , C03C3/087 , C03C3/093 , B32B17/06
摘要：本發明提供一種波長選擇透過性層合玻璃，其使具有抑制近視之效果之特定波長區域之光透過，且波長較該特定波長區域短之紫外線之透過率較低。本發明提供一種波長選擇透過性層合玻璃，其包括：光方向轉換片材，其將自室外朝向室內之光之至少一部分進行方向轉換並使之透過；第1玻璃板，其以上述光方向轉換片材為基準配設於室外側；第1接著層，其將上述光方向轉換片材與上述第1玻璃板接著；第2玻璃板，其以上述光方向轉換片材為基準配設於室內側；及第2接著層，其將上述光方向轉換片材與上述第2玻璃板接著；且波長超過315 nm且400 nm以下之透光率T超過315 nm且400 nm以下為3%以上，波長315 nm以下之透光率T315 nm以下為60%以下。
简体摘要：本发明提供一种波长选择透过性层合玻璃，其使具有抑制近视之效果之特定波长区域之光透过，且波长较该特定波长区域短之紫外线之透过率较低。本发明提供一种波长选择透过性层合玻璃，其包括：光方向转换片材，其将自室外朝向室内之光之至少一部分进行方向转换并使之透过；第1玻璃板，其以上述光方向转换片材为基准配设于室外侧；第1接着层，其将上述光方向转换片材与上述第1玻璃板接着；第2玻璃板，其以上述光方向转换片材为基准配设于室内侧；及第2接着层，其将上述光方向转换片材与上述第2玻璃板接着；且波长超过315 nm且400 nm以下之透光率T超过315 nm且400 nm以下为3%以上，波长315 nm以下之透光率T315 nm以下为60%以下。

2. 发明专利

TW201720776A 玻璃审中-公开
公开(公告)号：TW201720776A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105140012
申请日：2016-12-02
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED , 坪田實驗室股份有限公司 , TSUBOTA LABORATORY, INC.
发明人：永井研輔 , NAGAI, KENSUKE , 中島哲也 , NAKASHIMA, TETSUYA , 黒岩裕 , KUROIWA, YUTAKA , 土屋博之 , HIJIYA, HIROYUKI , 谷田正道 , TANIDA, MASAMICHI , 小池章夫 , KOIKE, AKIO , 西沢学 , NISHIZAWA, MANABU , 坪田一男 , TSUBOTA, KAZUO , 栗原俊英 , KURIHARA, TOSHIHIDE , 鳥居秀成 , TORII, HIDEMASA
IPC分类号： C03C4/08
CPC分类号： C03C3/076 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C3/095 , C03C4/08
摘要：本發明係關於一種波長選擇透過性之玻璃，其中下述式所表示之波長超過315 nm且400 nm以下之光透過率T超過315nm且400nm以下以板厚6 mm換算計為1%以上，下述式所表示之波長315 nm以下之光透過率T315nm以下以板厚6 mm換算計為60%以下。 [數1][數2](上述式中，Ak係ISO-9050：2003中所規定之用以算出T(光透過率)之波長k(nm)下之加權係數，Tk係波長k(nm)下之板厚6 mm換算之透過率)。
简体摘要：本发明系关于一种波长选择透过性之玻璃，其中下述式所表示之波长超过315 nm且400 nm以下之光透过率T超过315nm且400nm以下以板厚6 mm换算计为1%以上，下述式所表示之波长315 nm以下之光透过率T315nm以下以板厚6 mm换算计为60%以下。 [数1][数2](上述式中，Ak系ISO-9050：2003中所规定之用以算出T(光透过率)之波长k(nm)下之加权系数，Tk系波长k(nm)下之板厚6 mm换算之透过率)。

3. 发明专利

TWI517926B 半導體裝置構件用玻璃基板有权
简体标题：半导体设备构件用玻璃基板
公开(公告)号：TWI517926B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW099103002
申请日：2010-02-02
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：小野元司 , ONO, MOTOSHI , 小池章夫 , KOIKE, AKIO
IPC分类号： B23K26/38
CPC分类号： B23K26/382 , B23K26/384 , B23K26/40 , B23K2203/50 , C03C3/076 , C03C23/0025 , Y10T428/24273

4. 发明专利

TW201411780A 機能性基板之製造方法审中-公开
简体标题：机能性基板之制造方法
公开(公告)号：TW201411780A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102124954
申请日：2013-07-11
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：齋藤勳 , SAITO, ISAO , 永田孝弘 , NAGATA, TAKAHIRO , 加藤保真 , KATO, YASUMASA , 小池章夫 , KOIKE, AKIO , 北岡賢治 , KITAOKA, KENJI , 世井淳 , SASAI, JUN
IPC分类号： H01L21/78 , H01L21/84 , H01L23/15
CPC分类号： B23K26/14 , B23K26/08 , B23K26/1476 , B23K26/364 , B23K26/38 , B28D1/221 , C03B33/074 , C03B33/091
摘要：本發明提供一種實現足夠高之生產性之機能性基板之製造方法。於本發明之機能性基板之製造方法之切斷步驟中，藉由雷射光20以徐冷點以下之溫度對中間層17局部性地進行加熱，使中間層17中局部性地產生小於內部殘留拉伸應力CT之拉伸應力、或壓縮應力，從而控制由內部殘留拉伸應力所致之裂痕30之伸展速度。
简体摘要：本发明提供一种实现足够高之生产性之机能性基板之制造方法。于本发明之机能性基板之制造方法之切断步骤中，借由激光光20以徐冷点以下之温度对中间层17局部性地进行加热，使中间层17中局部性地产生小于内部残留拉伸应力CT之拉伸应力、或压缩应力，从而控制由内部残留拉伸应力所致之裂痕30之伸展速度。

5. 发明专利

TW201404754A 板玻璃之製造方法审中-公开
简体标题：板玻璃之制造方法
公开(公告)号：TW201404754A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102117436
申请日：2013-05-16
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：谷井史朗 , TANII, SHIRO , 德永博文 , TOKUNAGA, HIROFUMI , 十村知之 , TSUJIMURA, TOMOYUKI , 西澤學 , NISHIZAWA, MANABU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO
IPC分类号： C03C3/087 , C03C3/091
CPC分类号： C03B25/08 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/093 , Y02P40/57
摘要：本發明係關於一種板玻璃製造方法，其係熔解玻璃原料並製成熔融玻璃，利用成形裝置使該熔融玻璃成形為板狀之玻璃帶之後，利用緩冷裝置對該玻璃帶進行緩冷者，上述板玻璃包含下述無鹼玻璃，將上述無鹼玻璃之應變點設為Tst(℃)時，於Tst+70℃~Tst-50℃之溫度區域，以上述玻璃帶之下表面正下方之環境濃度成為500~20000 ppm之時間為30秒以上之方式供給SO2氣體。上述無鹼玻璃應變點為710~750℃，於50~300℃下之平均熱膨脹係數為30×10-7~43×10-7/℃，玻璃黏度成為102 dPa．s之溫度T2為1710℃以下，玻璃黏度成為104 dPa．s之溫度T4為1320℃以下，以氧化物基準之莫耳%表示含有：SiO2 66~70莫耳%、Al2O3 12~15莫耳%、B2O3 0~1.5莫耳%、MgO超過9.5莫耳%且為13莫耳%以下、CaO 4~9莫耳%、SrO 0.5~4.5莫耳%、BaO 0~1莫耳%、ZrO2 0~2莫耳%，且MgO+CaO+SrO+BaO為17~21莫耳%，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)為0.40以上，MgO/(MgO+CaO)為0.40以上，MgO/(MgO+SrO)為0.60以上。
简体摘要：本发明系关于一种板玻璃制造方法，其系熔解玻璃原料并制成熔融玻璃，利用成形设备使该熔融玻璃成形为板状之玻璃带之后，利用缓冷设备对该玻璃带进行缓冷者，上述板玻璃包含下述无碱玻璃，将上述无碱玻璃之应变点设为Tst(℃)时，于Tst+70℃~Tst-50℃之温度区域，以上述玻璃带之下表面正下方之环境浓度成为500~20000 ppm之时间为30秒以上之方式供给SO2气体。上述无碱玻璃应变点为710~750℃，于50~300℃下之平均热膨胀系数为30×10-7~43×10-7/℃，玻璃黏度成为102 dPa．s之温度T2为1710℃以下，玻璃黏度成为104 dPa．s之温度T4为1320℃以下，以氧化物基准之莫耳%表示含有：SiO2 66~70莫耳%、Al2O3 12~15莫耳%、B2O3 0~1.5莫耳%、MgO超过9.5莫耳%且为13莫耳%以下、CaO 4~9莫耳%、SrO 0.5~4.5莫耳%、BaO 0~1莫耳%、ZrO2 0~2莫耳%，且MgO+CaO+SrO+BaO为17~21莫耳%，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.40以上，MgO/(MgO+CaO)为0.40以上，MgO/(MgO+SrO)为0.60以上。

6. 发明专利

TW201402510A 無鹼玻璃基板、及無鹼玻璃基板之薄板化方法审中-公开
简体标题：无碱玻璃基板、及无碱玻璃基板之薄板化方法
公开(公告)号：TW201402510A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102119456
申请日：2013-05-31
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：德永博文 , TOKUNAGA, HIROFUMI , 十村知之 , TSUJIMURA, TOMOYUKI , 西澤學 , NISHIZAWA, MANABU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO
IPC分类号： C03C3/087 , C03C15/00
CPC分类号： C03C15/00 , C03C3/087 , C03C3/091
摘要：本發明係關於一種藉由氫氟酸(HF)蝕刻處理而進行5 μm以上之薄板化且板厚為0.4 mm以下之無鹼玻璃基板，上述無鹼玻璃基板為下述無鹼玻璃，薄板化後之上述無鹼玻璃基板之比彈性模數為32 MNm/kg以上，光彈性常數為31 nm/MPa/cm以下；該無鹼玻璃係應變點為710℃以上，於50~350℃之平均熱膨脹係數為30×10-7~43×10-7/℃，玻璃黏度成為102 dPa．s之溫度T2為1710℃以下，玻璃黏度成為104 dPa．s之溫度T4為1320℃以下，以氧化物基準之莫耳%表示含有SiO2 66~70、Al2O3 12~15、B2O3 0~1.5、MgO超過9.5且為13以下、CaO 4~9、SrO 0.5~4.5、BaO 0~1、ZrO2 0~2，MgO+CaO+SrO+BaO為17~21，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)為0.40以上，MgO/(MgO+CaO)為0.40以上，MgO/(MgO+SrO)為0.60以上者。
简体摘要：本发明系关于一种借由氢氟酸(HF)蚀刻处理而进行5 μm以上之薄板化且板厚为0.4 mm以下之无碱玻璃基板，上述无碱玻璃基板为下述无碱玻璃，薄板化后之上述无碱玻璃基板之比弹性模数为32 MNm/kg以上，光弹性常数为31 nm/MPa/cm以下；该无碱玻璃系应变点为710℃以上，于50~350℃之平均热膨胀系数为30×10-7~43×10-7/℃，玻璃黏度成为102 dPa．s之温度T2为1710℃以下，玻璃黏度成为104 dPa．s之温度T4为1320℃以下，以氧化物基准之莫耳%表示含有SiO2 66~70、Al2O3 12~15、B2O3 0~1.5、MgO超过9.5且为13以下、CaO 4~9、SrO 0.5~4.5、BaO 0~1、ZrO2 0~2，MgO+CaO+SrO+BaO为17~21，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.40以上，MgO/(MgO+CaO)为0.40以上，MgO/(MgO+SrO)为0.60以上者。

7. 发明专利

TWI613174B 無鹼玻璃及使用其之無鹼玻璃板有权
简体标题：无碱玻璃及使用其之无碱玻璃板
公开(公告)号：TWI613174B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW102120417
申请日：2013-06-07
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：德永博文 , TOKUNAGA, HIROFUMI , 西澤學 , NISHIZAWA, MANABU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO
IPC分类号： C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C15/00
CPC分类号： C03C3/093 , C03C3/091 , C03C15/00

8. 发明专利

TWI531458B 壓印模具用含有ＴｉＯ之石英玻璃基材及其製造方法有权
简体标题：压印模具用含有ＴｉＯ之石英玻璃基材及其制造方法
公开(公告)号：TWI531458B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW100124645
申请日：2011-07-12
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：小池章夫 , KOIKE, AKIO , 宮坂順子 , MIYASAKA, JUNKO , 中西博志 , NAKANISHI, HIROSHI
IPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , C03C3/06 , G02B5/18 , H01L21/027
CPC分类号： B29D11/00769 , B24B9/10 , B29C59/002 , B29C59/026 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C19/00 , C03C2201/42 , C03C2204/08 , G03F7/0002 , Y10T428/24355

9. 发明专利

TW201527248A 化學強化用玻璃及經化學強化處理之玻璃审中-公开
简体标题：化学强化用玻璃及经化学强化处理之玻璃
公开(公告)号：TW201527248A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103143623
申请日：2014-12-12
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：秋葉周作 , AKIBA, SHUSAKU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO , 加瀨準一郎 , KASE, JUNICHIRO , 山崎秀司 , YAMAZAKI, SHUJI
IPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02
CPC分类号： C03C3/087 , C03C21/002
摘要：本發明提供一種經化學強化處理之玻璃，其特徵在於：其係進行過化學強化處理之玻璃，且以氧化物基準之質量百分率表示而含有60%~75%之SiO2、3%~9%之Al2O3、2%~10%之MgO、3%~10%之CaO、10%~18%之Na2O、至多4%之K2O、0%~3%之ZrO2、0%~0.3%之TiO2及0.02%~0.4%之SO3，且玻璃熔融液之黏性成為100dPa‧sec之溫度T2為1530℃以下，於經化學強化處理之主表面，壓縮應力層深度為8μm以上，表面壓縮應力為500MPa以上。本發明之經化學強化處理之玻璃具有較高之強度，於製造玻璃時可使熔解溫度相對較低。
简体摘要：本发明提供一种经化学强化处理之玻璃，其特征在于：其系进行过化学强化处理之玻璃，且以氧化物基准之质量百分率表示而含有60%~75%之SiO2、3%~9%之Al2O3、2%~10%之MgO、3%~10%之CaO、10%~18%之Na2O、至多4%之K2O、0%~3%之ZrO2、0%~0.3%之TiO2及0.02%~0.4%之SO3，且玻璃熔融液之黏性成为100dPa‧sec之温度T2为1530℃以下，于经化学强化处理之主表面，压缩应力层深度为8μm以上，表面压缩应力为500MPa以上。本发明之经化学强化处理之玻璃具有较高之强度，于制造玻璃时可使熔解温度相对较低。

10. 发明专利

TWI480253B 無鹼玻璃及無鹼玻璃之製造方法有权
简体标题：无碱玻璃及无碱玻璃之制造方法
公开(公告)号：TWI480253B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW100148683
申请日：2011-12-26
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：十村知之 , TSUJIMURA, TOMOYUKI , 西澤學 , NISHIZAWA, MANABU , 小池章夫 , KOIKE, AKIO
IPC分类号： C03C3/087
CPC分类号： C03C3/091 , C03C3/087 , C03C3/093

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