专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2007046384A1 液晶光変調素子および光ヘッド装置审中-公开
标题翻译：液晶灯光调制元件和光头设备
公开(公告)号：WO2007046384A1
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/JP2006/320665
申请日：2006-10-17
申请人：旭硝子株式会社 , 吉田香良 , 海田由里子 , 永山裕道 , 熊井裕
发明人：吉田香良 , 海田由里子 , 永山裕道 , 熊井裕
IPC分类号： G02F1/13 , C08K5/134 , C08K5/3432 , C08L33/04 , C09K19/38 , C09K19/54
CPC分类号： C09K19/3852 , C08K5/13 , C08K5/1575 , C08K5/3435 , C08L33/04 , C08L67/00 , C09K19/3003 , C09K2019/0448 , C09K2219/03 , G02F1/1334 , Y10T156/10 , Y10T428/10 , Y10T428/1036 , C08L2666/04
摘要：　青色レーザーに対する耐久性が良好であり、特性を長期に渡って維持できる液晶光変調素子の提供。　一対の対向する透明基板間に高分子液晶組成物の層を挟持してなる波長５００ｎｍ以下のレーザー光を変調する液晶光変調素子であって、前記一対の透明基板は互いの対向面側の表面に配向膜を含み、前記高分子液晶組成物は、ヒンダードアミン系化合物およびヒンダードフェノール系化合物を含む高分子液晶であることを特徴とする液晶光変調素子。
摘要翻译：本发明提供一种对蓝色激光具有良好耐久性并可长期保持特性的液晶光调制元件。液晶光调制元件包括保持在一对相对的透明基板之间的聚合物液晶组合物层，用于调制波长不大于500nm的激光束。液晶光调制元件的特征在于，它们彼此面对的一对透明基板包括取向膜，并且聚合物液晶组合物是包含受阻胺化合物和受阻酚化合物的聚合物液晶。

2. 发明申请

WO2007046294A1 重合性液晶化合物、液晶組成物、光学異方性材料、および光学素子审中-公开
标题翻译：可聚合液晶化合物，液晶组合物，光学非均质材料和光学元件
公开(公告)号：WO2007046294A1
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/JP2006/320417
申请日：2006-10-12
申请人：旭硝子株式会社 , 永山裕道 , 海田由里子 , 吉田香良
发明人：永山裕道 , 海田由里子 , 吉田香良
IPC分类号： C07C69/54 , C08F20/18 , C08F20/30 , C09K19/30 , C09K19/38 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC分类号： C09K19/3003 , C08F220/30 , C09K19/3852 , C09K2019/0448 , C09K2219/03 , Y10T428/10 , Y10T428/1041
摘要：　使用波長、用途に応じて適正なＲｄ値が得られ、特に青色レーザー光に対する耐久性が高い光学素子等を作製するための新規な液晶化合物を提供する。　ＣＨ 2 ＝ＣＲ 1 －ＣＯＯ－（Ｌ） k －Ｅ 1 －Ｅ 2 －Ｅ 3 －Ｅ 4 －Ｒ 2 ［Ｒ 1 ：水素原子又はメチル基、Ｒ 2 ：炭素数１～８のアルキル基又はフッ素原子、ｋ：０又は１、Ｌ：－（ＣＨ 2 ）ｐＯ－または－（ＣＨ 2 ）ｑ－（但しｐ及びｑはそれぞれ独立に２～８の整数。）、Ｅ 1 ：１，４－フェニレン基、Ｅ 2 、Ｅ 3 、Ｅ 4 ：それぞれ独立に１，４－フェニレン基又はトランス－１，４－シクロヘキシレン基であり、かつＥ 2 およびＥ 3 の少なくとも一方はトランス－１，４－シクロヘキシレン基である。但しＥ 1 ～Ｅ 4 における１，４－フェニレン基およびトランス－１，４－シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。］で表される液晶化合物である。
摘要翻译：本发明提供了一种新型的液晶化合物，用于制备例如可以根据可用的波长和应用显示适当的Rd值的光学元件，并且具有高耐久性，特别是针对蓝色激光束。液晶化合物由CH 2表示：C 1 -C 10 - （L）k - -E 其中R 1〜S 3 - 其中R 1〜：氢原子或甲基，R 2：具有1至8个碳原子的烷基或氟原子，k：0或1，L： - （CH 2）其中p和q各自独立地为2〜8的整数，其中p和q各自独立地为2〜8的整数，亚苯基和E 2，E 3和E 4各自独立地是1,4-亚苯基或反式-1,4 - 环己基，并且E 2和E 3中的至少一个代表反式-1,4-亚环己基，条件是在1,4-亚苯基中和E 1〜4中的反式-1,4-亚环己基，与基团中的碳原子连接的氢原子任选被氟原子取代，氯原子或甲基。

3. 发明申请

WO2009096294A1 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法审中-公开
标题翻译：用于制造磁盘的玻璃基板的方法
公开(公告)号：WO2009096294A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/050889
申请日：2009-01-21
申请人：旭硝子株式会社 , 石田瑞穂 , 吉田香良
发明人：石田瑞穂 , 吉田香良
IPC分类号： B24B37/00 , C03C19/00 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , B24B37/042 , B24B37/24 , B24D3/32 , C03C19/00
摘要：　磁気ディスク用ガラス基板を製造するに当たり、円形ガラス板の主表面の研磨工程において、ロールオフの増大を抑制するために本発明は、発泡樹脂製の研磨パッドを用い、研磨材を含有する研磨液を供給しながら円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、スラリーに接触する前の乾燥時におけるＪＩＳ　Ｋ６２５３で規定されるＭ法で測定された国際ゴム硬さが４５ＩＲＨＤ以下である発泡樹脂製研磨パッドを出発研磨パッドとし、該出発研磨パッドの研磨面をドレッシング処理し、開孔面積率が８％以上で、かつ、開孔平均円相当径が１０μｍ以上になるように調整した後、研磨を行う。
摘要翻译：在制造用于磁盘的玻璃基板时对圆形玻璃板的主表面进行抛光的步骤被抑制，导致增强的滚降。提供一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法，为了实现抑制，包括用发泡树脂制造的抛光垫对圆形玻璃板的主表面进行抛光的步骤，同时供给包含研磨材料。作为起始抛光垫，使用由发泡树脂制成的抛光垫，并且在与浆料接触之前的干燥状态下具有国际橡胶硬度度，通过JIS中规定的方法M测量 K6253，45 IRHD以下。修整起始抛光垫的抛光侧，以调节侧面，使得开口面积比例为8％以上，开口直径以平均当量圆直径为10μm以上。然后将该垫用于进行抛光。

4. 发明专利

JP2017120678A 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体有权
公开(公告)号：JP2017120678A
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2016079173
申请日：2016-04-11
申请人：旭硝子株式会社
发明人：吉田香良
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/02 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/02 , G11B5/73 , G11B5/84
摘要：【課題】外周端面の微小な疵に起因した、主表面への異物の付着を抑制できる磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。【解決手段】ドーナツ形状を有し、一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と一対の外周面取り部とを有し、前記外周端面中の、凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.05%以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。【選択図】図2

5. 发明专利

JP5983897B1 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク有权
标题翻译：玻璃基板和磁盘的磁盘
公开(公告)号：JP5983897B1
公开(公告)日：2016-09-06
申请号：JP2016081536
申请日：2016-04-14
申请人：旭硝子株式会社
发明人：伊藤正文 , 高野茂喜 , 吉田香良
IPC分类号： G11B5/73
CPC分类号： G11B5/73 , G11B5/82 , G11B5/84
摘要：【課題】磁気ディスクの歩留まりを向上させることのできる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】主表面を有し、中心部に円形状の孔を有する円盤形状の磁気ディスク用ガラス基板であって、前記磁気ディスク用ガラス基板の中心部側の内周側面部において、原子間力顕微鏡により測定した算術平均粗さRaが0.7nm以下であって、原子間力顕微鏡により測定した結果に基づき、所定の領域を、前記主表面に平行な方向に対して角度方向を0°から180°まで1°ごとに変化させながら各々の角度方向における角度方向算術平均粗さRa_degを算出し、前記算出された角度方向算術平均粗さRa_degのうち、最も大きい値を角度方向算術平均粗さ最大値Ra_deg_maxとし、最も小さい値を角度方向算術平均粗さ最小値Ra_deg_minとした場合に、(Ra_deg_max)−(Ra_deg_min)の値が、0.15nm以上、1.0nm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図5
摘要翻译：是提供一种用于磁盘从而可以提高磁盘的产率的玻璃基板。具有主表面，其具有在中心的圆形孔，用于在磁盘的玻璃基板的中央部的内周面部分，原子间的圆盘状的磁盘用玻璃基板 a是算术平均粗糙度Ra由力显微镜0.7nm或更小测量的基础上，通过原子力显微镜，该预定区域，从0°到平行的方向上的角度取向的测量结果至所述主表面改变每1°到180°，同时计算各角度方向的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg，所计算的角度方向算术平均粗糙度Ra_deg之间，最大值角算术平均粗糙度最大值Ra_deg_max，当最小的值作为角度方向算术平均粗糙度最小Ra_deg_min，（Ra_deg_max） - （Ra_deg_min）的值是0.15纳米或更高，磁盘，其特征在于，至多1.0nm 提供一种使用玻璃基板通过解决上述问题。点域5

6. 发明专利

JP6020753B1 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体有权
标题翻译：的磁记录介质用玻璃基板，磁记录介质
公开(公告)号：JP6020753B1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：JP2016079173
申请日：2016-04-11
申请人：旭硝子株式会社
发明人：吉田香良
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/02 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/02 , G11B5/73 , G11B5/84
摘要：【課題】外周端面の微小な疵に起因した、主表面への異物の付着を抑制できる磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。【解決手段】ドーナツ形状を有し、一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記外周端面は外周側面部と一対の外周面取り部とを有し、前記外周端面中の、凹状欠点が占める領域の面積の割合が0.05%以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。【選択図】図2
摘要翻译：甲由于外周缘表面上的微小缺陷，提供一种用于磁记录能够抑制与主表面的附着异物的介质用玻璃基板。具有炸面圈，一对主表面，并且所述外周缘表面上，具有内周边缘上的磁性记录介质用玻璃基板，所述外周端面外周侧表面部分和一对外周倒角部的已经投注，在所述外周端面，由凹状缺陷所占据的区域的面积之比是提供一种用于磁记录介质用玻璃基板不大于0.05％。 .The

7. 发明专利

JP2016113304A ガラス部材の研磨方法、およびガラス部材の製造方法审中-公开
标题翻译：抛光玻璃构件的方法及其制造方法
公开(公告)号：JP2016113304A
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：JP2014250347
申请日：2014-12-10
申请人：旭硝子株式会社
发明人：松本勝博 , 吉田香良 , 浜田剛
IPC分类号： B24B37/00 , B24B7/24 , C09K3/14 , C03C19/00
摘要：【課題】研磨レートが高く、価格が安い、ガラス部材の研磨方法の提供。【解決手段】ガラス部材の表面を研磨剤により研磨するガラス部材の研磨方法であって、前記研磨剤は、酸化鉄の一次粒子が凝集した二次粒子を含み、前記一次粒子の平均粒径(D1)に対する、前記二次粒子の平均粒径(D2)の比(D2/D1)が5以上である、ガラス部材の研磨方法。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种以高抛光速率和低成本抛光玻璃构件的方法。解决方案：本发明提供了一种用研磨剂抛光玻璃构件的表面的玻璃构件的抛光方法，其中磨料包含通过氧化铁一次粒子的聚集形成的二次粒子，并且二次粒子（D2）的平均粒径与一次粒子（D1）的平均粒径（D2 / D1）的比率为5 或更多。选择图：图2

8. 发明专利

JP2017107630A 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク有权
公开(公告)号：JP2017107630A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2016081536
申请日：2016-04-14
申请人：旭硝子株式会社
发明人：伊藤正文 , 高野茂喜 , 吉田香良
IPC分类号： G11B5/73
CPC分类号： G11B5/73 , G11B5/82 , G11B5/84
摘要：【課題】磁気ディスクの歩留まりを向上させることのできる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】主表面を有し、中心部に円形状の孔を有する円盤形状の磁気ディスク用ガラス基板であって、前記磁気ディスク用ガラス基板の中心部側の内周側面部において、原子間力顕微鏡により測定した算術平均粗さRaが0.7nm以下であって、原子間力顕微鏡により測定した結果に基づき、所定の領域を、前記主表面に平行な方向に対して角度方向を0°から180°まで1°ごとに変化させながら各々の角度方向における角度方向算術平均粗さRa_degを算出し、前記算出された角度方向算術平均粗さRa_degのうち、最も大きい値を角度方向算術平均粗さ最大値Ra_deg_maxとし、最も小さい値を角度方向算術平均粗さ最小値Ra_deg_minとした場合に、(Ra_deg_max)−(Ra_deg_min)の値が、0.15nm以上、1.0nm以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図5

9. 发明专利

JP2016107366A 研磨布审中-公开
标题翻译：砂布
公开(公告)号：JP2016107366A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014246268
申请日：2014-12-04
申请人：旭硝子株式会社
发明人：吉田香良 , 島田千恵子
IPC分类号： B24B37/22 , H01L21/304 , C03C19/00 , B24B37/24
摘要：【課題】研磨レート、及び被研磨面の表面粗さ特性に優れた研磨布を提供することを目的とする。【解決手段】被研磨面を研磨加工するための研磨面を備えた軟質プラスチックシート層を含む研磨布であって、前記研磨布の、前記研磨面と垂直方向の弾性率である全体弾性率が、4300gf/cm 2 以下であり、前記軟質プラスチックシート層において、前記研磨布の、前記研磨面と垂直方向の弾性率が、前記研磨面と垂直方向に沿って遠ざかる方向に大きくなっている研磨布を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供抛光速度和抛光表面的表面粗糙度优异的研磨布。研磨布包括柔性塑料片，其包括抛光表面以抛光待抛光表面。在与研磨布的研磨面垂直的方向上的弹性模量的总弹性模量为4300gf / cm以下。在柔性塑料片中，与研磨布的研磨面垂直的方向的弹性模量随着其一部分在与研磨面垂直的方向上从研磨面越来越大。图1

10. 发明申请

WO2006112338A1 重合性液晶組成物、光学異方性材料、光学素子および光ヘッド装置审中-公开
标题翻译：可聚合液晶组合物，光学非均质材料，光学元件和光学头设备
公开(公告)号：WO2006112338A1
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/JP2006/307779
申请日：2006-04-12
申请人：旭硝子株式会社 , 吉田香良 , 郡島友紀 , 竹下暢彦 , 田辺譲 , 保高弘樹 , 佐藤弘昌
发明人：吉田香良 , 郡島友紀 , 竹下暢彦 , 田辺譲 , 保高弘樹 , 佐藤弘昌
IPC分类号： C09K19/38 , C07C69/75 , C07C69/753 , C07C255/55 , C08F220/30 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC分类号： C08F222/1006 , C07C255/55 , C07C2601/14 , C08F220/30 , C09K19/2007 , C09K19/30 , C09K19/3068 , C09K19/32 , C09K19/322 , C09K19/3852 , C09K19/3861 , C09K2019/0448 , G02F2001/13775 , G02F2203/50 , G11B7/1353 , G11B7/1369 , Y10T428/10 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041
摘要：　広帯域での使用に適した位相板、回折効率に優れる偏光回折素子等の光学素子、これらに用いられる重合性液晶組成物およびこれらを用いた光ヘッド装置の提供。　下記縮合ベンゼン環基（Ａ）の少なくとも一方の結合手に下記６員環基（Ｂ）が直接または－ＯＣＯ－もしくは－ＣＯＯ－の連結基を介して結合したメソゲン構造と、該メソゲン構造の両末端のそれぞれに結合した１価の末端基とを有し、該末端基の少なくとも一方は重合性部位を有する１価の有機基である重合性化合物を含有する重合性液晶組成物。　縮合ベンゼン環基（Ａ）：１位と、４位もしくは５位とに結合手を有するナフタレンジイル基、または、１位もしくは９位と、４位、５位もしくは１０位とに結合手を有するアントラセンジイル基。　６員環基（Ｂ）：１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基またはこれらから選ばれる２以上の基が直接または連結基を介して結合した２価の基。
摘要翻译：本发明提供适用于宽带的相位板，衍射效率优异的偏振衍射元件等的光学元件，使用它们的聚合性液晶组合物和使用它们的光学头装置。可聚合液晶组合物包含具有下列六元环基团（B）的介晶结构的可聚合化合物，其直接或通过连接基团连接在下列缩合苯环基团（A）中的至少一个键合键上： OCO-或-COO-，以及连接到介晶结构中的两端各自的一价端基，至少一个端基是具有可聚合位点的一价有机基团。缩合苯环基（A）：在1-位，4-位或5-位具有键合键的萘二基或在1位或9位具有键合的蒽基和4位位置，5位或10位。六元环基（B）：选自这些基团的1,4-亚苯基，反式-1,4-亚环己基或两个或更多个基团的二价基团直接或通过连接基团连接。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式