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1. 发明专利

JP5880557B2 リソグラフィ用ペリクル、ペリクル付きフォトマスクおよび露光処理方法有权
标题翻译：防尘薄膜组件的光刻，光掩模，并用防尘薄膜组件的曝光处理方法
公开(公告)号：JP5880557B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2013526898
申请日：2012-07-27
申请人：旭硝子株式会社
发明人：武部洋子
IPC分类号： C08F16/32 , C08F34/02 , C08F24/00 , G03F1/62
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/142

2. 发明申请

WO2009104748A1 被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及び該形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法审中-公开
标题翻译：用于要暴露的基材的水 - 组合物，形成耐蚀图案的方法，通过形成方法生产的电子设备，将待喷涂的基底上的水再循环的方法，用于基底的水 -
公开(公告)号：WO2009104748A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/053057
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社ルネサステクノロジ , 旭硝子株式会社 , 石橋優太 , 石橋つぐみ , 寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　液浸液による被露光基板裏面の汚染を抑制するとともに、被加工膜とその直上の有機膜との密着性を向上させて膜剥がれを抑制可能で、作業性に優れた被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及びその形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法を提供する。少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含む被露光基板用撥水化剤組成物を用いる。　ただしＲ１は炭素数１４～３０の１価の有機基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に炭素数１～１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の少なくとも１つは加水分解性基である。
摘要翻译：提供一种用于曝光的基板的防水组合物，其抑制基板的背面被浸没液体污染，可以提高被处理膜与直接覆盖该膜的有机膜之间的粘合，以抑制膜剥离，并且具有优异的可加工性。还提供了：形成抗蚀剂图案的方法，通过形成方法制造的电子器件，赋予待暴露的基板的拒水性的方法，待曝光的基板的防水组件，以及将该组合物的防水性赋予待暴露的基材。用于曝光的基材的防水组合物包含由以下通式（1）表示的有机硅化合物和溶剂。在该式中，R 1是C 14-30单价有机基团，并且R 2，R 3和R 4各自独立地为C 1-10单价有机基团或可水解基团，条件是R 2，R 3和R 4中的至少一个为可水解组。

3. 发明申请

WO2006011427A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー、レジスト組成物、およびレジスト保護膜組成物审中-公开
标题翻译：含氟化合物，含氟聚合物，耐腐蚀组合物和耐腐蚀保护膜组合物
公开(公告)号：WO2006011427A1
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：PCT/JP2005/013507
申请日：2005-07-22
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
发明人：武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
IPC分类号： C08F36/20 , C07C33/42 , C07C43/17 , G03F7/039 , G03F7/11
CPC分类号： C07C43/30 , C07C33/423 , C07C43/17 , C08F36/20 , C08F214/18 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/11 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：　官能基を有し、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーならびに該含フッ素ポリマーからなるレジスト用組成物およびレジスト保護膜組成物の提供。　下記式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。　ＣＦ 2 ＝ＣＦＣＦ 2 Ｃ（ＣＦ 3 ）（ＯＲ 1 ）－（ＣＨ 2 ） n ＣＲ 2 ＝ＣＨＲ 3 　・・・（１）（ただし、式（１）中、Ｒ 1 は、水素原子、炭素数２０以下のアルキル基、または（ＣＨ 2 ） a ＣＯＯＲ 4 （ａは０または１であり、Ｒ 4 は水素原子または炭素数２０以下のアルキル基）を表す。Ｒ 2 およびＲ 3 は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。ｎは０または２を表す。但し、ｎ＝０の場合、Ｒ 1 、Ｒ 2 およびＲ 3 のうち少なくとも１つは水素原子以外である。）
摘要翻译：公开了具有官能团并且在宽波长范围内高度透明的含氟聚合物。还公开了由这种含氟聚合物和抗蚀剂保护膜组合物组成的抗蚀剂组合物。具体公开了具有通过含氟二烯的成环聚合获得的由下式（1）表示的单体单元的含氟聚合物：CF 2 2 = CFCF 2 < / SUB> C（CF _{3 ）（OR ^{1 ） - （CH _{2 ）_{名词 CR ^{2 = CHR ^{3 。 [式（1）中，R 1表示氢原子，碳原子数为20以下的烷基或（CH 2）2） COOR 4（其中a为0或1，R 4表示氢原子或碳原子数为20以下的烷基），R 2， R 0和R 3独立地表示氢原子或碳原子数为12以下的烷基，n表示0或2.当n为0时，R 1 R 2，R 3和R 3不同于氢原子。]}}}}}}

4. 发明申请

WO2002065212A1 レジスト組成物审中-公开
标题翻译：耐腐蚀组合物
公开(公告)号：WO2002065212A1
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/JP2002/000794
申请日：2002-01-31
申请人：旭硝子株式会社 , 金子勇 , 岡田伸治 , 川口泰秀 , 武部洋子 , 児玉俊一
发明人：金子勇 , 岡田伸治 , 川口泰秀 , 武部洋子 , 児玉俊一
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , Y10T428/3154
摘要： A chemical amplification type resist composition which is excellent in transparency to a radiation and in suitability for dry etching and gives a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc. The resist composition is characterized by comprising: (A) a fluoropolymer which has repeating units formed by the cyclopolymerization of a fluorinated diene represented by the formula (1) and which has a blocked acid group as Q; (B) an acid-generating compound which generates an acid upon irradiation with light; and (C) an organic solvent. CF2=CR -Q-CR =CH2 (1) (In the formula, R and R each independently represents hydrogen, fluorine, methyl, or trifluoromethyl; and Q represents a divalent organic group which is either a blocked acid group capable of becoming an acid group by the action of an acid or an organic group capable of being converted to the blocked acid group.)
摘要翻译：一种化学放大型抗蚀剂组合物，其透光度优异且适用于干蚀刻，并提供了灵敏度，分辨率，平坦度，耐热性等优异的抗蚀剂图案。抗蚀剂组合物的特征在于：（A）含有由式（1）表示的具有封端的酸基作为Q的氟化二烯的环化形成的重复单元的含氟聚合物; （B）在用光照射时产生酸的产酸化合物; 和（C）有机溶剂。 CF 2 = CR 1 -Q-CR 2 = CH 2（1）（式中，R 1和R 2各自独立地表示氢，氟，甲基或三氟甲基; Q表示二价有机基团该基团是能够通过酸或能够转化成封端的酸基的有机基团的作用而成为酸基的封端酸基。）

5. 发明申请

WO2008126475A1 新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法审中-公开
标题翻译：新颖的含氟化合物，含氟聚合物及其制备方法
公开(公告)号：WO2008126475A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/JP2008/052896
申请日：2008-02-20
申请人：旭硝子株式会社 , 村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： C08F36/20 , C07C51/09 , C07C51/38 , C07C57/52 , C07C67/04 , C07C67/343 , C07C69/65
CPC分类号： C07C57/32 , C07C69/65 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/20 , C08F14/18 , C08F36/20 , C08F214/18 , Y10S430/146 , C08F2/00
摘要：　新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｃ（Ｘ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）（ＣＨ２）ｎＣＲ＝ＣＨＲで表される化合物（ただし、Ｘは水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺで表される基を、Ｚは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を、ｎは０、１または２を、Ｒは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示す。）、その製造方法、および該化合物を重合させて得られた含フッ素重合体。
摘要翻译：公开了新的含氟化合物，含氟聚合物和含氟化合物的制造方法。具体公开的是由下式表示的化合物：CF 2 R 2 = CFCF 2 C（X）（C（O）OZ）（CH 2）2 >其中CR = CHR（其中X表示氢原子，氰基或表示为-C（O）OZ的基团; Z表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团碳原子; n表示0,1或2; R表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团）。还公开了制备这种化合物的方法和通过聚合这种化合物而获得的含氟聚合物。

6. 发明申请

WO2005042453A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマーとその製造方法审中-公开
标题翻译：氟化合物，氟聚合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2005042453A1
公开(公告)日：2005-05-12
申请号：PCT/JP2004/016160
申请日：2004-10-29
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 横小路修
IPC分类号： C07C33/42
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C33/423 , C08F14/18 , C08F36/20 , G03F7/11 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , C08F2/02
摘要：　官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素化合物、含フッ素ポリマーおよびその製造方法を提供する　下記式（１）で表される含フッ素ジエンを提供する。　ＣＦ２＝ＣＦＣＨ２ＣＨ（Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）（ＯＨ））ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２　（１）　ただし、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立にフッ素原子、あるいは炭素数５以下のフルオロアルキル基を表す。
摘要翻译：具有高浓度的官能团的氟化合物因此可以具有归功于该官能团的足够的性质，并且在宽波长区域中是高度透明的。由下式（1）表示的氟化二烯：CF 2 = CFCH 2 CH（C（R 1）（R 2）（OH））CH 2 CH = CH 2（1）其中R 1和R 2 >各自独立地表示氟或C5或更低的氟代烷基。

7. 发明申请

WO2002064648A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー及びその製造方法审中-公开
标题翻译：含氟化合物和聚合物及其制备方法
公开(公告)号：WO2002064648A1
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/JP2002/000796
申请日：2002-01-31
申请人：旭硝子株式会社 , 金子勇 , 武部洋子
发明人：金子勇 , 武部洋子
IPC分类号： C08F136/20
CPC分类号： C07C43/17 , C07C33/423 , C07C43/313 , C07C69/734 , C08F36/20
摘要： Provided are polymers which have high Tg's and main chains of fluorinated alicyclic structures containing functional groups in such high concentrations that the functional groups can sufficiently exhibit their characteristics, and processes for producing the polymers. Fluorine-containing polymers each comprising repeating units formed by cyclopolymerization of a fluorodiene of the general formula (1) having a functional group; and a process for producing the polymers by radical-polymerizing a fluorodiene of the general formula (1): (1) wherein R and R are each independently hydrogen, fluoro, alkyl having 3 or fewer carbon atoms, or fluoroalkyl having 3 or fewer carbon atoms; and Q is a divalent organic group having a functional group.
摘要翻译：提供了具有高Tg的聚合物和含有如此高浓度的官能团的氟化脂环族结构主链，以使官能团能够充分发挥其特性，以及聚合物的制备方法。含氟聚合物各自包含通过具有官能团的通式（1）的氟二烯的环化聚合形成的重复单元; 以及通式（1）的氟二烯的自由基聚合制造聚合物的方法：（1）其中R 1和R 2各自独立地为氢，氟，具有3个或更少碳原子的烷基，或具有3个或更少碳原子的氟代烷基; Q为具有官能团的二价有机基团。

8. 发明申请

WO2008133311A1 イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物审中-公开
标题翻译：耐蚀膜保护膜组合物
公开(公告)号：WO2008133311A1
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：PCT/JP2008/057981
申请日：2008-04-24
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/11 , C08F36/20 , C08F220/22 , C08L33/14 , H01L21/027
CPC分类号： C08F36/20 , C08J5/18 , C08J2333/16 , C08L33/06 , C08L33/16 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L2666/04
摘要：　イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物を提供する。　ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、スルホニルアミド基、アミノ基またはリン酸基を有する重合性化合物（ｍｂ）の重合により形成された繰り返し単位（ＵＢ）を含むアルカリ溶解性の重合体（Ｂ）と、炭素数２～２０の含フッ素炭化水素基（ただし、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が挿入されていてもよい。）を有する重合性化合物（ｍｆ）の重合により形成された繰り返し単位（ＵＦ）および繰り返し単位（ＵＢ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）とを含むイマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物。
摘要翻译：公开了一种用于浸没式光刻的抗蚀保护膜组合物。具体公开了一种浸渍式光刻用抗蚀剂保护膜组合物，其含有含有通过聚合性化合物聚合形成的重复单元（U B B）的碱溶性聚合物（B）（m

9. 发明申请

WO2007142244A1 新規なポリフルオロジエン、その製造方法、および新規な含フッ素重合体审中-公开
标题翻译：新型聚氟乙烯，其制备方法和含有新型含氟聚合物
公开(公告)号：WO2007142244A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/JP2007/061392
申请日：2007-06-05
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 金子勇 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 金子勇 , 横小路修
IPC分类号： C08F36/02 , C07C17/23 , C07C17/263 , C07C17/278 , C07C21/19
CPC分类号： C07C17/23 , C07C17/263 , C07C17/278 , C07C21/19 , C08F14/18 , C08F2/00
摘要： Disclosed are a novel polyfluorodiene, a production method thereof, and a novel fluorine-containing polymer. Specifically disclosed are a compound represented by the following formula: CF 2 =CFCH 2 CHR(CH 2 ) m CX=CH 2 , a polymer having a repeating unit obtained by polymerization of the compound, and a polymer having a repeating unit represented by the formula (A) below. (In the formulae, R represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1-12 carbon atoms; m represents 0, 1 or 2; and X represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-12 carbon atoms.)
摘要翻译：公开了一种新型的多氟二烯及其制备方法和新的含氟聚合物。具体公开的是由下式表示的化合物：CF 2 CH 2 CH 2（CH 2 CH 2）m CH 2 CX = CH 2，具有通过化合物聚合获得的重复单元的聚合物和具有由下式（A）表示的重复单元的聚合物。（式中，R表示碳原子数1〜12的烷基或碳原子数1〜12的氟代烷基，m表示0,1或2，X表示氢原子或碳原子数1〜12的烷基）原子。）

10. 发明申请

WO2005012372A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマーとその製造方法およびそれを含むレジスト組成物审中-公开
标题翻译：含氟化合物，含氟聚合物，其制备方法和含有该组合物的组合物
公开(公告)号：WO2005012372A1
公开(公告)日：2005-02-10
申请号：PCT/JP2004/010856
申请日：2004-07-29
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 金子勇
发明人：武部洋子 , 金子勇
IPC分类号： C08F36/20
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C69/65 , C08F36/20 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：　官能基を有し、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよび該含フッ素ポリマーからなるレジスト用組成物を与えること。　下記式（１）で表される含フッ素ジエンが重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、その製造方法および含フッ素ポリマー（Ａ）をベ−スとするレジスト組成物。　ＣＦ２＝ＣＦＣＨ２ＣＨ−Ｑ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（１）ただし、Ｑは（ＣＨ２）ａＣ（ＣＦ３）２ＯＲ４（ａは０～３の整数であり、Ｒ４エーテル性酸素原子を有してもよい炭素数２０以下のアルキル基、含フッ素アルキル基、炭素数６以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ２Ｒ５（Ｒ５は炭素数６以下のアルコキシカルボニル基））、または（ＣＨ２）ｄＣＯＯＲ６（ｄは０または１であり、Ｒ６は水素原子、炭素数２０以下のアルキル基または含フッ素アルキル基）を表す。
摘要翻译：公开了具有官能团并且在宽波长范围内表现出高透明度的含氟聚合物。还公开了由这种含氟聚合物组成的抗蚀剂组合物。含氟聚合物（A）具有单体单元，其中由下式（1）表示的含氟二烯聚合。还公开了含氟聚合物（A）的制造方法和使用含氟聚合物（A）作为基材的抗蚀剂组合物。 CF2 = CFCH2CH-Q-CH2CH = CH2（1）在上式中，Q表示（CH2）aC（CF3）2OR4（其中a为0-3的整数，R 4表示烷基具有20个以下可具有醚氧原子的碳原子，含氟烷基，碳原子数6以下的烷氧基羰基或CH 2 R 5（式中，R 5为6以下的烷氧基羰基碳原子））或（CH 2）d COOR 6（其中d为0或1，R 6表示氢原子，碳原子数为20以下的烷基或含氟烷基）。

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