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1. 发明专利

TWI478237B 基板處理裝置及固體原料補充方法失效
简体标题：基板处理设备及固体原料补充方法
公开(公告)号：TWI478237B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW101109134
申请日：2012-03-16
申请人：日立國際電氣股份有限公司 , HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. , 開滋SCT股份有限公司 , KITZ SCT CORPORATION
发明人：谷山智志 , TANIYAMA, TOMOSHI , 小山剛記 , KOYAMA, GOKI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/205 , C23C16/448
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C14/246 , C30B23/066 , Y10T137/0318

2. 发明专利

TWI682115B 阻斷閥與原料容器用阻斷閥有权
简体标题：阻断阀与原料容器用阻断阀
公开(公告)号：TWI682115B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW105101230
申请日：2016-01-15
申请人：日商開滋SCT股份有限公司 , KITZ SCT CORPORATION
发明人：小山剛記 , KOYAMA, GOKI
IPC分类号： F16K11/22 , F16K27/00 , F16K49/00

3. 发明专利

TW201641858A 阻斷閥與原料容器用阻斷閥审中-公开
简体标题：阻断阀与原料容器用阻断阀
公开(公告)号：TW201641858A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105101230
申请日：2016-01-15
申请人：開滋SCT股份有限公司 , KITZ SCT CORPORATION
发明人：小山剛記 , KOYAMA, GOKI
IPC分类号： F16K11/22 , F16K27/00 , F16K49/00
CPC分类号： F16K11/22 , F16K1/36 , F16K7/16 , F16K27/003 , F16K27/0236 , F16K41/00 , F16K49/00
摘要：本發明提供一種阻斷閥及原料容器用阻斷閥，其具有在內部不存在液體材料或洗淨液等之滯留部的構造，並且可在短時間內進行沖洗處理，且適於高純度的液體材料之使用。阻斷閥(10)，係連結與阻斷體(11)之供應路徑(14)連通的主流路(18)之一方和對前述阻斷體(11)配設成傾斜狀態的第1隔膜閥(12)之第1極小埠部(21)，且連結前述主流路(18)之另一方和第2隔膜閥(13)之第2極小埠部(22)，以供應埠部(15)來與前述第2隔膜閥(13)之埠口(25)連通，並且以連通路(19)來連結前述第1隔膜閥(12)之接合埠部(23)和垂直方向的連接管路(16)，該連通路(19)，係設成傾斜狀的傾斜流路。
简体摘要：本发明提供一种阻断阀及原料容器用阻断阀，其具有在内部不存在液体材料或洗净液等之滞留部的构造，并且可在短时间内进行冲洗处理，且适于高纯度的液体材料之使用。阻断阀(10)，系链接与阻断体(11)之供应路径(14)连通的主流路(18)之一方和对前述阻断体(11)配设成倾斜状态的第1隔膜阀(12)之第1极小端口部(21)，且链接前述主流路(18)之另一方和第2隔膜阀(13)之第2极小端口部(22)，以供应端口部(15)来与前述第2隔膜阀(13)之端口口(25)连通，并且以连通路(19)来链接前述第1隔膜阀(12)之接合端口部(23)和垂直方向的连接管路(16)，该连通路(19)，系设成倾斜状的倾斜流路。

4. 发明专利

TW201246371A 基板處理裝置及固體原料補充方法失效
简体标题：基板处理设备及固体原料补充方法
公开(公告)号：TW201246371A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101109134
申请日：2012-03-16
申请人：日立國際電氣股份有限公司 , 開滋SCT股份有限公司
发明人：谷山智志 , 小山剛記
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C14/246 , C30B23/066 , Y10T137/0318
摘要：基板處理裝置是具有：可收容基板的處理室、及使固體原料昇華而生成使用於基板的處理的氣體原料，供給至處理室的原料供給系統。原料供給系統是具備：收容固體原料的固體原料容器、及被連接於固體原料容器與處理室之間的第1配管、及與固體原料容器連接的第2配管，為具備安裝有保持補充用的固體原料的原料補充容器的安裝部的第2配管。
简体摘要：基板处理设备是具有：可收容基板的处理室、及使固体原料升华而生成使用于基板的处理的气体原料，供给至处理室的原料供给系统。原料供给系统是具备：收容固体原料的固体原料容器、及被连接于固体原料容器与处理室之间的第1配管、及与固体原料容器连接的第2配管，为具备安装有保持补充用的固体原料的原料补充容器的安装部的第2配管。

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