专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008105266A1 電子線リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：电阻层析法制备低层膜成膜组合物
公开(公告)号：WO2008105266A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/JP2008/052740
申请日：2008-02-19
申请人：日産化学工業株式会社 , 榎本智之 , 坂口崇洋 , 坂本力丸 , 永井雅規
发明人：榎本智之 , 坂口崇洋 , 坂本力丸 , 永井雅規
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/2059
摘要：【課題】電子線リソグラフィーを用いたデバイス作製工程に用いられ、電子線によって及ぼされる悪影響を低減し、良好なレジストパターンを得るのに有効な電子線リソグラフィー用レジスト下層膜組成物、並びに該電子線リソグラフィー用レジスト下層膜組成物を用いるレジストパターン形成法を提供する【解決手段】　ハロゲン原子を含有する繰り返し単位構造を有する高分子化合物及び溶媒を含む電子線リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物であり、基板上の転写パターンを形成する加工対象膜と電子線リソグラフィー用レジスト膜の間に成膜されて用いられ、半導体デバイス製造に使用される。前記高分子化合物は、少なくとも１０質量％のハロゲン原子を含有する。
摘要翻译： [问题]为了提供用于电子光刻的器件制造工艺中的用于电子光刻的抗蚀剂下层膜组合物，减少了由于电子束引起的不利影响，并且对获得优异的抗蚀剂图案是有效的，抗蚀剂图案形成方法，其中使用这种组合物。解决问题的手段用于电子光刻的抗蚀剂下层成膜组合物含有具有含有卤原子的重复单元结构的聚合物和溶剂。该组合物通过在基板上形成转印图案的工艺靶膜与电子光刻抗蚀剂膜之间形成而用于制造半导体器件。高分子化合物至少含有10质量％的卤素原子。

2. 发明申请

WO2006003850A1 ハロゲン原子を有するナフタレン環を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：低层成膜组合物，包括具有卤素原子的萘环的LITHOGRAPHY
公开(公告)号：WO2006003850A1
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：PCT/JP2005/011645
申请日：2005-06-24
申请人：日産化学工業株式会社 , 竹井敏 , 坂口崇洋 , 榎本智之
发明人：竹井敏 , 坂口崇洋 , 榎本智之
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/094 , C08F220/28 , C08F220/32 , G03F7/091 , G03F7/11
摘要：【課題】　半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜を提供すること。【解決手段】　ハロゲン原子で置換されたナフタレン環を含む単位構造を、ポリマーを構成する単位構造中、モル比で０．３以上有するポリマー及び溶剤を含むことを特徴とするリソグラフィー用下層膜形成組成物。
摘要翻译：为了提供在半导体器件制造中的光刻工艺中使用的用于光刻的下层成膜组合物，以及与光致抗蚀剂相比具有更高的干蚀刻速度的下膜，并且不会与该光刻胶混合光致抗蚀剂。解决问题的手段用于光刻的下层成膜组合物的特征在于，其含有单元结构的聚合物，该单体结构包含在构成聚合物的单元结构中以0.3以上的摩尔比被卤素原子取代的萘环，和溶剂。

3. 发明专利

JP6264570B2 非感光性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6264570B2
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：JP2014543213
申请日：2013-10-04
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：坂口崇洋 , 安達勲
IPC分类号： C08F220/30 , C08F220/32 , G02B1/04 , C08L33/14
CPC分类号： G02B3/0018 , C08F220/20 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/58 , C08J5/18 , C08J2329/10 , C08J2333/10 , C08J2333/26 , C08J2429/10 , C08J2433/10 , C08J2433/26 , C08L33/14 , C08L63/00 , G02B1/04 , G02B1/105 , G02B1/12 , G02B1/14 , G02B3/0012 , G02B5/20 , C08L33/068 , C08F2220/325

4. 发明专利

JP2017155091A 平坦化膜形成用樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2017155091A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016037946
申请日：2016-02-29
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：坂口崇洋 , 安達勲
IPC分类号： C08G59/32
摘要：【課題】優れた耐薬品性、耐熱性、透明性及び平坦化性を有する平坦化膜を形成できる平坦化膜形成用樹脂組成物の提供。【解決手段】(A)成分:式(1)又は式(2)で表される脂環式エポキシ化合物、(B)成分:熱酸発生剤、及び(C)成分:溶剤を含有する平坦化膜形成用樹脂組成物。 (a〜fは夫々独立に0又は1) 【選択図】なし

5. 发明专利

JP5998931B2 液晶配向処理剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子有权
标题翻译：液晶取向剂，液晶取向膜，以及液晶显示装置
公开(公告)号：JP5998931B2
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：JP2012519432
申请日：2011-06-09
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：後藤耕平 , 南悟志 , 坂口崇洋 , 片山雅章
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , C09K19/56 , C07D317/36 , G02F1/1337
CPC分类号： C08L79/08

6. 发明专利

JP2015174877A 特定の硬化促進触媒を含む樹脂組成物审中-公开
标题翻译：含有指定硬化加速催化剂的树脂组合物
公开(公告)号：JP2015174877A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：JP2014050200
申请日：2014-03-13
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：坂口崇洋 , 安達勲
IPC分类号： G02B1/04 , G02B3/00 , C08F220/34 , C08G18/80
摘要：【課題】180℃以下で硬化可能で、優れた透明性、耐熱性、耐溶剤性、平坦性及びドライエッチング性を有する硬化膜を形成できる熱硬化性の樹脂組成物の提供。【解決手段】(A)成分、(B)成分及び溶剤を含有する樹脂組成物。(A)成分:下記式(1)、式(2)及び式(3)で表される構造単位を有する共重合体(B)成分:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7の有機酸塩、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5の有機酸塩及び四級アンモニウムの有機酸塩からなる群から選択される1種又は2種以上を含む硬化促進触媒【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可在180℃以下硬化的热硬化性树脂组合物，其可以形成透明性，耐热性，耐溶剂性，表面平滑性和干蚀刻性优异的硬化膜。解决方案：树脂组合物包含（ A）成分，（B）成分和溶剂。（A）：具有由式（1），（2）和（3）表示的结构单元的共聚物。（B）：含有1种以上选自1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳烯-7的有机酸盐，1,5-二氮杂双环[4.3.0 ]壬烯-5和季铵的有机酸盐。

7. 发明申请

WO2006027950A1 ポリアミド酸を含む下層反射防止膜形成組成物审中-公开
标题翻译：用于形成低层反射防止膜的聚酰胺酸的组合物
公开(公告)号：WO2006027950A1
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：PCT/JP2005/015276
申请日：2005-08-23
申请人：日産化学工業株式会社 , 畑中真 , 坂口崇洋 , 榎本智之 , 木村茂雄
发明人：畑中真 , 坂口崇洋 , 榎本智之 , 木村茂雄
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/091
摘要：【課題】　半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジストの現像に使用されるアルカリ性現像液で現像可能な下層反射防止膜を形成するための下層射防止膜形成組成物、及びその下層反射防止膜形成組成物を用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】　ポリアミド酸、少なくとも二つのエポキシ基を有する化合物、波長３６５ｎｍの光に対するモル吸光係数が５０００～１０００００（ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）である吸光性化合物、及び溶剤を含む下層反射防止膜形成組成物。
摘要翻译：本发明提供一种下层反射防止膜形成用组合物，其用于半导体器件制造的光刻工艺中，用于形成可由用于光致抗蚀剂显影的碱性显影剂显影的下层反射防止膜，以及提供使用下层防反射膜形成组合物形成光致抗蚀剂图案的方法。解决问题的手段下层防反射膜组合物包括聚酰胺酸，具有至少两个环氧基的化合物，摩尔光吸收系数为5,000-100,000（1 / mol·cm）的光吸收化合物与波长365nm的光和溶剂。

8. 发明专利

JPWO2017064992A1 熱硬化性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017064992A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：JP2016078083
申请日：2016-09-23
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：坂口崇洋 , 菅原由紀 , 安達勲
IPC分类号： C08G18/80 , C08G18/58 , C08G59/14 , C08F290/14 , C08F299/04
CPC分类号： C09D163/10 , B05D3/0254 , C08F290/14 , C08F299/04 , C08G59/14 , C08G59/1466 , C08L67/06 , C09D7/63
摘要：【課題】熱硬化性樹脂組成物、保護膜用熱硬化性樹脂組成物、平坦化膜用熱硬化性樹脂組成物、並びに当該樹脂組成物を用いた硬化膜、保護膜又は平坦化膜の作製方法を提供すること。【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有するポリマー、該ポリマーに対し0乃至30質量%の硬化剤、及び溶剤を含有し、前記硬化剤を含有する場合、該硬化剤は多官能(メタ)アクリレート化合物及び多官能ブロックイソシアネート化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物である、熱硬化性樹脂組成物。【化1】 (式中、A 1 は炭素原子数2又は3のアルケニル基又はアルキニル基を表し、A 2 は炭素原子数2のアルケニレン基又はアルキニレン基を表す。) 【選択図】なし

9. 发明专利

JP6103256B2 感光性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP6103256B2
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：JP2014507700
申请日：2013-03-15
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：安達勲 , 坂口崇洋 , 荘田浩之
IPC分类号： G03F7/004 , G02B3/00 , C08F220/10 , C08F222/40 , G03F7/023
CPC分类号： G03F7/038 , C08F222/40 , G02B1/041 , G03F7/0005 , G03F7/0233 , C08F220/32 , C08F220/36 , G02B1/04 , G02B3/0012

10. 发明专利

JP2016194079A マイクロレンズ用又は平坦化膜用樹脂組成物审中-公开
标题翻译：用于微晶或平滑膜的树脂组合物
公开(公告)号：JP2016194079A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016107582
申请日：2016-05-30
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：坂口崇洋
IPC分类号： C08F212/08 , C08G59/02 , C08L63/00 , G02B1/04 , C08L25/14
CPC分类号： C08J5/18 , C08F212/08 , G02B1/041
摘要：【課題】熱硬化性の樹脂組成物を提供すること。【解決手段】式(1)、(2)、(3)で表される構造単位を有する共重合体或いは(1)及びエポキシ基含有モノマーからなる共重合体及び溶剤を含有する樹脂組成物。 (R3はブロックイソシアネート基;Xは−O−基又は−NH−基;R4は単結合又はC1〜5のアルキレン基、R5はヒドロキシ基を有するC1〜20の炭化水素基) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种热固性树脂组合物。溶液：该树脂组合物含有：具有由式（1），（2）和（3）表示的结构单元的共聚物或包含由式（1）和含环氧基的单体; 和溶剂。（R3是封端的异氰酸酯基; X是-O-基或-NH-基; R4是单键或1-5C亚烷基; R5是具有羟基的1-20C烃基。选择图：无

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式