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1. 发明专利

TW201430405A 光學薄膜積層體之製造方法审中-公开
简体标题：光学薄膜积层体之制造方法
公开(公告)号：TW201430405A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102146929
申请日：2013-12-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN
IPC分类号： G02B5/30 , B29D11/00
CPC分类号： G02B5/3025 , B32B37/144 , B32B2457/20
摘要：本發明提供一種光學薄膜積層體之製造方法，其包含一將具有樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體拉伸並加以染色而於前述樹脂基材上製得薄型偏光膜之步驟，而可避免剝離樹脂基材時發生不利之捲曲，結果則可避免對光學元件貼合時產生氣泡、褶皺等瑕疵。本發明之光學薄膜積層體之製造方法包含以下步驟：偏光膜製作步驟，將具有樹脂基材與形成於樹脂基材單側上之聚乙烯醇系樹脂層之積層體拉伸並加以染色，而於樹脂基材上製作偏光膜；第1保護薄膜積層步驟，於偏光膜之與樹脂基材相反之側上積層第1保護薄膜；及，第2保護薄膜積層步驟，剝離樹脂基材，而於偏光膜之已剝離樹脂基材之側上積層第2保護薄膜。其中，第1保護薄膜乃配置於光學元件側之保護薄膜，第2保護薄膜乃配置於與光學元件相反之側之保護薄膜。
简体摘要：本发明提供一种光学薄膜积层体之制造方法，其包含一将具有树脂基材与PVA系树脂层之积层体拉伸并加以染色而于前述树脂基材上制得薄型偏光膜之步骤，而可避免剥离树脂基材时发生不利之卷曲，结果则可避免对光学组件贴合时产生气泡、褶皱等瑕疵。本发明之光学薄膜积层体之制造方法包含以下步骤：偏光膜制作步骤，将具有树脂基材与形成于树脂基材单侧上之聚乙烯醇系树脂层之积层体拉伸并加以染色，而于树脂基材上制作偏光膜；第1保护薄膜积层步骤，于偏光膜之与树脂基材相反之侧上积层第1保护薄膜；及，第2保护薄膜积层步骤，剥离树脂基材，而于偏光膜之已剥离树脂基材之侧上积层第2保护薄膜。其中，第1保护薄膜乃配置于光学组件侧之保护薄膜，第2保护薄膜乃配置于与光学组件相反之侧之保护薄膜。

2. 发明专利

TW201400887A 偏光件之製造方法、偏光件、偏光板、光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光件之制造方法、偏光件、偏光板、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201400887A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102114586
申请日：2013-04-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 中野勇樹 , NAKANO, YUUKI , 池嶋健太郎 , IKESHIMA, KENTAROU , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明提供一種偏光件之製造方法，係對包含成膜於熱塑性樹脂基材上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體，至少實施染色程序和拉延程序，而製造厚度10μm以下之偏光件者；在染色程序中，即使使用高濃度二色性物質之染色浴時，亦可滿足偏光件之特性(單體穿透率、偏光度)。該製造方法係對包含成膜於熱塑性樹脂基材上之聚乙烯醇系樹脂層的積層體，至少實施染色程序和拉延程序，而製造厚度10μm以下之偏光件者；在染色程序後之至少一個程序中，施以至少一次利用含有水溶性抗氧化劑之處理浴進行之處理。
简体摘要：本发明提供一种偏光件之制造方法，系对包含成膜于热塑性树脂基材上之聚乙烯醇系树脂层的积层体，至少实施染色进程和拉延进程，而制造厚度10μm以下之偏光件者；在染色进程中，即使使用高浓度二色性物质之染色浴时，亦可满足偏光件之特性(单体穿透率、偏光度)。该制造方法系对包含成膜于热塑性树脂基材上之聚乙烯醇系树脂层的积层体，至少实施染色进程和拉延进程，而制造厚度10μm以下之偏光件者；在染色进程后之至少一个进程中，施以至少一次利用含有水溶性抗氧化剂之处理浴进行之处理。

3. 发明专利

TWI452357B 光學薄膜積層體之製造方法有权
简体标题：光学薄膜积层体之制造方法
公开(公告)号：TWI452357B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW102146929
申请日：2013-12-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN
IPC分类号： G02B5/30 , B29D11/00
CPC分类号： G02B5/3025 , B32B37/144 , B32B2457/20

4. 发明专利

TWI569051B 偏光件之製造方法、偏光件、偏光板、光學薄膜及影像顯示裝置有权
简体标题：偏光件之制造方法、偏光件、偏光板、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TWI569051B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW102114586
申请日：2013-04-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 中野勇樹 , NAKANO, YUUKI , 池嶋健太郎 , IKESHIMA, KENTAROU , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335

5. 发明专利

TW201418801A 偏光膜及偏光膜之製造方法审中-公开
简体标题：偏光膜及偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TW201418801A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102137912
申请日：2013-10-21
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 中野勇樹 , NAKANO, YUKI , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN , 金子修 , KANEKO, OSAMU
IPC分类号： G02B5/30 , B29C55/02 , B29K29/00 , B29L11/00 , B29L7/00
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/111 , G02B5/3033 , G02F1/133528
摘要：提供一種外觀優異且能夠有助於提升影像顯示裝置的顯示特性之偏光膜。本發明的偏光膜係由含有碘的聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成，並將該聚乙烯醇系樹脂薄膜的至少一表面側做成碘減低層。
简体摘要：提供一种外观优异且能够有助于提升影像显示设备的显示特性之偏光膜。本发明的偏光膜系由含有碘的聚乙烯醇系树脂薄膜所构成，并将该聚乙烯醇系树脂薄膜的至少一表面侧做成碘减低层。

6. 发明专利

TWI540345B 偏光膜及偏光膜之製造方法有权
简体标题：偏光膜及偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI540345B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW102137912
申请日：2013-10-21
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 中野勇樹 , NAKANO, YUKI , 矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN , 金子修 , KANEKO, OSAMU
IPC分类号： G02B5/30 , B29C55/02 , B29K29/00 , B29L11/00 , B29L7/00
CPC分类号： G02B1/08 , G02B1/111 , G02B5/3033 , G02F1/133528

7. 发明专利

TWI474059B 碘系偏光件、偏光板、光學薄膜及影像顯示裝置有权
简体标题：碘系偏光件、偏光板、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TWI474059B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW101144148
申请日：2012-11-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 濟木雄二 , SAIKI, YUUJI
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/10
CPC分类号： G02B5/305 , G02B1/08 , G02B5/3033

8. 发明专利

TW201329543A 碘系偏光件、偏光板、光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：碘系偏光件、偏光板、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201329543A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144148
申请日：2012-11-26
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：矢仙姆尼里汀 , YASEN, MUNIRIDIN , 尾込大介 , OGOMI, DAISUKE , 濟木雄二 , SAIKI, YUUJI
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/10
CPC分类号： G02B5/305 , G02B1/08 , G02B5/3033
摘要：本發明係提供一種碘系偏光件，係碘被吸附配向在聚乙烯醇系薄膜者，其係被施以至少含有一種還原劑之處理浴所行之處理，而且前述碘系偏光件含有還原劑的氧化物，且還原劑與其氧化物的合計含量為0.06×10-6~1.6×10-6mol/g。該碘偏光件係能夠滿足高透射率、高偏光度的光學特性，而且能夠抑制在短波長側之漏光。前述碘系偏光件係
简体摘要：本发明系提供一种碘系偏光件，系碘被吸附配向在聚乙烯醇系薄膜者，其系被施以至少含有一种还原剂之处理浴所行之处理，而且前述碘系偏光件含有还原剂的氧化物，且还原剂与其氧化物的合计含量为0.06×10-6~1.6×10-6mol/g。该碘偏光件系能够满足高透射率、高偏光度的光学特性，而且能够抑制在短波长侧之漏光。前述碘系偏光件系

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