会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 黏著劑層、附黏著劑層之單面保護偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法
    • 黏着剂层、附黏着剂层之单面保护偏光薄膜、影像显示设备及其连续制造方法
    • TW201840774A
    • 2018-11-16
    • TW107111034
    • 2018-03-29
    • 日商日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 森本有MORIMOTO, YU外山雄祐TOYAMA, YUSUKE藤田雅人FUJITA, MASATO江原卓EHARA, SUGURU
    • C09J7/30C09J133/12C08J5/18G02B5/30G02F1/1335B32B7/12
    • 本發明之目的在於提供一種可抑制奈米狹縫所造成之缺陷並且具有優異抗靜電功能及重工性的黏著劑層、以及一種具有該黏著劑層的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜。本發明之黏著劑層之特徵在於:含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物,並且前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有烷基之碳數為2~12的(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸甲酯作為單體單元,且前述黏著劑層滿足下述式(1):Abs(a):係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中,源自(甲基)丙烯酸甲酯之C-O-C鍵之非對稱伸縮振動的峰值吸光度; Abs(b):係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中,源自前述(甲基)丙烯酸烷基酯之C-O-C鍵之非對稱伸縮振動的峰值吸光度; Abs(c):係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中,在800~900cm-1之範圍內的最低吸光度。
    • 本发明之目的在于提供一种可抑制奈米狭缝所造成之缺陷并且具有优异抗静电功能及重工性的黏着剂层、以及一种具有该黏着剂层的附黏着剂层之单面保护偏光薄膜。本发明之黏着剂层之特征在于:含有(甲基)丙烯酸系聚合物作为基底聚合物,并且前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有烷基之碳数为2~12的(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸甲酯作为单体单元,且前述黏着剂层满足下述式(1):Abs(a):系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中,源自(甲基)丙烯酸甲酯之C-O-C键之非对称伸缩振动的峰值吸光度; Abs(b):系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中,源自前述(甲基)丙烯酸烷基酯之C-O-C键之非对称伸缩振动的峰值吸光度; Abs(c):系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中,在800~900cm-1之范围内的最低吸光度。