专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI543207B 導電性膜及導電性膜卷有权
简体标题：导电性膜及导电性膜卷
公开(公告)号：TWI543207B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW101145321
申请日：2012-12-03
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤野望 , FUJINO, NOZOMI , 鷹尾寬行 , TAKAO, HIROYUKI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： H01B5/14 , B32B15/08
CPC分类号： H01B7/04 , C23C14/024 , C23C14/025 , C23C14/0641 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/345

2. 发明专利

TWI527917B 真空成膜方法，及經由該方法所得之層積體有权
简体标题：真空成膜方法，及经由该方法所得之层积体
公开(公告)号：TWI527917B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101115177
申请日：2012-04-27
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：梨木智剛 , NASHIKI, TOMOTAKE , 阪田義昌 , SAKATA, YOSHIMASA , 菅原英男 , SUGAWARA, HIDEO , 家倉健吉 , YAGURA, KENKICHI , 濱田明 , HAMADA, AKIRA , 伊藤喜久 , ITO, YOSHIHISA , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C14/34 , C23C14/568 , H01L21/67132 , H01L21/67173 , Y10T428/31678

3. 发明专利

TWI480898B 導電性積層膜之製造方法有权
简体标题：导电性积层膜之制造方法
公开(公告)号：TWI480898B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW101114272
申请日：2012-04-20
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤野望 , FUJINO, NOZOMI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI , 坂田義昌 , SAKATA, YOSHIMASA
IPC分类号： H01B5/14 , B32B27/36
CPC分类号： G02F1/13338

4. 发明专利

TWI438504B 偏光板、光學膜及圖像顯示裝置有权
简体标题：偏光板、光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TWI438504B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：TW097113054
申请日：2008-04-10
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：赤利玲子 , AKARI, REIKO , 池田哲朗 , IKEDA, TETSUROU , 中野勇樹 , NAKANO, YUUKI , 八重堅將寬 , YAEGASHI, MASAHIRO , 鈴木暢 , SUZUKI, MITSURU , 佐竹正之 , SATAKE, MASAYUKI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： G02B5/30

5. 发明专利

TWI413699B 透明導電性膜有权
简体标题：透明导电性膜
公开(公告)号：TWI413699B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101136258
申请日：2012-10-01
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：梨木智剛 , NASHIKI, TOMOTAKE , 拜師基希 , HAISHI, MOTOKI , 野口知功 , NOGUCHI, TOMONORI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： C23C14/08
CPC分类号： H01B5/14 , B32B7/02 , C23C14/086 , C23C14/3492 , C23C14/5806 , G06F3/044 , H01L31/022475 , H01L31/1884 , Y02E10/50 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975 , Y10T428/266 , Y10T428/31507 , Y10T428/31786 , Y10T428/31855

6. 发明专利

TW201337960A 導電性膜卷之製造方法审中-公开
简体标题：导电性膜卷之制造方法
公开(公告)号：TW201337960A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101148478
申请日：2012-12-19
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤野望 , FUJINO, NOZOMI , 鷹尾寬行 , TAKAO, HIROYUKI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： H01B13/00 , H01B5/14
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/562 , C23C14/5853
摘要：本發明提供一種鄰接之膜彼此不壓接而可維持高品質之導電性膜卷之製造方法。本發明之製造方法包括：第1步驟，其一面回卷膜基材之初始卷，一面藉由濺鍍法於膜基材之一側依序積層第1透明導電體層及第1銅層，並將所獲得之第1積層體捲繞成卷狀而作為第1卷；第2步驟，其將該第1卷於大氣中保管30小時以上，於第1銅層之表面形成含有氧化銅(I)之氧化皮膜層；及第3步驟，其一面回卷第1卷，一面藉由濺鍍法於膜基材之另一側依序積層第2透明導電體層及第2銅層，並將所獲得之第2積層體捲繞成卷狀而作為第2卷。
简体摘要：本发明提供一种邻接之膜彼此不压接而可维持高品质之导电性膜卷之制造方法。本发明之制造方法包括：第1步骤，其一面回卷膜基材之初始卷，一面借由溅镀法于膜基材之一侧依序积层第1透明导电体层及第1铜层，并将所获得之第1积层体卷绕成卷状而作为第1卷；第2步骤，其将该第1卷于大气中保管30小时以上，于第1铜层之表面形成含有氧化铜(I)之氧化皮膜层；及第3步骤，其一面回卷第1卷，一面借由溅镀法于膜基材之另一侧依序积层第2透明导电体层及第2铜层，并将所获得之第2积层体卷绕成卷状而作为第2卷。

7. 发明专利

TW201329818A 薄膜感測器审中-公开
简体标题：薄膜传感器
公开(公告)号：TW201329818A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101142702
申请日：2012-11-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI , 杉野晶子 , SUGINO, AKIKO , 千葉剛 , CHIBA, TSUYOSHI , 藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI , 山岡尚志 , YAMAOKA, TAKASHI
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044
CPC分类号： G01R27/2605 , G01D5/24 , G01R31/312 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107
摘要：本發明提供一種視認性優異並且可防止誤動作之產生，此外藉由發揮優異之抗靜電性而可長期地防止顯示不良之薄膜感測器。薄膜感測器1依序包括偏光膜2、抗靜電層3、及靜電電容感測器4。靜電電容感測器具有透明膜5、形成於該透明膜之一側之透明電極圖案6、及以埋設該透明電極圖案之方式形成於透明膜5之一側之接著層7。抗靜電層3係配置於偏光膜2與透明膜5之間，且與透明膜5接合。該抗靜電層3之表面電阻值係1.0×109~1.0×1011Ω/□。
简体摘要：本发明提供一种视认性优异并且可防止误动作之产生，此外借由发挥优异之抗静电性而可长期地防止显示不良之薄膜传感器。薄膜传感器1依序包括偏光膜2、抗静电层3、及静电电容传感器4。静电电容传感器具有透明膜5、形成于该透明膜之一侧之透明电极图案6、及以埋设该透明电极图案之方式形成于透明膜5之一侧之接着层7。抗静电层3系配置于偏光膜2与透明膜5之间，且与透明膜5接合。该抗静电层3之表面电阻值系1.0×109~1.0×1011Ω/□。

8. 发明专利

TWI541373B 成膜方法及藉由該方法所得之層積體有权
简体标题：成膜方法及借由该方法所得之层积体
公开(公告)号：TWI541373B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW101127220
申请日：2012-07-27
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：梨木智剛 , NASHIKI, TOMOTAKE , 阪田義昌 , SAKATA, YOSHIMASA , 菅原英男 , SUGAWARA, HIDEO , 家倉健吉 , YAGURA, KENKICHI , 濱田明 , HAMADA, AKIRA , 伊藤喜久 , ITO, YOSHIHISA , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： C23C14/56 , B32B15/04
CPC分类号： C23C14/562 , Y10T428/31678

9. 发明专利

TWI536401B 導電性膜捲之製造方法有权
简体标题：导电性膜卷之制造方法
公开(公告)号：TWI536401B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW102125817
申请日：2013-07-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤野望 , FUJINO, NOZOMI , 鷹尾寬行 , TAKAO, HIROYUKI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： H01B13/00 , H01B5/14
CPC分类号： H01B1/00 , G06F3/044 , G06F2203/04103

10. 发明专利

TWI527686B 導電性膜卷之製造方法有权
简体标题：导电性膜卷之制造方法
公开(公告)号：TWI527686B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101147682
申请日：2012-12-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤野望 , FUJINO, NOZOMI , 鷹尾寬行 , TAKAO, HIROYUKI , 石橋邦昭 , ISHIBASHI, KUNIAKI
IPC分类号： B32B15/08 , B32B33/00
CPC分类号： B32B38/08 , B32B38/00 , B32B2038/0092 , B32B2307/202 , C23C14/086 , C23C14/087 , C23C14/14 , C23C14/34 , C23C14/562 , C23C28/322 , C23C28/345 , C23C28/42 , Y10T156/10

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式