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1. 发明专利

TW201946617A 經皮吸收製劑审中-公开
简体标题：经皮吸收制剂
公开(公告)号：TW201946617A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108123675
申请日：2018-03-26
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 藤原海治 , FUJIWARA, KAIJI , 松本千絵 , MATSUMOTO, CHIE
IPC分类号： A61K9/70 , A61K47/10 , A61K121/00 , A61F13/00
摘要：本發明提供一種展示優良藥物皮膚滲透性且不容易造成冷流之經皮吸收製劑。一種經皮吸收製劑，其具有含有藥物及聚合物之含藥物層，其中該含藥物層中之該聚合物之50至100 wt%為具有30℃至200℃之玻璃轉移溫度之聚合物，且該含藥物層中之該藥物處於非晶態。
简体摘要：本发明提供一种展示优良药物皮肤渗透性且不容易造成冷流之经皮吸收制剂。一种经皮吸收制剂，其具有含有药物及聚合物之含药物层，其中该含药物层中之该聚合物之50至100 wt%为具有30℃至200℃之玻璃转移温度之聚合物，且该含药物层中之该药物处于非晶态。

2. 发明专利

TWI468742B 光擴散元件、附光擴散元件之偏光板、偏光元件、及使用其之液晶顯示裝置有权
简体标题：光扩散组件、附光扩散组件之偏光板、偏光组件、及使用其之液晶显示设备
公开(公告)号：TWI468742B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW100133555
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 中村恒三 , NAKAMURA, KOZO , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 山形一斗 , YAMAGATA, KAZUTO , 首藤俊介 , SHUTOU, SHUNSUKE , 瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/0294 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/13338 , G02F1/133504 , G09F13/0409

3. 发明专利

TWI461726B 光學膜之製造方法有权
简体标题：光学膜之制造方法
公开(公告)号：TWI461726B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW100133619
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 中村恒三 , NAKAMURA, KOZO , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/02
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/105 , G02B5/0242

4. 发明专利

TWI444389B 光擴散元件有权
简体标题：光扩散组件
公开(公告)号：TWI444389B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100133620
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI
IPC分类号： C08F2/38 , G02B5/02
CPC分类号： G02B5/02 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02B5/0294 , G02F1/133504 , G02F1/133606 , G02F2202/36

5. 发明专利

TW202002958A 含普瑞巴林（ｐｒｅｇａｂａｌｉｎ）之組成物的製造方法及含普瑞巴林之組成物审中-公开
简体标题：含普瑞巴林（ｐｒｅｇａｂａｌｉｎ）之组成物的制造方法及含普瑞巴林之组成物
公开(公告)号：TW202002958A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108108826
申请日：2019-03-15
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 藤原海治 , FUJIWARA, KAIJI , 松本千 , MATSUMOTO, CHIE , 杉山晃規 , SUGIYAMA, AKINORI , 諫山純 , ISAYAMA, JYUN , 本田俊成 , HONDA, TOSHINARI , 舟﨑愛 , FUNASAKI, AI
IPC分类号： A61K31/197 , A61K47/02 , A61K47/10 , A61K47/32 , A61K47/36 , A61K9/00
摘要：本發明課題在於提供一種可抑制普瑞巴林的結晶化的含普瑞巴林之組成物的製造方法，及可抑制普瑞巴林的結晶化的含普瑞巴林之組成物。解決手段為，本發明之含普瑞巴林之組成物的製造方法，其特徵為，具有：步驟(1)，係將普瑞巴林溶解於酸的水溶液，而準備普瑞巴林的鹽之水溶液；步驟(2)，係將前述普瑞巴林的鹽之水溶液與親水性樹脂混合，而準備混合液；及步驟(3)，係將前述混合液濃縮，前述酸的酸解離常數係低於普瑞巴林的酸解離常數。
简体摘要：本发明课题在于提供一种可抑制普瑞巴林的结晶化的含普瑞巴林之组成物的制造方法，及可抑制普瑞巴林的结晶化的含普瑞巴林之组成物。解决手段为，本发明之含普瑞巴林之组成物的制造方法，其特征为，具有：步骤(1)，系将普瑞巴林溶解于酸的水溶液，而准备普瑞巴林的盐之水溶液；步骤(2)，系将前述普瑞巴林的盐之水溶液与亲水性树脂混合，而准备混合液；及步骤(3)，系将前述混合液浓缩，前述酸的酸解离常数系低于普瑞巴林的酸解离常数。

6. 发明专利

TW201841626A 經皮吸收製劑审中-公开
简体标题：经皮吸收制剂
公开(公告)号：TW201841626A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107110283
申请日：2018-03-26
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 藤原海治 , FUJIWARA, KAIJI , 松本千絵 , MATSUMOTO, CHIE
IPC分类号： A61K9/70 , A61K47/10 , A61K121/00 , A61F13/00
摘要：本發明提供一種展示優良藥物皮膚滲透性且不容易造成冷流之經皮吸收製劑。一種經皮吸收製劑，其具有含有藥物及聚合物之含藥物層，其中該含藥物層中之該聚合物之50至100 wt%為具有30℃至200℃之玻璃轉移溫度之聚合物，且該含藥物層中之該藥物處於非晶態。
简体摘要：本发明提供一种展示优良药物皮肤渗透性且不容易造成冷流之经皮吸收制剂。一种经皮吸收制剂，其具有含有药物及聚合物之含药物层，其中该含药物层中之该聚合物之50至100 wt%为具有30℃至200℃之玻璃转移温度之聚合物，且该含药物层中之该药物处于非晶态。

7. 发明专利

TW201841625A 經皮吸收製劑前驅物审中-公开
简体标题：经皮吸收制剂前驱物
公开(公告)号：TW201841625A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107110276
申请日：2018-03-26
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：瀧田智仁 , TAKITA, TOMOHITO , 藤原海治 , FUJIWARA, KAIJI
IPC分类号： A61K9/70 , A61F13/00 , A61F13/02 , A61K121/00
摘要：本發明提供一種含有離型襯墊10之經皮吸收製劑前驅體50，該離型襯墊含有一個第一谷摺疊部分1、一或兩個第一山摺疊部分2及於一側及另一側上與作為分界線之該第一谷摺疊部分1隔開且距離該第一谷摺疊部分1大致相等距離的第一基線L1及第二基線L2，其中該第一基線L1及該第二基線L2中之至少一者為該第一山摺疊部分2之摺疊線；及在該離型襯墊10上具有位於該第一基線L1上之中心線之含藥物層3及具有位於該第二基線L2上之中心線之接著劑層4。
简体摘要：本发明提供一种含有离型衬垫10之经皮吸收制剂前驱体50，该离型衬垫含有一个第一谷折叠部分1、一或两个第一山折叠部分2及于一侧及另一侧上与作为分界线之该第一谷折叠部分1隔开且距离该第一谷折叠部分1大致相等距离的第一基线L1及第二基线L2，其中该第一基线L1及该第二基线L2中之至少一者为该第一山折叠部分2之折叠线；及在该离型衬垫10上具有位于该第一基线L1上之中心线之含药物层3及具有位于该第二基线L2上之中心线之接着剂层4。

8. 发明专利

TW201222018A 光擴散元件、附光擴散元件之偏光板、偏光元件、及使用其之液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：光扩散组件、附光扩散组件之偏光板、偏光组件、及使用其之液晶显示设备
公开(公告)号：TW201222018A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100133555
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：西村明憲 , 中村恒三 , 武本博之 , 淵田岳仁 , 山形一斗 , 首藤俊介 , 瀧田智仁
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B5/0294 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/13338 , G02F1/133504 , G09F13/0409
摘要：本發明係提供一種可實現低背向散射且高濁度之薄膜之光擴散元件。本發明之光擴散元件包括:第1區域,其具有第1折射率n1;折射率調變區域,其包圍第1區域且實質上為球殼狀;以及第2區域,其位於折射率調變區域之與第1區域相反側,具有第2折射率n2;並且滿足下述式(1)及(2):0.0006≦��n/L…(1) 10≦(��n)2�A�B≦100…(2) 此處,��n係第1折射率n1與第2折射率n2之差之絕對値|n1-n2|,L(nm)係折射率調變區域之平均厚度,��n/L之單位係(nm-1),A係將整個光擴散元件設為100重量份時之構成第1區域之材料之重量份數,B係將整個光擴散元件設為100重量份時之構成第2區域之材料之重量份數。
简体摘要：本发明系提供一种可实现低背向散射且高浊度之薄膜之光扩散组件。本发明之光扩散组件包括:第1区域,其具有第1折射率n1;折射率调制区域,其包围第1区域且实质上为球壳状;以及第2区域,其位于折射率调制区域之与第1区域相反侧,具有第2折射率n2;并且满足下述式(1)及(2):0.0006≦��n/L…(1) 10≦(��n)2�A�B≦100…(2) 此处,��n系第1折射率n1与第2折射率n2之差之绝对値|n1-n2|,L(nm)系折射率调制区域之平均厚度,��n/L之单位系(nm-1),A系将整个光扩散组件设为100重量份时之构成第1区域之材料之重量份数,B系将整个光扩散组件设为100重量份时之构成第2区域之材料之重量份数。

9. 发明专利

TW201221526A 光擴散元件审中-公开
简体标题：光扩散组件
公开(公告)号：TW201221526A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100133620
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：西村明憲 , 瀧田智仁 , 淵田岳仁 , 武本博之
IPC分类号： C08F , G02B
CPC分类号： G02B5/02 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02B5/0294 , G02F1/133504 , G02F1/133606 , G02F2202/36
摘要：本發明係提供一種光擴散性優異(即,具有較高之濁度)而且外觀不均較少之光擴散元件。本發明之光擴散元件包括基材膜及設置於該基材膜之一面之光擴散膜,該光擴散膜之濁度値為75%以上,該光擴散膜包含氟系界面活性劑,該氟系界面活性劑偏在於該光擴散膜中之與該基材膜相反側之面,該氟系界面活性劑包含選自由以下述通式(I)所表示之構成單元、以下述通式(II)所表示之構成單元及以下述通式(III)所表示之構成單元所組成之群之至少1種構成單元;

-O-CF2-O- …(III) 通式(I)中,m係1~10之整數,通式(II)中,n係2~10之整數。
简体摘要：本发明系提供一种光扩散性优异(即,具有较高之浊度)而且外观不均较少之光扩散组件。本发明之光扩散组件包括基材膜及设置于该基材膜之一面之光扩散膜,该光扩散膜之浊度値为75%以上,该光扩散膜包含氟系界面活性剂,该氟系界面活性剂偏在于该光扩散膜中之与该基材膜相反侧之面,该氟系界面活性剂包含选自由以下述通式(I)所表示之构成单元、以下述通式(II)所表示之构成单元及以下述通式(III)所表示之构成单元所组成之群之至少1种构成单元; -O-CF2-O- …(III) 通式(I)中,m系1~10之整数,通式(II)中,n系2~10之整数。

10. 发明专利

TW201221992A 光學膜之製造方法审中-公开
简体标题：光学膜之制造方法
公开(公告)号：TW201221992A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100133619
申请日：2011-09-16
申请人：日東電工股份有限公司
发明人：西村明憲 , 瀧田智仁 , 中村恒三 , 武本博之 , 淵田岳仁
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/105 , G02B5/0242
摘要：本發明提供一種光學均一性及耐擦傷性優異之至少為2層構造之光學膜之製造方法。本發明之製造方法包括:於基材膜之一面上塗敷含有不具有反應性基之氟系調平劑之第1塗敷液而形成第1功能層的第1塗敷步驟、及於該第1功能層之表面塗敷第2塗敷液而形成第2功能層之第2塗敷步驟,該氟系調平劑於塗佈該第2塗敷液時偏向存在於該第1功能層表面,並於塗佈該第2塗敷液後溶出至該第2塗敷液中,而偏向存在於所形成之第2功能層表面。
简体摘要：本发明提供一种光学均一性及耐擦伤性优异之至少为2层构造之光学膜之制造方法。本发明之制造方法包括:于基材膜之一面上涂敷含有不具有反应性基之氟系调平剂之第1涂敷液而形成第1功能层的第1涂敷步骤、及于该第1功能层之表面涂敷第2涂敷液而形成第2功能层之第2涂敷步骤,该氟系调平剂于涂布该第2涂敷液时偏向存在于该第1功能层表面,并于涂布该第2涂敷液后溶出至该第2涂敷液中,而偏向存在于所形成之第2功能层表面。

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