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1. 发明专利

TWI619612B 積層體及其製造方法有权
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TWI619612B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW102129296
申请日：2013-08-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：國方智 , KUNIKATA, SATORU , 北岸一志 , KITAGISHI, HITOSHI , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/36 , B29C55/04 , C09J9/02 , C09K3/16 , B29D7/01 , B29D11/00
CPC分类号： G02B1/16 , C08J7/04 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2429/04 , C08J2475/04 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/12 , G02B2207/121 , Y10T428/31587

2. 发明专利

TWI600540B 積層體之製造方法有权
简体标题：积层体之制造方法
公开(公告)号：TWI600540B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW103121030
申请日：2014-06-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：塘口直樹 , TOMOGUCHI, NAOKI , 菅野敏廣 , KANNO, TOSHIHIRO , 國方智 , KUNIKATA, SATORU , 吉田健太郎 , YOSHIDA, KENTAROU
IPC分类号： B32B27/06 , B32B27/36 , G02B5/30
CPC分类号： C08J7/047 , B29D11/0073 , C08J2367/02 , C08J2429/04 , Y10T428/31855

3. 发明专利

TWI682199B 偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI682199B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104137541
申请日：2015-11-13
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：國方智 , KUNIKATA, SATORU , 中野勇樹 , NAKANO, YUKI , 後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 池嶋健太郎 , IKESHIMA, KENTARO
IPC分类号： G02B5/30 , B32B37/02 , B32B38/00

4. 发明专利

TWI669212B 光學積層體之製造方法有权
简体标题：光学积层体之制造方法
公开(公告)号：TWI669212B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW103139579
申请日：2014-11-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：國方智 , KUNIKATA, SATORU , 山本佳史 , YAMAMOTO, YOSHIFUMI , 山崎達也 , YAMASAKI, TATSUYA , 出崎忍 , DESAKI, SHINOBU
IPC分类号： B32B27/30 , B32B3/30 , G02B5/30

5. 发明专利

TW201527103A 偏光板及偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：偏光板及偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201527103A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103142007
申请日：2014-12-03
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：國方智 , KUNIKATA, SATORU , 後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 吉田健太郎 , YOSHIDA, KENTAROU
IPC分类号： B32B27/18 , B32B27/32 , B32B38/10 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/305 , B32B37/025 , B32B2037/243 , B32B2038/0028 , B32B2038/168 , B32B2309/105 , G02B5/3033 , Y10T428/31935
摘要：本發明提供偏光板之製造方法，其可製造偏光膜而不出現樹脂基材與聚乙烯醇系樹脂層之間剝離等問題，且，在製造偏光膜後，可剝離偏光膜及樹脂基材而不受剝離方向及剝離角度的限制，進而可獲得外觀優異之偏光板。根據本發明實施形態之偏光板之製造方法包括：將含有聚乙烯醇系樹脂及界面活性劑的塗佈液塗佈到樹脂基材上，以製備在該樹脂基材上形成有聚乙烯醇系樹脂層的積層體；將形成在該樹脂基材上的聚乙烯醇系樹脂層進行拉伸、染色，以製備偏光膜；將光學機能薄膜積層在該積層體之偏光膜側，以製備光學機能薄膜積層體；及該從光學機能薄膜積層體剝離該樹脂基材。相對於100重量份該聚乙烯醇系樹脂，該塗佈液中之該界面活性劑含量小於1重量份。
简体摘要：本发明提供偏光板之制造方法，其可制造偏光膜而不出现树脂基材与聚乙烯醇系树脂层之间剥离等问题，且，在制造偏光膜后，可剥离偏光膜及树脂基材而不受剥离方向及剥离角度的限制，进而可获得外观优异之偏光板。根据本发明实施形态之偏光板之制造方法包括：将含有聚乙烯醇系树脂及界面活性剂的涂布液涂布到树脂基材上，以制备在该树脂基材上形成有聚乙烯醇系树脂层的积层体；将形成在该树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层进行拉伸、染色，以制备偏光膜；将光学机能薄膜积层在该积层体之偏光膜侧，以制备光学机能薄膜积层体；及该从光学机能薄膜积层体剥离该树脂基材。相对于100重量份该聚乙烯醇系树脂，该涂布液中之该界面活性剂含量小于1重量份。

6. 发明专利

TWI619606B 樹脂薄膜及其製造方法有权
简体标题：树脂薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI619606B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW102129485
申请日：2013-08-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：北岸一志 , KITAGISHI, HITOSHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/12 , C09J175/04 , C09K3/16
CPC分类号： G02B5/305 , B05D3/0473 , B05D3/12 , B05D7/04 , B29C55/026 , B29C55/12 , B29K2067/003 , B29K2081/00 , B29K2105/256 , B29K2995/0005 , B29L2011/0066 , C08J7/047 , C08J2375/04 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D165/00 , G02B1/16 , Y10T428/24355

7. 发明专利

TWI548899B 層合體、延伸層合體、延伸層合體之製造方法、使用此等之包括偏光膜之光學膜層合體之製造方法、及偏光膜有权
简体标题：层合体、延伸层合体、延伸层合体之制造方法、使用此等之包括偏光膜之光学膜层合体之制造方法、及偏光膜
公开(公告)号：TWI548899B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW103144318
申请日：2014-12-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 上条卓史 , KAMIJO, TAKASHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30 , B29D11/00 , B29K29/00
CPC分类号： G02B5/305 , B29C55/005 , B29C55/023 , B29K2029/04 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B2307/40 , B32B2307/42 , B32B2457/00 , G02B5/3033

8. 发明专利

TWI547372B 層合體、延伸層合體、延伸層合體之製造方法、使用此等之包括偏光膜之光學膜層合體之製造方法、及偏光膜有权
简体标题：层合体、延伸层合体、延伸层合体之制造方法、使用此等之包括偏光膜之光学膜层合体之制造方法、及偏光膜
公开(公告)号：TWI547372B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW103144319
申请日：2014-12-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 上条卓史 , KAMIJO, TAKASHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/30 , B32B27/16 , B29C55/02 , B65D85/671 , G02B1/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29K101/10 , B29L7/00 , B29L9/00 , B29L11/00
CPC分类号： G02B5/305 , B29C55/005 , B29C55/023 , B29D11/00644 , B29D11/0073 , B29K2029/04 , G02B5/3033

9. 发明专利

TW201534993A 層合體、延伸層合體、延伸層合體之製造方法、使用此等之包括偏光膜之光學膜層合體之製造方法、及偏光膜审中-公开
简体标题：层合体、延伸层合体、延伸层合体之制造方法、使用此等之包括偏光膜之光学膜层合体之制造方法、及偏光膜
公开(公告)号：TW201534993A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103144318
申请日：2014-12-18
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：後藤周作 , GOTO, SHUSAKU , 宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 上条卓史 , KAMIJO, TAKASHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30 , B29D11/00 , B29K29/00
CPC分类号： G02B5/305 , B29C55/005 , B29C55/023 , B29K2029/04 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B2307/40 , B32B2307/42 , B32B2457/00 , G02B5/3033
摘要：本發明之課題在於提供製造具有良好光學特性之偏光膜用之中間材料及製造方法。其解決手段為一種層合體，其係包含熱可塑性樹脂基材，與該熱可塑性樹脂基材上經製膜而成之聚乙烯醇系樹脂層，且係用以形成由聚乙烯醇系樹脂層所構成之偏光膜而使用之層合體；構成該偏光膜之聚乙烯醇系樹脂層係受到後步驟所成之處理者；該後步驟係為前述熱可塑性樹脂基材上經製膜而成之聚乙烯醇系樹脂層係與前述熱可塑性樹脂基材一同受到延伸後所施行之後步驟，且係至少包含藉由二色性物質而染色聚乙烯醇系樹脂層之染色步驟，與延伸聚乙烯醇系樹脂層之最終延伸步驟；其中前述聚乙烯醇系樹脂層包含聚乙烯醇系樹脂與丙三醇。
简体摘要：本发明之课题在于提供制造具有良好光学特性之偏光膜用之中间材料及制造方法。其解决手段为一种层合体，其系包含热可塑性树脂基材，与该热可塑性树脂基材上经制膜而成之聚乙烯醇系树脂层，且系用以形成由聚乙烯醇系树脂层所构成之偏光膜而使用之层合体；构成该偏光膜之聚乙烯醇系树脂层系受到后步骤所成之处理者；该后步骤系为前述热可塑性树脂基材上经制膜而成之聚乙烯醇系树脂层系与前述热可塑性树脂基材一同受到延伸后所施行之后步骤，且系至少包含借由二色性物质而染色聚乙烯醇系树脂层之染色步骤，与延伸聚乙烯醇系树脂层之最终延伸步骤；其中前述聚乙烯醇系树脂层包含聚乙烯醇系树脂与丙三醇。

10. 发明专利

TW201919854A 塗佈液之製造方法、偏光件之製造方法及塗佈液之製造裝置审中-公开
简体标题：涂布液之制造方法、偏光件之制造方法及涂布液之制造设备
公开(公告)号：TW201919854A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133170
申请日：2018-09-20
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：上条卓史 , KAMIJO, TAKASHI , 國方智 , KUNIKATA, SATORU , 松山裕紀 , MATSUYAMA, HIRONORI
IPC分类号： B29D11/00 , B05C9/10 , G02B5/30 , B29K29/00
摘要：本發明提供一種經抑制透明度降低的聚乙烯醇塗佈液之製造方法。本發明之塗佈液之製造方法係一種含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液之製造方法，且其包含：將含有聚乙烯醇系樹脂之溶液在80℃以上保溫；將80℃以上的溶液冷卻至40℃以下；將經冷卻之溶液作為塗佈液連續供給；及，在停止供給塗佈液時，將經已冷卻之溶液加熱至80℃以上並保溫。
简体摘要：本发明提供一种经抑制透明度降低的聚乙烯醇涂布液之制造方法。本发明之涂布液之制造方法系一种含有聚乙烯醇系树脂之涂布液之制造方法，且其包含：将含有聚乙烯醇系树脂之溶液在80℃以上保温；将80℃以上的溶液冷却至40℃以下；将经冷却之溶液作为涂布液连续供给；及，在停止供给涂布液时，将经已冷却之溶液加热至80℃以上并保温。

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