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    • 4. 发明专利
    • リッジ導波路型半導体レーザ
    • 脊形波导型半导体激光
    • JP2016201474A
    • 2016-12-01
    • JP2015080951
    • 2015-04-10
    • 日本電信電話株式会社
    • 小林 亘伊藤 敏夫藤原 直樹金井 拓也進藤 隆彦
    • H01S5/343H01S5/223H01S5/22
    • 【課題】従来技術のリッジ導波路型半導体レーザでは、コア層の導波路における電界強度分布の形状の歪みのために、外部の光ファイバと結合する際の損失が大きいという問題があった。メサストライプにおける横方向の急激な屈折率変化は、コアの加工が不要なリッジ導波路による光閉じ込めを実現する一方で、電界強度分布の形状に凹みやくぼみなどの形状歪みを生じさせ、この歪みが光ファイバと発振光を結合する際の損失となっていた。 【解決手段】本発明のリッジ導波路型半導体レーザは、メサストライプ構造の全体を覆うように、メサストライプの側壁およびコア層の上部に、半導体基板と同じ組成の半導体緩衝層を形成する。この緩衝層によって、メサストライプの横方向における屈折率の急激な変化を緩和し、電界強度分布の形状に生じる歪みを軽減する。この緩衝層によって、半導体レーザと光ファイバとの結合効率を改善することができる。 【選択図】図3
    • 现有技术的A中的脊形波导半导体激光器,在波导核心层的电场强度分布的形状的失真,有一个问题,即在耦合损失与外部光纤是大的。 在台面条折射率横向急剧变化,而芯的加工,以实现光限制由于不必要的脊形波导,引起形状变形,例如在电场强度分布的形状凹陷和凹陷,变形 出现了振荡光耦合到所述光纤的损耗。 脊形波导半导体激光器本发明涉及,以覆盖整个台面条纹结构,侧壁的上部和台面条纹的核心层,具有相同组成的半导体衬底中的半导体缓冲层。 该缓冲层,并在台面条的横向方向上的折射率平滑突然变化,以减小电场强度分布的形状发生的失真。 该缓冲层可以提高半导体激光器和光纤之间的耦合效率。 点域
    • 5. 发明专利
    • 半導体レーザ
    • 半导体激光器
    • JP2016184611A
    • 2016-10-20
    • JP2015063201
    • 2015-03-25
    • NTTエレクトロニクス株式会社日本電信電話株式会社
    • 廣野 卓夫幸前 篤郎川口 悦弘内田 敏昭湯田 正宏大手 康義浅岡 淳一東盛 裕一小林 亘小木曽 義弘進藤 隆彦三条 広明藤原 直樹
    • H01S5/227
    • 【課題】SI−BH構造の半導体レーザであって、SI埋め込み層への電流リークを長期間、安定的に低減可能な半導体レーザを提供すること。 【解決手段】n−InP基板101の上部に、n−InPクラッド層102、n側SCH層103、活性層104、p側SCH層105、p−InPクラッド層106、コンタクト層107が順次積層し、ドライエッチングによりn−InP基板101の一部までエッチング除去してメサストライプ構造作製後、メサストライプ構造の両側を半絶縁性InPで埋め込む構造(SI−BH)の半導体レーザである。本実施例1の付加層108はn−InP基板101とSI埋め込み(SI−InP)層109との間に形成されている。付加層108はInPよりバンドギャップが広く、格子定数が等しい半導体であり、例えば、In 0.52 Al 0.48 Asである。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供具有SI-BH结构的半导体激光器,其能够稳定地减少长时间的SI嵌入层的电流泄漏。解决方案:提供一种具有结构(SI-BH)的半导体激光器, 通过将n-InP包层102,n侧SCH层103,有源层104,p侧SCH层105,p-InP覆盖层106和接触层107依次层叠而得到 -InP衬底101,通过干蚀刻将它们去除n-InP衬底101的一部分以产生台面条状结构,然后用半绝缘InP填充台面条状结构的两侧。 在n-InP衬底101和SI嵌入(SI-InP)层109之间形成根据实施例1的附加层108.附加层108由具有比InP宽的带隙的半导体形成,并且具有 晶格常数等于InP,并由InAlAs形成,例如。图1