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1. 发明申请

WO2006088079A1 有機無機複合体审中-公开
标题翻译：有机无机复合体
公开(公告)号：WO2006088079A1
公开(公告)日：2006-08-24
申请号：PCT/JP2006/302710
申请日：2006-02-16
申请人：日本曹達株式会社 , 木村信夫 , 芝田大幹 , 長谷川一希
发明人：木村信夫 , 芝田大幹 , 長谷川一希
IPC分类号： C08L83/04 , C09D183/04
CPC分类号： C09D183/14 , C08K3/22 , C09D183/04 , C09D183/06
摘要：　表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供する。式（I）：ＲｎＳｉＸ４－ｎ（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表す。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の３５０ｎｍ以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び／又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする有機無機複合体。
摘要翻译：公开了一种对基材具有优异粘合性的有机 - 无机复合体，其中前表面具有非常高的硬度，而内部和后表面具有足够的硬度。具体公开了一种有机 - 无机复合体，其特征在于主要含有下式（I）表示的有机硅化合物的缩合物：R n SiX 4-n（其中 R表示碳原子与Si直接结合的有机基团，X表示羟基或可水解基团，n表示1或2），并且含有至少一种与波长不大于350的光反应的光反应性化合物 nm，其选自金属螯合物，金属有机酸盐化合物，具有两个或更多个羟基或可水解基团的金属化合物，它们的水解产物和它们的缩合物，和/或由其衍生的化合物。

2. 发明申请

WO2008069217A1 有機無機複合体审中-公开
标题翻译：有机无机复合体
公开(公告)号：WO2008069217A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：PCT/JP2007/073423
申请日：2007-12-04
申请人：日本曹達株式会社 , 木村信夫 , 芝田大幹 , 長谷川一希
发明人：木村信夫 , 芝田大幹 , 長谷川一希
IPC分类号： C08F283/12 , C08F2/44 , C08L51/08
CPC分类号： C08F2/44 , C08G77/20 , C08J3/28 , C08K2003/2241 , C09D183/04 , C08K5/0025 , C08L33/06
摘要：　表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供することである。ａ）式（Ｉ）：ＲｎＳｉＸ４－ｎ（式中、ＲはＳｉに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Ｘは水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき各Ｒは同一でも異なっていてもよく、（４－ｎ）が２以上のとき各Ｘは同一でも異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、ｂ）金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の３５０ｎｍ以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び／又はそれから誘導される化合物ｃ）紫外線硬化性化合物の硬化物を含有することを特徴とする有機無機複合体。
摘要翻译：本发明公开了一种对基材具有优异粘合性的有机 - 无机复合体，同时具有极高硬度的前表面和足够硬度的内表面和后表面。具体公开了一种有机 - 无机复合体，其特征在于主要含有（a）由下式（I）表示的有机硅化合物的缩合产物：R n SiX 4-n < SUB（其中，R表示与Si直接键合的碳原子的有机基团，X表示羟基或水解性基团，n表示1或2.当n为2时，R可以相同或不同）（4-n）为2以上时，X可以相同或不同），还含有（b）至少一种对波长为350nm的光敏感的光敏化合物，或少量选自金属螯合物，金属有机酸盐化合物，具有两个或多个羟基或可水解基团的金属化合物，它们的水解产物和它们的缩合产物，和/或衍生自这种光敏剂的化合物化合物，和（c）u的固化产物紫外线固化性化合物。

3. 发明专利

JP5980547B2 成形体、成形体形成用組成物、及び成形体の製造方法有权
标题翻译：模制品，模制体的组合物，及其制造方法的模制品
公开(公告)号：JP5980547B2
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：JP2012088684
申请日：2012-04-09
申请人：日本曹達株式会社
发明人：木村信夫 , 芝田大幹 , 長谷川一希
IPC分类号： C08L83/04 , C08J5/00
CPC分类号： C09D183/14 , C09D183/04 , C09D183/06 , C08K3/22

4. 发明专利

JP5993347B2 転写箔有权
标题翻译：转印箔
公开(公告)号：JP5993347B2
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：JP2013117929
申请日：2013-06-04
申请人：日本曹達株式会社
发明人：長谷川一希
IPC分类号： B32B7/06 , B32B27/34 , B32B27/42 , B44C1/17
CPC分类号： B44C1/17

5. 发明专利

JP5826832B2 離型剤組成物及びそれを用いた転写箔有权
标题翻译：隔离剂组合物以及使用该转印箔
公开(公告)号：JP5826832B2
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：JP2013514038
申请日：2012-05-09
申请人：日本曹達株式会社
发明人：長谷川一希
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/36 , C09K3/00
CPC分类号： C09J7/0228 , C09J2467/005

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