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1. 发明专利

TWI683896B 研磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI683896B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW105127883
申请日：2016-08-30
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：潘易民 , PAN, YIMIN
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304

2. 发明专利

TW201726880A 研磨用組成物审中-公开
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TW201726880A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105127883
申请日：2016-08-30
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：潘易民 , PAN, YIMIN
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：本發明提供一種研磨用組成物，其係多晶矽及非晶矽的研磨速度相對於氮化矽的研磨速度之比大，多晶矽及非晶矽的研磨速度大，且氮化矽的研磨速度小。研磨用組成物含有磨粒、在構造中具有苯環的四級銨鹽、與水溶性高分子及界面活性劑之至少一者。此研磨用組成物係用於具有多晶矽及非晶矽之至少一者與氮化矽的研磨對象物之研磨。
简体摘要：本发明提供一种研磨用组成物，其系多晶硅及非晶硅的研磨速度相对于氮化硅的研磨速度之比大，多晶硅及非晶硅的研磨速度大，且氮化硅的研磨速度小。研磨用组成物含有磨粒、在构造中具有苯环的四级铵盐、与水溶性高分子及界面活性剂之至少一者。此研磨用组成物系用于具有多晶硅及非晶硅之至少一者与氮化硅的研磨对象物之研磨。

3. 发明专利

TW201730954A 濃縮研磨用組成物之製造方法及穩定化方法审中-公开
简体标题：浓缩研磨用组成物之制造方法及稳定化方法
公开(公告)号：TW201730954A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW106101887
申请日：2017-01-19
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：潘易民 , PAN, YIMIN
IPC分类号： H01L21/304 , C09K3/14 , C01B33/14
摘要：本發明之課題在於提供即使稀釋而使用，因進行研磨前之經過時間所致之研磨速度偏差亦少，而確保了穩定性之濃縮研磨用組成物之製造方法。又本發明之課題在於提供其穩定化方法。本發明之用以解決課題之手段係一種濃縮研磨用組成物之製造方法，其具有：準備包含分散介質及膠體氧化矽之膠體氧化矽濃縮分散液之步驟；於前述膠體氧化矽濃縮分散液中添加4級銨化合物，而製作分散液A之步驟；及於前述分散液A中添加水溶性高分子，而製作分散液B之步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供即使稀释而使用，因进行研磨前之经过时间所致之研磨速度偏差亦少，而确保了稳定性之浓缩研磨用组成物之制造方法。又本发明之课题在于提供其稳定化方法。本发明之用以解决课题之手段系一种浓缩研磨用组成物之制造方法，其具有：准备包含分散介质及胶体氧化硅之胶体氧化硅浓缩分散液之步骤；于前述胶体氧化硅浓缩分散液中添加4级铵化合物，而制作分散液A之步骤；及于前述分散液A中添加水溶性高分子，而制作分散液B之步骤。

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