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1. 发明专利

TWI645590B 閘極絕緣膜、有機薄膜電晶體及有機薄膜電晶體之製造方法有权
简体标题：闸极绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管之制造方法
公开(公告)号：TWI645590B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW103128090
申请日：2014-08-15
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. , 國立大學法人山形大學 , YAMAGATA UNIVERSITY
发明人：奧慎也 , OKU, SHINYA , 水上誠 , MIZUKAMI, MAKOTO , 時任静士 , TOKITO, SHIZUO , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： H01L51/05 , H01L29/786

2. 发明专利

TW201523865A 閘極絕緣膜、有機薄膜電晶體及有機薄膜電晶體之製造方法审中-公开
简体标题：闸极绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管之制造方法
公开(公告)号：TW201523865A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103128636
申请日：2014-08-20
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. , 國立大學法人山形大學 , YAMAGATA UNIVERSITY
发明人：奧慎也 , OKU, SHINYA , 水上誠 , MIZUKAMI, MAKOTO , 時任静士 , TOKITO, SHIZUO , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： H01L27/28 , H01L21/8232
摘要：本發明之課題係提供一種不因形成電極等時的加熱或藥液處理等導致膜質變化，在有機半導體層的形成時可維持高平坦性之閘極絕緣膜。又，使用如此閘極絕緣膜之有機薄膜電晶體及其製造方法。本發明之解決手段為使含有(A)~(C)之組成物硬化而成之閘極絕緣膜、將前述組成物塗佈於閘極電極上而使其硬化之有機薄膜電晶體、及其製造方法，(A)對使雙酚型環氧化合物與含乙烯性不飽和鍵之單羧酸反應所得的化合物而言，使a)二羧酸或三羧酸或其酸酐、及b)四羧酸或其酸二酐以a/b之莫耳比為0.1~10之範圍反應而得之化合物、(B)至少具有1個乙烯性不飽和鍵之聚合性單體、及(C)環氧化合物。
简体摘要：本发明之课题系提供一种不因形成电极等时的加热或药液处理等导致膜质变化，在有机半导体层的形成时可维持高平坦性之闸极绝缘膜。又，使用如此闸极绝缘膜之有机薄膜晶体管及其制造方法。本发明之解决手段为使含有(A)~(C)之组成物硬化而成之闸极绝缘膜、将前述组成物涂布于闸极电极上而使其硬化之有机薄膜晶体管、及其制造方法，(A)对使双酚型环氧化合物与含乙烯性不饱和键之单羧酸反应所得的化合物而言，使a)二羧酸或三羧酸或其酸酐、及b)四羧酸或其酸二酐以a/b之莫耳比为0.1~10之范围反应而得之化合物、(B)至少具有1个乙烯性不饱和键之聚合性单体、及(C)环氧化合物。

3. 发明专利

TW201528573A 閘極絕緣膜、有機薄膜電晶體及有機薄膜電晶體之製造方法审中-公开
简体标题：闸极绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管之制造方法
公开(公告)号：TW201528573A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103128090
申请日：2014-08-15
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. , 國立大學法人山形大學 , YAMAGATA UNIVERSITY
发明人：奧慎也 , OKU, SHINYA , 水上誠 , MIZUKAMI, MAKOTO , 時任静士 , TOKITO, SHIZUO , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： H01L51/05 , H01L29/786
摘要：本發明之課題係提供一種不因形成電極等時的加熱或藥液處理等導致膜質變化，在有機半導體層的形成時可維持高平坦性之閘極絕緣膜。又，可提供一種因使用如此的閘極絕緣膜，而得到載體移動度大並能表現出安定電晶體特性之有機薄膜電晶體及其製造方法。本發明之解決手段為由使含有以(A)使雙酚型環氧化合物與含乙烯性不飽和鍵之單羧酸反應而得之化合物及(B)光聚合起始劑或熱聚合起始劑作為必須成分之組成物硬化之硬化物而成的閘極絕緣膜，其係硬化物中所含(A)成分為40~90質量%、(B)成分為0.1~30質量%之閘極絕緣膜，又，本發明之解決手段為將前述組成物塗佈於閘極電極上而使其硬化之有機薄膜電晶體、及其製造方法。
简体摘要：本发明之课题系提供一种不因形成电极等时的加热或药液处理等导致膜质变化，在有机半导体层的形成时可维持高平坦性之闸极绝缘膜。又，可提供一种因使用如此的闸极绝缘膜，而得到载体移动度大并能表现出安定晶体管特性之有机薄膜晶体管及其制造方法。本发明之解决手段为由使含有以(A)使双酚型环氧化合物与含乙烯性不饱和键之单羧酸反应而得之化合物及(B)光聚合起始剂或热聚合起始剂作为必须成分之组成物硬化之硬化物而成的闸极绝缘膜，其系硬化物中所含(A)成分为40~90质量%、(B)成分为0.1~30质量%之闸极绝缘膜，又，本发明之解决手段为将前述组成物涂布于闸极电极上而使其硬化之有机薄膜晶体管、及其制造方法。

4. 发明专利

TW201418880A 觸控面板用遮光性組成物及觸控面板审中-公开
简体标题：触摸皮肤用遮光性组成物及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201418880A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102139444
申请日：2013-10-31
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 原口健太郎 , HARAGUCHI, KENTARO , 本間直人 , HONMA, NAOTO , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： G03F7/004 , G06F3/041
摘要：本發明提供一種作為觸控面板的遮光層而言適宜，耐化學品性、耐光性及絕緣性優異，且可藉由光微影法而形成影像的遮光性組成物及其硬化膜。一種觸控面板用遮光性組成物，其特徵在於含有：共聚物(A)，其是具有多個重複單元的共聚物，包含通式(1)所表示的重複單元20莫耳%~90莫耳%、及源自可與該通式(1)所表示的重複單元共聚的1種以上聚合性不飽和化合物的重複單元10莫耳%~80莫耳%，且數量平均分子量為2千~2萬、酸值為35 mgKOH/g~120 mgKOH/g；及進行了絕緣處理的碳黑(B)。一種硬化膜，其是使上述遮光性組成物硬化而成的硬化膜。
简体摘要：本发明提供一种作为触摸皮肤的遮光层而言适宜，耐化学品性、耐光性及绝缘性优异，且可借由光微影法而形成影像的遮光性组成物及其硬化膜。一种触摸皮肤用遮光性组成物，其特征在于含有：共聚物(A)，其是具有多个重复单元的共聚物，包含通式(1)所表示的重复单元20莫耳%~90莫耳%、及源自可与该通式(1)所表示的重复单元共聚的1种以上聚合性不饱和化合物的重复单元10莫耳%~80莫耳%，且数量平均分子量为2千~2万、酸值为35 mgKOH/g~120 mgKOH/g；及进行了绝缘处理的碳黑(B)。一种硬化膜，其是使上述遮光性组成物硬化而成的硬化膜。

5. 发明专利

TWI607281B 觸控面板用黑色感光性組成物及觸控面板有权
简体标题：触摸皮肤用黑色感光性组成物及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI607281B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW103100161
申请日：2014-01-03
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 原口健太郎 , HARAGUCHI, KENTARO , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： G03F7/004 , C08G59/24 , C08G59/42 , C08F290/14 , C08K5/15 , G03F7/028 , G03F7/032 , G02B5/20 , G06F3/041 , G09F9/00 , H01L21/027

6. 发明专利

TWI500724B 光硬化反應後與圖型形成後皆具有黏著性之感光性黏著劑組成物有权
简体标题：光硬化反应后与图型形成后皆具有黏着性之感光性黏着剂组成物
公开(公告)号：TWI500724B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW099143237
申请日：2010-12-10
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 滑川崇平 , NAMEKAWA, SHUHEI , 青山健 , AOYAMA, TAKESHI
IPC分类号： C09J163/10 , C09J167/00 , C09J4/00 , G03F7/028
CPC分类号： C09J4/00 , C08G59/42 , C08L2312/06 , C09J5/06 , C09J163/10 , C09J2203/326 , C09J2463/00 , G03F7/027 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

7. 发明专利

TW201435490A 觸控面板用黑色感光性組成物及觸控面板审中-公开
简体标题：触摸皮肤用黑色感光性组成物及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201435490A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103100161
申请日：2014-01-03
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 原口健太郎 , HARAGUCHI, KENTARO , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： G03F7/004 , C08G59/24 , C08G59/42 , C08F290/14 , C08K5/15 , G03F7/028 , G03F7/032 , G02B5/20 , G06F3/041 , G09F9/00 , H01L21/027
摘要：本發明之課題為提供耐藥品性與顯影特性優異之觸控面板用黑色感光性樹脂組成物，以及使用其之觸控面板。本發明之解決手段係一種觸控面板用黑色感光性樹脂組成物，以及使用其之觸控面板，該觸控面板用黑色感光性樹脂組成物係含有：(A)鹼可溶性樹脂，係相對於雙酚類所衍生之具有2個環氧丙基醚基之環氧化合物與含有不飽和基之單羧酸之反應物，使(a)二羧酸或三羧酸或是其酸酐、與(b)四羧酸或是其酸二酐以(a)/(b)之莫耳比為0.1至10而反應所得者；(B)至少具有1個乙烯性不飽和鍵結之光聚合性單體；(C)具有環氧基之化合物；(D)光聚合起始劑；及(E)遮光材。其中，相對於(A)100質量份，(B)為10至60質量份，(C)為10至80質量份，相對於(A)與(B)之合計量100質量份，(D)為2至40質量份，於固形分中(E)為40至60質量%。
简体摘要：本发明之课题为提供耐药品性与显影特性优异之触摸皮肤用黑色感光性树脂组成物，以及使用其之触摸皮肤。本发明之解决手段系一种触摸皮肤用黑色感光性树脂组成物，以及使用其之触摸皮肤，该触摸皮肤用黑色感光性树脂组成物系含有：(A)碱可溶性树脂，系相对于双酚类所衍生之具有2个环氧丙基醚基之环氧化合物与含有不饱和基之单羧酸之反应物，使(a)二羧酸或三羧酸或是其酸酐、与(b)四羧酸或是其酸二酐以(a)/(b)之莫耳比为0.1至10而反应所得者；(B)至少具有1个乙烯性不饱和键结之光聚合性单体；(C)具有环氧基之化合物；(D)光聚合起始剂；及(E)遮光材。其中，相对于(A)100质量份，(B)为10至60质量份，(C)为10至80质量份，相对于(A)与(B)之合计量100质量份，(D)为2至40质量份，于固形分中(E)为40至60质量%。

8. 发明专利

TWI652810B 閘極絕緣膜、有機薄膜電晶體及有機薄膜電晶體之製造方法有权
简体标题：闸极绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管之制造方法
公开(公告)号：TWI652810B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW103128636
申请日：2014-08-20
申请人：日商新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. , 國立大學法人山形大學 , YAMAGATA UNIVERSITY
发明人：奧慎也 , OKU, SHINYA , 水上誠 , MIZUKAMI, MAKOTO , 時任静士 , TOKITO, SHIZUO , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： H01L27/28 , H01L21/8232

9. 发明专利

TWI632192B 絕緣膜用感光性樹脂組成物及硬化物有权
简体标题：绝缘膜用感光性树脂组成物及硬化物
公开(公告)号：TWI632192B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103107164
申请日：2014-03-04
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 滑川崇平 , NAMEKAWA, SHUHEI , 本間直人 , HONMA, NAOTO , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： C08L67/00 , C08L63/00 , C08G63/668 , C08G63/91 , C08F290/14 , C08F2/50 , C08G59/42 , C08J5/18 , H01L21/312 , H05K3/28

10. 发明专利

TWI588603B 觸控面板用遮光性組成物及觸控面板有权
简体标题：触摸皮肤用遮光性组成物及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI588603B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW102139444
申请日：2013-10-31
申请人：新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：山田裕章 , YAMADA, HIROAKI , 高野正臣 , TAKANO, MASAOMI , 原口健太郎 , HARAGUCHI, KENTARO , 本間直人 , HONMA, NAOTO , 林秀平 , HAYASHI, SHUHEI
IPC分类号： G03F7/004 , G06F3/041

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