专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI423378B 靜電夾盤有权
简体标题：静电夹盘
公开(公告)号：TWI423378B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW096136152
申请日：2007-09-28
申请人：新光電氣工業股份有限公司 , SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：白岩則雄 , NORIO SHIRAIWA , 秦裕一 , YUICHI HATA , 渡部直人 , NAOTO WATANABE
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/6831

2. 发明专利

TWI443770B 靜電夾盤有权
简体标题：静电夹盘
公开(公告)号：TWI443770B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW097115258
申请日：2008-04-25
申请人：新光電氣工業股份有限公司 , SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：白岩則雄 , NORIO SHIRAIWA , 小林猛志 , TAKESHI KOBAYASHI , 秦裕一 , YUICHI HATA , 渡部直人 , NAOTO WATANABE
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00
CPC分类号： H01L21/6833 , B65G49/061 , B65G2249/02 , H02N13/00

3. 发明专利

TWI417164B 靜電夾盤及其製造方法有权
简体标题：静电夹盘及其制造方法
公开(公告)号：TWI417164B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW097116589
申请日：2008-05-06
申请人：新光電氣工業股份有限公司 , SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：白岩則雄 , NORIO SHIRAIWA , 小林猛志 , TAKESHI KOBAYASHI , 秦裕一 , YUICHI HATA , 渡部直人 , NAOTO WATANABE
IPC分类号： B23Q3/154 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/6833 , B32B37/10 , B32B37/12 , B32B2309/02 , B32B2457/202 , H01L21/68757 , H02N13/00

4. 发明申请

US20170069519A1 ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE 审中-公开
标题翻译：静电切割装置
公开(公告)号：US20170069519A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：US15248774
申请日：2016-08-26
申请人： SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.
发明人： NORIO SHIRAIWA
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68757 , H01L21/6831
摘要： An electrostatic chuck device includes a base plate, an electrostatic chuck plate coupled to an upper surface of the base plate and including a mount region on which an attraction subject is mounted, an electrostatic electrode embedded in the chuck plate, a focus ring that is located on the upper surface of the base plate and covers an outer side surface and a portion of an upper surface of the chuck plate. A groove is located in the upper surface of the chuck plate at a portion that corresponds to a region between the focus ring and the mount region in a plan view. The groove is filled with a protective layer. The groove is located at a position separated from the electrostatic electrode in a plan view. The protective layer is formed from a material having a higher plasma resistance than a material forming the chuck plate.
摘要翻译：一种静电吸盘装置，包括基板，耦合到基板的上表面的静电卡盘板，并且包括安装有吸引物体的安装区域，嵌入卡盘板中的静电电极，位于在基板的上表面上，并且覆盖卡盘板的外侧面和上表面的一部分。在平面图中，在卡盘板的上表面中的与聚焦环和安装区域之间的区域对应的部分设置有凹槽。凹槽填充有保护层。凹槽在平面图中位于与静电电极分离的位置。保护层由具有比形成卡板的材料的等离子体电阻高的材料形成。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式