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1. 发明专利

TWI682048B 用於物理氣相沉積介電質沉積的設備有权
简体标题：用于物理气相沉积介电质沉积的设备
公开(公告)号：TWI682048B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104141783
申请日：2015-12-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：米勒凱斯A , MILLER, KEITH A. , 尼古言善X , NGUYEN, THANH X. , 拉維斯基伊利亞 , LAVITSKY, ILYA , 薛米汀蘭迪 , SCHMIEDING, RANDY , 卡瑟寧貝森思 , KOTHNUR, PRASHANTH
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/54

2. 发明专利

TWI512884B 改良的邊緣環的周緣有权
简体标题：改良的边缘环的周缘
公开(公告)号：TWI512884B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW102129858
申请日：2013-08-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：拉尼許喬瑟夫M , RANISH, JOSEPH M. , 亞德霍德沃夫剛R , ADERHOLD, WOLFGANG R. , 柯莫布萊克 , KOELMEL, BLAKE , 拉維斯基伊利亞 , LAVITSKY, ILYA
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68714 , H01L21/2636 , H01L21/324 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/68735 , H05B3/0047

3. 发明专利

TW201627517A 用於物理氣相沉積介電質沉積的設備审中-公开
简体标题：用于物理气相沉积介电质沉积的设备
公开(公告)号：TW201627517A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104141783
申请日：2015-12-11
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：米勒凱斯A , MILLER, KEITH A. , 尼古言善X , NGUYEN, THANH X. , 拉維斯基伊利亞 , LAVITSKY, ILYA , 薛米汀蘭迪 , SCHMIEDING, RANDY , 卡瑟寧貝森思 , KOTHNUR, PRASHANTH
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/54
CPC分类号： H01J37/3452 , C23C14/345 , C23C14/3485 , C23C14/352 , H01J37/3408 , H01J37/3417 , H01J37/3467
摘要：於此提供一種用於介電質材料的物理氣相沉積之設備。在一些實施例中，物理氣相沉積腔室的腔室蓋包含：內部磁控管組件，耦接到內部靶材組件；及外部磁鐵組件，耦接到外部靶材組件，其中內部磁控管組件和內部靶材組件係與外部磁鐵組件和外部靶材組件電隔離。
简体摘要：于此提供一种用于介电质材料的物理气相沉积之设备。在一些实施例中，物理气相沉积腔室的腔室盖包含：内部磁控管组件，耦接到内部靶材组件；及外部磁铁组件，耦接到外部靶材组件，其中内部磁控管组件和内部靶材组件系与外部磁铁组件和外部靶材组件电隔离。

4. 发明专利

TW201413866A 改良的邊緣環的周緣审中-公开
简体标题：改良的边缘环的周缘
公开(公告)号：TW201413866A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102129858
申请日：2013-08-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：拉尼許喬瑟夫M , RANISH, JOSEPH M. , 亞德霍德沃夫剛R , ADERHOLD, WOLFGANG R. , 柯莫布萊克 , KOELMEL, BLAKE , 拉維斯基伊利亞 , LAVITSKY, ILYA
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68714 , H01L21/2636 , H01L21/324 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/68735 , H05B3/0047
摘要：本發明之實施例一般是關於一種支撐環，用以支撐在一處理腔室中的一基板。在一實施例中，該支撐環包括：一內部環；一外部環，該外部環透過一平坦部而連接至該內部環的一外部周邊；一邊緣周緣，該邊緣周緣從該內部環的一內部周邊向內徑向延伸，以形成一支撐突部來支撐該基板；以及一基板支撐，該基板支撐形成於該邊緣周緣的一頂表面上。該基板支撐可包括多個從該邊緣周緣的一頂表面向上且垂直地延伸的突出部，或者多個U形夾具，該等U形夾具可固定至該邊緣周緣的一邊緣部。該基板支撐將該基板與該邊緣周緣熱分離，以防止通過該邊緣周緣的熱損失，因而產生橫越該基板的一改良的溫度分佈，該改良的溫度分佈具有一最小的邊緣溫度升降率。
简体摘要：本发明之实施例一般是关于一种支撑环，用以支撑在一处理腔室中的一基板。在一实施例中，该支撑环包括：一内部环；一外部环，该外部环透过一平坦部而连接至该内部环的一外部周边；一边缘周缘，该边缘周缘从该内部环的一内部周边向内径向延伸，以形成一支撑突部来支撑该基板；以及一基板支撑，该基板支撑形成于该边缘周缘的一顶表面上。该基板支撑可包括多个从该边缘周缘的一顶表面向上且垂直地延伸的突出部，或者多个U形夹具，该等U形夹具可固定至该边缘周缘的一边缘部。该基板支撑将该基板与该边缘周缘热分离，以防止通过该边缘周缘的热损失，因而产生横越该基板的一改良的温度分布，该改良的温度分布具有一最小的边缘温度升降率。

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