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    • 4. 发明专利
    • 具有多個獨立邊緣區域的多區域加熱之靜電吸座
    • 具有多个独立边缘区域的多区域加热之静电吸座
    • TW201448109A
    • 2014-12-16
    • TW103109120
    • 2014-03-13
    • 應用材料股份有限公司APPLIED MATERIALS, INC.
    • 坦汀汪凱爾TANTIWONG, KYLE肯納席克弗拉德米爾KNYAZIK, VLADIMIR巴那沙莫BANNA, SAMER
    • H01L21/683
    • H01L21/6833H01J37/3244H01L21/67109H01L21/67248H01L21/6831Y10T279/23
    • 一種具有一冷卻基座的靜電吸座(ESC,electrostatic chuck),用於電漿處理腔室,例如電漿蝕刻腔室。在實施例中,一電漿處理吸座包括複數個獨立的邊緣區域。在實施例中,該等邊緣區域為橫跨該吸座的不同方位角的部分,以允許獨立的邊緣溫度調整,此調整可用於補償其他腔室相關的不均勻或後來的晶圓不均勻。在實施例中,該吸座包括一中心區域與複數個邊緣區域,該中心區域具有一第一熱轉移流體供應與控制迴路,且該複數個邊緣區域一起覆蓋該吸座區域的其餘部分,且該複數個邊緣區域的每一者具有個別的熱轉移流體供應與控制迴路。在實施例中,該基座包括一擴散體,該擴散體可具有數百個小孔在該吸座區域之上,以提供熱轉移流體供應的一均勻分布。
    • 一种具有一冷却基座的静电吸座(ESC,electrostatic chuck),用于等离子处理腔室,例如等离子蚀刻腔室。在实施例中,一等离子处理吸座包括复数个独立的边缘区域。在实施例中,该等边缘区域为横跨该吸座的不同方位角的部分,以允许独立的边缘温度调整,此调整可用于补偿其他腔室相关的不均匀或后来的晶圆不均匀。在实施例中,该吸座包括一中心区域与复数个边缘区域,该中心区域具有一第一热转移流体供应与控制回路,且该复数个边缘区域一起覆盖该吸座区域的其余部分,且该复数个边缘区域的每一者具有个别的热转移流体供应与控制回路。在实施例中,该基座包括一扩散体,该扩散体可具有数百个小孔在该吸座区域之上,以提供热转移流体供应的一均匀分布。